一种基坑支护结构的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种基坑支护结构，包括：旋喷桩和内插于所述旋喷桩中的双排桩结构；其中，所述旋喷桩为形成在基坑周边土体上的高强水泥土桩体，多根所述旋喷桩相互搭接形成加固区；所述双排桩结构包括第一排灌注桩、第二排灌注桩和连接第一排灌注桩和第二排灌注桩顶部的连梁，均为钢筋混凝土结构。本发明提出的是解决富水软土复杂地质条件下和复杂障碍物穿越基坑上方情况下的一种深基坑围护方案；当有电缆等障碍物穿越基坑上方时，灌注桩之间可以灵活调整间距，避开障碍物；大直径高压旋喷桩相互搭接有效止水，且与双排灌注桩一起控制坑外土体的水平位移，同时，在大直径旋喷桩中施作灌注桩组成的支护结构，节约基坑外施工场地。
【专利说明】 一种基坑支护结构
【技术领域】
[0001]本发明涉及建筑工程【技术领域】，尤其涉及一种地下工程的基坑支护结构。
【背景技术】
[0002]随着城市化的不断发展，地下空间的利用越来越被人们重视，基坑工程得到了较大的发展。我国经济发达地区多分布范围较广的软土地层，许多深基坑工程在城市富水、软土环境中进行。由于城市地下管线众多，基坑上方往往存在重要电缆、管线等障碍物穿越而无法动迁，隔断了围护结构的连续性，无法采用常见的地下连续墙施工技术。排桩支护结构可以根据障碍物的位置灵活调整桩间距，从而避开障碍物，但同时会引起桩间距过大以及由于周边地层过于软弱等产生的基坑失稳风险。采用大直径、高强度的旋喷桩加固基坑周边软土，同时，在旋喷桩中施作双排灌注桩、并结合基坑内支撑组成的支护结构，可以较好地起到止水和挡土作用，且能避开障碍物，又节约基坑外施工场地。
【发明内容】
[0003]本发明要解决的技术问题是提供一种基坑支护结构，以便在复杂软弱地质条件下和复杂障碍物穿越基坑情况下，提供支护效果较好的支护结构。
[0004]为解决上述技术问题，本发明的技术方案为:一种基坑支护结构，包括:旋喷桩和内插于所述旋喷桩中的双排桩结构；其中，所述旋喷桩为形成在基坑周边土体上的高强水泥土桩体，多根所述旋喷桩相互搭接形成加固区；所述双排桩结构包括第一排灌注桩、第二排灌注桩和连接第一排灌注桩和第二排灌注桩顶部的连梁，均为钢筋混凝土结构。
[0005]本发明的优点在于:本发明是解决复杂软弱地质条件下和复杂障碍物穿越基坑情况下的一种围护方案，适用于地层及应用范围:富水、软土地质环境，基坑上方存在重要电缆、管线等障碍物穿越而无法动迁，基坑外有5m左右的施工空间。大直径高压旋喷桩相互搭接有效止水，且与灌注桩一起控制坑外土体的水平位移；双排灌注桩顶端通过连梁连接固定形成双排桩结构，双排桩结构具有更大的侧向刚度，可以明显减小基坑的侧向变形；当有电缆等障碍物穿过基坑时，排桩可以灵活调整间距，避开障碍物；同时，在大直径旋喷桩中施作灌注桩组成的支护结构，节约坑外施工场地。
【专利附图】
【附图说明】
[0006]图1为本发明中基坑支护结构的立面结构示意图；
[0007]图2为本发明中基坑支护结构的横截面示意图。
【具体实施方式】
[0008]为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照附图，对本发明作进一步的详细说明。
[0009]图1示出了本发明提出的一种基坑支护结构的立面结构示意图。如图1所示，该支护结构包括:基坑I周边土体7上形成的旋喷桩和内插于所述旋喷桩内的双排灌注桩。多根所述旋喷桩相互搭接形成加固区4、5，所述加固区是通过在基坑I周边土层中用旋喷搅拌法将水泥浆和土层充分混合形成的高强水泥土桩体，其用于加固基坑周边的土体和形成止水帷幕，并与双排灌注桩一起控制坑外土体的水平位移。所述双排灌注桩由第一排灌注桩2和第二排灌注桩3构成，它们径向分布在基坑周边的加固区4、5中，即第一排灌注桩2和第二排灌注桩3在形成加固区4和5的旋喷桩内施工制作，其由钢筋混凝土制成。
[0010] 所述第一排灌注桩2和第二排灌注桩3的顶端通过连梁6连接固定形成双排桩结构，连梁6为钢筋混凝土结构。所述双排桩结构分布在基坑I周边的加固区内部，以形成所述基坑的支护结构。所述双排桩结构在遇到复杂障碍物穿越基坑上方时，可以灵活调整桩间距布置，避开障碍物。
[0011 ] 所述双排桩结构中第一排灌注桩2靠近基坑I，第二排灌注桩3远离基坑I，基坑I内部具有基坑支撑11，用于支撑相对的第一排灌注桩2 ;所述基坑支撑11和第一排灌注桩2之间通过围檩8连接，基坑支撑11和围檩8均为钢筋混凝土结构。所述基坑支撑11的层数根据基坑I的深度相应设置。
[0012]其中，旋喷桩的根数和位置并无特殊限制，只要能够起到加固基坑周边土体的作用即可。另外，双排桩的排距、间距、位置均无特殊要求，所述双排灌注桩位于障碍物之间，其位置和间距等均可以根据障碍物的位置而调整。
[0013]图2示出了本发明中基坑支护结构的横截面示意图。如图2所示，所述基坑支护结构包括:第一排灌注桩2、第二排灌注桩3、大直径高压旋喷桩相互搭接形成的加固区4和
5、连梁6、用于连接基坑支撑11和第一排灌注桩2的围檩8和基坑支撑11。所述双排灌注桩设置在障碍物之间的旋喷桩内。所述本发明的支护结构与其他类型的支护结构10连接共同作为基坑I的支护。所述其他类型的支护结构10可以是断开的地下连续墙，其由于障碍物9的存在而被断开，在断开位置采用本发明的支护结构。
[0014]本发明提出的基坑支护结构尤其适用于基坑中有障碍物穿越的范围内建立，且适于采用盖挖法施工，盖挖顶板起到保护、支撑障碍物的作用。图2未标明盖挖顶板。
[0015]本发明所提出的是用于解决富水软土复杂地质条件下和复杂障碍物穿越基坑上方情况下的一种深基坑围护方案；当有电缆等障碍物穿越基坑上方时，灌注桩之间可以灵活调整间距，避开障碍物；大直径高压旋喷桩相互搭接有效止水，且与双排灌注桩一起控制坑外土体的水平位移，同时，在大直径旋喷桩中施作灌注桩组成的支护结构，可以节约基坑外施工场地。
[0016]以上所述的具体实施例，对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，应理解的是，以上所述仅为本发明的具体实施例而已，并不用于限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
【权利要求】
1.一种基坑支护结构，其特征在于，包括:旋喷桩和内插于所述旋喷桩中的双排桩结构；其中，所述旋喷桩为形成在基坑周边土体上的高强水泥土桩体，多根所述旋喷桩相互搭接形成加固区；所述双排桩结构包括第一排灌注桩、第二排灌注桩和连接第一排灌注桩和第二排灌注桩顶部的连梁，均为钢筋混凝土结构。
2.如权利要求1所述的基坑支护结构，其特征在于，所述第一排灌注桩和第二排灌注桩径向分布在基坑周边，所述第一排灌注桩靠近基坑，所述第二排灌注桩远离基坑。
3.如权利要求1所述的基坑支护结构，其特征在于，所述双排桩结构中第一排灌注桩和第二排灌注桩的排距可调。
4.如权利要求1-3任一项所述的基坑支护结构，其特征在于，所述第一排灌注桩和第二排灌注桩中灌注桩间的间距可调。
5.如权利要求1所述的基坑支护结构，其特征在于，还包括基坑支撑，其支撑在基坑内部相对的第一排灌注桩之间，所述第一排灌注桩靠近基坑。
6.如权利要求5所述的基坑支护结构，其特征在于，还包括围檩，其用于连接第一排灌注桩和所述基坑支撑。
7.如权利要求5或6所述的基坑支护结构，其特征在于，所述基坑支撑包括多层，其层数根据基坑深度而不同。
8.如权利要求1所述的基坑支护结构，其特征在于，所述基坑支护结构适于有障碍物穿越的范围内，所述双排桩位于障碍物之间。
9.如权利要求8所述的基坑支护结构，其特征在于，所述基坑支护结构位于其他类型的支护结构所断开的位置处。
10.如权利要求9所述的基坑支护结构，其特征在于，所述其它类型的支护结构包括地下连续墙。
【文档编号】E02D17/04GK103806449SQ201410053900
【公开日】2014年5月21日 申请日期:2014年2月17日 优先权日:2014年2月17日
【发明者】黄 俊, 龚成林, 刘洪洲, 赵光, 王善高, 张忠宇, 徐国平, 刘明虎, 刘昌鹏, 肖军华, 戴慧兰, 杜岳, 黄浩, 虞辰杰 申请人:中交公路规划设计院有限公司