专利名称：一种高压密封结构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种密封结构，尤其涉及一种适用于高压工作环境的高压密封结 构。
背景技术：
高压场合通常采用密封填料密封，利用受挤压的密封材料作为密封体。但由于密 封材料老化、密封结构疲劳及受密封结构材料的膨胀系数不同等因素的影响，密封结构通 常会出现肉眼观察不到或不明显的微小泄漏。例如，在精密仪器或仪表使用过程中，由于微 泄漏会对产品的测控部分造成影响，因此，会直接影响仪器的测量精度，进而造成重大的工 作失误。
实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种高压密封结构，以克服现有技术中出现的微泄漏 现象造成的不利影响。本实用新型所述的高压密封结构，包括用于对被密封压力介质进行密封的第一级 密封单元，在所述第一级密封单元的微泄漏路径设置第二级密封单元以密封微泄漏介质。本实用新型所述的高压密封结构中，所述第一级密封单元包括第一级密封件、以 及用于挤压该第一级密封件以实现密封的第一压紧螺母。本实用新型所述的高压密封结构中，所述第一压紧螺母设置有第一孔道，所述微 泄漏路径通过该第一孔道与外界连通。本实用新型所述的高压密封结构中，所述第一级密封件为石墨或聚四氟乙烯材料 制成。本实用新型所述的高压密封结构中，所述第二级密封单元包括第二级密封件、以 及用于挤压该第二级密封件以实现密封的第二压紧螺母。本实用新型所述的高压密封结构中，所述第二级密封件为石墨或聚四氟乙烯材料 制成。本实用新型所述的高压密封结构中，通过采用两级密封结构，使得透过第一级密 封单元的微泄漏介质不会通过起隔离作用的第二级密封单元，从而达到总体密封无微泄漏 的密封效果。
图1为本实用新型所述高压密封结构的结构剖视图。
具体实施方式
以下配合说明书附图对本实用新型的实施方式做更详细的说明，以使本领域技术 人员在研读本说明书后能据以实施。[0013]本实用新型所述的高压密封结构，包括用于对被密封压力介质进行密封的第一级 密封单元，在所述第一级密封单元的微泄漏路径设置第二级密封单元以密封微泄漏介质。通过采用两级密封结构，使得透过第一级密封单元的微泄漏介质不会通过起隔离 作用的第二级密封单元，从而达到总体密封无微泄漏的密封效果。如图1所示，以利用本实用新型所述高压密封结构对产品测控部分进行密封为例 进行说明。图1中，被密封件7是用于测量的感应部分，其内部可放置传感器元件。被密封介 质8存在于被密封件7与产品容器外壳6的内壁之间，第一级密封单元设置于被密封件7 与产品容器外壳6相接处，以密封在高压环境下该相接处可能流入产品测控部分及连接件 1的被密封介质8。该第一级密封单元可具体包括第一级密封件5，以及用于挤压该第一级 密封件5以实现对被密封介质8进行密封的第一压紧螺母4。所述第一级密封件5可为石 墨或聚四氟乙烯材料制成。所述第一压紧螺母4设置有第一孔道11，所述微泄漏路径可通 过该第一孔道11与外界连通。该设置的第一密封单元属现有技术，存在微泄漏的可能，所述微泄漏介质会透过 第一密封单元所产生的微泄漏途径而运行至产品测控部分及连接件1。因此，本实用新型还 在所述第一级密封单元的微泄漏路径设置了第二级密封单元。如图1所示，所述第二级密 封单元可包括第二级密封件3，以及用于挤压该第二级密封件3以实现对微泄漏介质进行 密封的第二压紧螺母2。所述第二级密封件3为石墨或聚四氟乙烯材料制成。第一压紧螺母4挤压第一密封件5构成对被密封介质8的一级密封，第二压紧螺 母2挤压第二级密封件3构成对被密封介质8的微泄漏部分的二级密封。当第一密封件5 老化或受其他因素影响导致被密封介质8产生微泄漏时，微泄漏介质会存在于微泄漏介质 空腔9中(即微泄漏途径上形成的空腔)。由于微泄漏介质空腔9可通过第一孔道11与外 界连通(本实施例中是进一步在产品仪器外壳6上开设通孔10，该通孔10与第一孔道11 连通)，因此，处于微泄漏介质空腔9内的微泄漏介质没有压力，很容易被第二级密封单元 与产品测控部分及连接件1隔离，从而消除了微泄漏对产品测控部分的不利影响。上述以对产品测控部分进行密封为例对本实用新型的结构做了说明，本实用新型 所述的第一级密封单元、第二级密封单元还存在其他的具体结构型式。但是，本实用新型的 核心在于采用两级密封结构，即在第一级密封单元之外增加设置第二级密封单元，使得通 过第一级密封单元微泄漏的物质可被第二级密封单元予以密封，从而实现总体密封无微泄 漏的密封效果。以上所述仅为用以解释本实用新型的较佳实施例，并非企图据以对本实用新型做 任何形式上的限制，因此，凡有在相同的创作精神下所作有关本实用新型的任何修饰或变 更，皆仍应包括在本实用新型意图保护的范畴。
权利要求1.一种高压密封结构，包括用于对被密封压力介质进行密封的第一级密封单元，其特 征在于，在所述第一级密封单元的微泄漏路径设置第二级密封单元以密封微泄漏介质。
2.如权利要求1所述的高压密封结构，其特征在于，所述第一级密封单元包括第一级 密封件、以及用于挤压该第一级密封件以实现密封的第一压紧螺母。
3.如权利要求2所述的高压密封结构，其特征在于，所述第一压紧螺母设置有第一孔 道，所述微泄漏路径通过该第一孔道与外界连通。
4.如权利要求2所述的高压密封结构，其特征在于，所述第一级密封件为石墨或聚四 氟乙烯材料制成。
5.如权利要求1所述的高压密封结构，其特征在于，所述第二级密封单元包括第二级 密封件、以及用于挤压该第二级密封件以实现密封的第二压紧螺母。
6.如权利要求5所述的高压密封机构，其特征在于，所述第二级密封件为石墨或聚四 氟乙烯材料制成。
专利摘要本实用新型公开了一种高压密封结构，包括用于对被密封压力介质进行密封的第一级密封单元，在所述第一级密封单元的微泄漏路径设置第二级密封单元以密封微泄漏介质。本实用新型通过采用两级密封结构，使得透过第一级密封单元的微泄漏介质不会通过起隔离作用的第二级密封单元，从而达到总体密封无微泄漏的密封效果。
文档编号F16J15/00GK201827357SQ20102056244
公开日2011年5月11日 申请日期2010年10月15日 优先权日2010年10月15日
发明者董国胜 申请人:北京科普斯特自动化仪表有限公司