一种电子束蒸发镀膜设备的真空泵减震支撑装置的制作方法

1.本实用新型属于电子束蒸发镀膜设备技术领域，具体为涉及一种电子束蒸发镀膜设备的真空泵减震支撑装置。


背景技术：

2.电子束蒸发镀膜(electron beam evaporation)是物理气相沉积的一种，是利用电磁场的配合加速电子轰击坩埚内的镀膜材料，将电子的动能转换成热能使镀膜材料加热蒸发并在基材上沉积形成膜。电子束蒸发镀膜设备，在半导体、微电子、声表器件、航空航天、激光器、太阳能、机械、生物医药等领域有着广泛应用，随着科学技术的发展和工业上的广泛应用，对电子束蒸发镀膜设备而言，要求其在连续生产并提高生产效率方面，逐步有了更高的要求。
3.本申请人针对现有电子束蒸发镀膜设备存在的问题，开发了独立双腔室电子束蒸发镀膜设备，具有独立开启关闭的上腔室和下腔室，并且上腔室真空系统采用冷凝泵，下腔室真空系统采用分子泵，以适应带有残留的颗粒的某些蒸发镀膜工艺。但现有电子束蒸发镀膜设备，在实际生产运行中，因连续生产需求的批量越来越大，单一设备设计逐渐突破局限，体积设计也越来越大。因装载的工件批量增大，腔室的体积也逐步增大，故设备使用的部件也越来越大，设备运转时，运行震动的冲击力影响与之配合使用的其他部件的运行，报警和停止运行。比如随着设备增大，使用的高真空隔离阀的型号也越来越大，打开或关闭高真空隔离阀，高真空隔离阀的插板运行震动，导致抽真空系统的分子泵运行不平稳，报警停止运行。严重影响了生产效率和稳定性。


技术实现要素：

4.为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种电子束蒸发镀膜设备的真空泵减震支撑装置。
5.本实用新型完整的技术方案包括：
6.一种电子束蒸发镀膜设备的真空泵减震支撑装置，所述减震支撑装置包括与真空泵接触的接触减震机构和支撑机构，所述接触减震机构包括固定缓冲撑，所述固定缓冲撑具有和真空泵接触的接触面，所述接触面为圆弧形且其半径与真空泵的接触部分的半径相同，所述接触面上设有减震材料，所述接触减震机构下方连接支撑机构，所述支撑机构包括缓冲固定底座和固定缓冲柱，所述缓冲固定底座安装于设备腔室的底平面上，所述固定缓冲柱与缓冲固定底座固定连接，固定缓冲柱上方与接触减震机构固定连接；
7.所述真空泵应用于电子束蒸发镀膜设备，所述电子束蒸发镀膜设备具有独立的工件装载腔室和物料蒸发腔室。
8.所述真空泵为分子泵，所述分子泵位于物料蒸发腔室。
9.所述减震材料为防震缓冲棉。
10.所述接触减震机构与固定缓冲柱通过螺纹连接。
11.所述接触减震机构下方为外螺纹，所述上方为内螺纹，接触减震机构与固定缓冲柱之间还使用螺母固定。
12.所述缓冲固定底座为圆盘形。
13.所述固定缓冲柱为长方体。
14.所述固定缓冲柱与缓冲固定底座之间设有加强筋。
15.所述缓冲固定底座上设有安装孔，使用螺钉固定安装在物料蒸发腔室的底平面上。
16.在设备运行时，真空泵减震支撑装置通过支撑机构和减震材料缓冲震动的冲击力，以保证分子泵平稳的运行。
17.本实用新型相对于现有技术的优点在于，
18.针对双腔式电子束蒸发镀膜设备的抽真空系统的物料蒸发腔室分子泵，被高真空隔离阀开启和关闭导致运行报警或停止的问题，设计了真空泵减震支撑装置，并设于物料蒸发腔室的分子泵下方并与其接触，在工艺运行中，高真空隔离阀打开或关闭时，使分子泵可平稳运行，保证了工艺的正常运行，减少了设备因震动产生的异常处理，本装置结构简单，占用空间小，适合产业应用，降低生产成本，提高了生产效率。
附图说明
19.图1为本实用新型电子束蒸发镀膜设备真空泵支撑机构示意图。
20.图中：1-防震缓冲棉，2-固定缓冲撑，3-固定螺母，4-固定缓冲柱，5-缓冲固定底座，6-加强筋。
具体实施方式
21.下面将结合本申请实施方式中的附图，对本申请的实施方式中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施方式仅仅是作为例示，并非用于限制本申请。
22.一种电子束蒸发镀膜设备的真空泵减震支撑装置，包括缓冲固定底座5，所述缓冲固定底座5为圆盘状，且缓冲固定底座5上设有安装孔，使用螺钉固定安装在设备下腔室的底平面上。
23.其上设有固定缓冲柱4，固定缓冲柱4为长方体设计，缓冲固定底座5和缓冲固定底座5的连接部设有三角状固定支撑加强筋6，保证支撑的强度。缓冲固定底座5上端是内螺纹，通过固定螺母3与固定缓冲撑2固定连接，固定缓冲撑2与分子泵接触部分的接触面是圆弧型设计并贴有防震缓冲棉1，圆弧的半径与支撑分子泵部位的半径一致。在高真空隔离阀打开或关闭时，支撑缓冲架以固定支撑和泡棉缓冲震动的冲击力，以保证分子泵平稳的运行。
24.所述的电子束蒸发镀膜设备具有独立的工件装载腔室和物料蒸发腔室，可以在某一批次的膜沉积工艺完成到后，关闭隔离阀，工件装载腔室装载下批次的工件后即可开始膜沉积，此时蒸发物料保持在真空状态中，保证了初始纯度，更好的保证膜沉积的膜层质量。工艺未完成的情况，蒸发物料使用完，可关闭隔离阀，工件装载腔室保持在可进行膜沉积的真空工艺条件下，在物料蒸发腔室中添加蒸发物料后继续膜沉积工艺，减少过程工件的报废率和抽真空的时间。
25.且工件装载腔室和物料蒸发腔室均设有独立的真空机构，在隔板关闭后能够分别对工件装载腔室和物料蒸发腔室进行抽真空，能够有效缩短抽真空的时间，提高设备的生产效率。并且物料蒸发腔室的真空机构采用分子泵而非传统的冷凝泵，在执行具有残留微粒的工艺时，可以关闭隔板，用分子泵将腔室工艺残留微粒排出腔室，以此减少真空系统维护的频次，降低成本。
26.以上申请的仅为本申请的一些实施方式。对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请创造构思的前提下，还可以做出若干变型和改进，这些都属于本申请的保护范围。


技术特征：
1.一种电子束蒸发镀膜设备的真空泵减震支撑装置，其特征在于，所述减震支撑装置包括与真空泵接触的接触减震机构和支撑机构，所述接触减震机构包括固定缓冲撑，所述固定缓冲撑具有和真空泵接触的接触面，所述接触面为圆弧形且其半径与真空泵的接触部分的半径相同，所述接触面上设有减震材料，所述接触减震机构下方连接支撑机构，所述支撑机构包括缓冲固定底座和固定缓冲柱，所述缓冲固定底座安装于设备腔室的底平面上，所述固定缓冲柱与缓冲固定底座固定连接，固定缓冲柱上方与接触减震机构固定连接；所述真空泵应用于电子束蒸发镀膜设备，所述电子束蒸发镀膜设备具有独立的工件装载腔室和物料蒸发腔室。2.根据权利要求1所述的一种电子束蒸发镀膜设备的真空泵减震支撑装置，其特征在于，所述真空泵为分子泵，所述分子泵位于物料蒸发腔室。3.根据权利要求1所述的一种电子束蒸发镀膜设备的真空泵减震支撑装置，其特征在于，所述减震材料为防震缓冲棉。4.根据权利要求1所述的一种电子束蒸发镀膜设备的真空泵减震支撑装置，其特征在于，所述接触减震机构与固定缓冲柱通过螺纹连接。5.根据权利要求4所述的一种电子束蒸发镀膜设备的真空泵减震支撑装置，其特征在于，所述接触减震机构下方为外螺纹，所述上方为内螺纹，接触减震机构与固定缓冲柱之间还使用螺母固定。6.根据权利要求1所述的一种电子束蒸发镀膜设备的真空泵减震支撑装置，其特征在于，所述缓冲固定底座为圆盘形。7.根据权利要求1所述的一种电子束蒸发镀膜设备的真空泵减震支撑装置，其特征在于，所述固定缓冲柱为长方体。8.根据权利要求7所述的一种电子束蒸发镀膜设备的真空泵减震支撑装置，其特征在于，所述固定缓冲柱与缓冲固定底座之间设有加强筋。9.根据权利要求6所述的一种电子束蒸发镀膜设备的真空泵减震支撑装置，其特征在于，所述缓冲固定底座上设有安装孔，使用螺钉固定安装在物料蒸发腔室的底平面上。10.根据权利要求2所述的一种电子束蒸发镀膜设备的真空泵减震支撑装置，其特征在于，在设备运行时，真空泵减震支撑装置通过支撑机构和减震材料缓冲震动的冲击力，以保证分子泵平稳的运行。

技术总结
本实用新型公开了一种电子束蒸发镀膜设备的真空泵减震支撑装置，所述减震支撑装置包括与真空泵接触的接触减震机构和支撑机构，所述接触减震机构包括固定缓冲撑，所述固定缓冲撑具有和真空泵接触的接触面，所述接触面为圆弧形且其半径与真空泵的接触部分的半径相同，所述接触面上设有减震材料，所述接触减震机构下方连接支撑机构，所述支撑机构包括缓冲固定底座和固定缓冲柱，所述缓冲固定底座安装于设备腔室的底平面上，所述固定缓冲柱与缓冲固定底座固定连接，固定缓冲柱上方与接触减震机构固定连接，本装置可保证电子束蒸发镀膜设备的分子泵平稳运行，保证了工艺的正常运行，减少了设备因震动产生的异常处理。了设备因震动产生的异常处理。了设备因震动产生的异常处理。


技术研发人员：杜鸿基 陈亮
受保护的技术使用者：北京维开科技有限公司
技术研发日：2022.06.20
技术公布日：2022/11/8