专利名称：调节吸气剂材料的方法
调节吸气剂材料的方法 交叉引用
所提供的是调节吸气剂材料的方法，所述方法包括使吸气 剂材料受到微波辐射。还提供采用所调节的吸气剂材料的电子装置 和这类电子装置的制造方法。
在某些实施方案中，该方法还包括使吸气剂材料在衬底上 成层。例如，吸气剂材料可被沉积为薄膜。在一个实施方案中，吸 气剂材料的厚度小于或等于10(Him。在另一个实施方案中，厚度小 于或等于lpm。在一个实施方案中，电子装置包括衬底、阳极层、 阴极层和活性层。00191其它方法包括装配电子装置，包括提供包含吸气剂材料层 的衬底；提供阳极层、阴极层和活性层；和使衬底和吸气剂材料暴 露于孩"皮辐射。在一个实施方案中，加热步骤发生于300°C或更低 的温度。在一个实施方案中，衬底和吸气剂材料暴露于^:波辐射5 分钟或更少。在另一个实施方案中，使衬底和吸气剂材料暴露于微 波辐射3分钟或更少。示例性电子装置包括衬底、活性层和吸气剂材料；其中吸 气剂材料已用微波辐射暴露于300。C或更低的温度。在一个实例中， 吸气剂材料被沉积于衬底上。在一个实施方案中，吸气剂材料包含 占吸气剂材料重量的0.1%或更少的水。还合乎需要的是将吸气剂材 料封装在电子装置内之前对其进行冷却。吸气剂材料
适用作用于制备紧固于表面的吸气剂材料层的水分散体中 的无机粘合剂的粘土的非限制性实例包括绿坡缕石、高岭土、海泡 石、坡缕石、高岭石、塑性球土(plastic ball clays)、绿坡缕石或高岭 土类粘土、膨润土、蒙脱土、伊利石、绿泥石、膨润土类粘土、也 吸收湿气的那些和它们的混合物。目前优选硅铝酸4美粘土。画4,4'-二胺(TPD)、 l,l-二[(二 -4-甲苯基氨基)苯基]环己烷(TAPC)、 N,N'-二(1曱基苯基)-N,N'-二(4-乙基苯基HU'-(3,3'-二曱基)联苯基]-4,4'-二胺(ETPD)、四(3-曱基苯 基)-N,N,N',N'-2,5-苯二胺(PDA)、 a-苯基-4-N,N-二苯基氨基苯乙烯 (TPS)、对(二乙基氨基)苯曱醛二苯基腙(DEH)、三苯胺(TPA)、 二[4-(N，N-二乙基氨基)-2-甲基苯基](4-曱基苯基)曱烷(MPMP)、 1-苯基-3-[对-(二乙基氨基)苯乙烯基]-5-[对-(二乙基氨基)苯基]吡唑啉(PPR或 DEASP)、 1,2反式-二(9H-呼唑-9-基)环丁烷(DCZB)、 N,N,N',N'-四(4画 曱基苯基)-(l,l'-联苯基)-4,4'-二胺(TTB)和卟啉类(porphyrinic)化合 物，例如铜酞菁。有用的空穴传输聚合物包括但不限于聚乙烯基啼
唑、(苯基曱基)聚硅烷和聚苯胺。导电聚合物用作一类。通过将空穴传專lr部分(例如上述那些)掺杂到聚合物例如聚苯乙烯和聚碳酸酯中，也可能得到空穴传输聚合物。
操作中，来自适当电源(未描述)的电压被施加到装置100。因此，电流穿过装置100的层。电子进入有机聚合物层，释放光子。 在一些被称为主动式矩阵OLED显示器的OLED中，光敏有机膜的 各个沉积可被电流的通过独立激发，导致光发射的各个像素。在一 些被称为无源矩阵OLED显示器的OLED中，光敏有机膜的沉积可 被电接触层的行和列激发。
将工业级孩"皮炉置于氮气控制环境中(例如手套箱)。00641将罩置于工业级;徵波炉中。位于罩上的沸石随后通过暴露 于特定功率的微波辐射特定时间而进行调节。预期沸石温度会为 300。C或更低，衬底温度会比沸石低。
00651在不同功率和时间条件下，测试具有相同和不同厚度和类 型的沸石的几种罩。
0066在已经在不同功率和持续时间下暴露于微波辐射并任选被 冷却后，罩上的经调节的沸石沉积物会被封装到电子装置中，例如 采用有机发光装置的装置，其中装置各自包含显示衬底和罩。然后 将装置置于85°C和85%相对湿度或60°C和90%相对湿度条件下的 加速贮存环境中。通过像素大小的减少测出的装置的故障时间是各 装置的量度。
0067在前述说明中，已经参考具体实施方案描述概念。然而， 本领域的普通4支术人员理解可进行各种修改和变化而不偏离如下4又 利要求所限定的本发明的范围。因此，说明书和附图
被认为是说明 性的而不是限制性的，所有这类修改打算包括在本发明范围内。[00681许多方面和实施方案已经在上面描述且只是示例并非限制。阅读本说明书后，熟练的技术人员会意识到其它方面和实施方案是可能的而不偏离本发明范围。
100691益处、其它优点和问题解决方法已参考具体实施方案进行描述。然而，益处、优点、问题解决方法和可使任何益处、优点或 解决方法产生或变得更显著的任何特征不应被解释为任何或所有权 利要求的关键的、必需的或基本的特征。
0070应该理解，为清楚起见在分立的实施方案的上下文中描述 的某些特征也可以在单一实施方案中组合提供。相反，为简明起见 在单一实施方案的上下文中所述的不同特征也可分开或以任何子组 合方式提供。此外，各范围内所述的参考值包括此范围内的各个和 每个值。
权利要求
1.一种调节吸气剂材料的方法，所述方法包括用微波辐射加热吸气剂材料。
2. 权利要求1的方法，其中吸气剂材料暴露于300°C或更低的溫度。
3. 权利要求l的方法，其中吸气剂材料包括分子筛。
4. 权利要求3的方法，其中分子筛包括沸石。
5. 权利要求1的方法，其中吸气剂材料暴露于微波辐射5分钟 或更少。
6. 权利要求5的方法，其中吸气剂材料暴露于微波辐射3分钟 或更少。
7. —种制造电子装置的方法，所述方法包括用孩"皮辐射加热吸气剂材料；和将吸气剂材料封装到电子装置内。
8. 权利要求7的方法，其中加热步骤期间的温度为300°C或更低。
9. 权利要求7的方法，所述方法还包括在封装吸气剂材料之前 冷却吸气剂材料。
10. 权利要求7的方法，其中吸气剂材料包括分子筛。
11. 权利要求10的方法，其中分子筛包括沸石。
12. 权利要求7的方法，其中吸气剂材料暴露于艰t波辐射5分钟 或更少。
13. 权利要求12的方法，其中吸气剂材料暴露于^l波辐射3分 钟或更少。
14. 权利要求7的方法，所述方法还包括使吸气剂材料在衬底上 成层。
15. 权利要求14的方法，其中吸气剂材料的厚度小于或等于 100拜。
16. 权利要求15的方法，其中厚度小于或等于lpm。
17. ^又利要求7的方法，其中电子装置包括衬底、阳极层、阴极 层和活性层。
18. —种装配电子装置的方法，所述方法包括提供包含吸气剂材 料层的衬底；提供阳极层、阴极层和活性层；和使衬底和吸气剂材 料暴露于孩t波辐射。
19. 权利要求18的方法，其中衬底和吸气剂材料暴露于^:波辐 射5分钟或更少。
20. 权利要求17的方法，其中衬底和吸气剂材料暴露于微波辐 射3分钟或更少。
21. 权利要求18的方法，所述方法还包括使吸气剂材料在衬底上成层o
22. 权利要求18的方法，其中吸气剂材料的厚度小于或等于 100拜。
23. 权利要求22的方法，其中厚度小于或等于lMm。
24. 权利要求18的方法，所述方法还包括使吸气剂材料暴露于 300。C或更低的温度。
25. —种电子装置，所述电子装置包括衬底、活性层和吸气剂材 料；其中吸气剂材料已通过微波辐射暴露于300°C或更低的温度。
26. 权利要求25的电子装置，其中吸气剂材料包括分子筛。
27. 权利要求26的电子装置，其中吸气剂材料包括沸石。
28. 权利要求25的电子装置，其中吸气剂材料沉积于衬底上。
29. 权利要求25的电子装置，其中吸气剂材料含有占吸气剂材 料重量的0.1%或更少的水。
全文摘要
本发明提供调节吸气剂材料的方法，所述方法包括使吸气剂材料受到微波辐射。本发明还提供采用经调节的吸气剂材料的电子装置和这类电子装置的制造方法。
文档编号F04B37/02GK101128906SQ200580048622
公开日2008年2月20日 申请日期2005年12月16日 优先权日2004年12月30日
发明者J·D·特雷梅尔 申请人:纳幕尔杜邦公司