一种高密封性反应釜的制作方法

1.本实用新型属于反应釜技术领域，尤其涉及一种高密封性反应釜。


背景技术：

2.反应釜的广义理解即有物理或化学反应的容器，通过对容器的结构设计与参数配置，实现工艺要求的加热、蒸发、冷却及低高速的混配功能。反应釜广泛应用于石油、化工、橡胶、农药、染料、医药和食品等领域。
3.由于反应釜是一种用于混合各种化学物质的设备，在其搅拌混合化学物质的过程中，有些化学物质挥发性大，毒性高，而现有技术中的反应釜盖主要是通过法兰盘、螺栓与反应釜罐体连接的，有害气体容易从反应釜罐体和反应釜盖之间的缝隙中逸出，为此，我们提出来一种高密封性反应釜解决上述问题。


技术实现要素：

4.为了尽可能地防止有害气体从反应釜罐体和反应釜盖之间的缝隙中逸出，本实用新型提供了一种高密封性反应釜。
5.为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
6.一种高密封性反应釜，包括釜体，所述釜体的上方设有封盖，且釜体的上端固定有第一固定部，所述封盖的下端固定有第二固定部，所述第一固定部和第二固定部之间通过螺栓固定相连，且第一固定部和第二固定部的内侧远离螺栓的一端位置处开设有容纳槽，所述容纳槽的内部安装有第一密封层，所述第一密封层的内部固定有遇水膨胀层，且第一密封层背离螺栓的一侧开设有透气孔，所述透气孔位于第一固定部和第二固定部的接缝处；
7.所述第二固定部的下方位于第一密封层和螺栓之间固定有第一衔接块，所述第一固定部的上方对应第一衔接块的位置处开设有第一衔接槽，所述第一衔接槽的内部位于第一衔接块的位置处固定有第二密封层。
8.优选地，所述第一密封层为一种橡胶材质的构件，所述遇水膨胀层为一种树脂材质的构件，且遇水膨胀层呈颗粒状结构。
9.优选地，所述第一密封层的上下两侧均固定有加强块，所述第一固定部和第二固定部的一侧对应加强块的位置处均开设有卡槽。
10.优选地，所述釜体的下方安装有支撑脚，所述支撑脚的下端固定有基板，所述基板的下表面设有防滑纹路。
11.优选地，所述第二固定部的下方位于第一衔接块的两侧位置处均固定有第二衔接块，所述第一固定部的上方对应第二衔接块的位置处开设有第二衔接槽。
12.优选地，所述第二密封层的纵截面呈“u”型结构，且第二密封层的上表面与第一衔接块的下表面相贴合。
13.与现有技术相比，本实用新型的有益效果为：
14.1、通过设置遇水膨胀层和第一密封层，在该反应釜使用期间，对釜体中的化学物质加热、蒸发的过程中，水汽穿过釜体和封盖之间的缝隙，通过透气孔进入遇水膨胀层中，遇水膨胀层吸收了水分之后，发生膨胀，由于第一密封层采用橡胶材质，而橡胶材质具有良好的弹性，那么第一密封层也会发生膨胀，这样一来，便可提高釜体与封盖之间的密封性；
15.2、通过设置第一衔接块和第二衔接块，第一衔接块和第二衔接块呈阶梯状结构，可进一步对釜体和封盖的接缝之间进行密封，第二密封层可提高第一衔接块与第一衔接槽之间的贴合度。
附图说明
16.图1为本实用新型提出的一种高密封性反应釜的结构示意图；
17.图2为本实用新型提出的一种高密封性反应釜的剖面结构示意图；
18.图3为图2中a处的放大结构示意图。
19.图中：1釜体、2封盖、3支撑脚、4第一固定部、5第二固定部、6螺栓、7容纳槽、8第一密封层、9遇水膨胀层、10透气孔、11加强块、12第一衔接块、13第一衔接槽、14第二密封层、15第二衔接块、16第二衔接槽。
具体实施方式
20.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
21.参照图1-3，一种高密封性反应釜，包括釜体1，釜体1的下方安装有支撑脚3，支撑脚3的下端固定有基板，基板的下表面设有防滑纹路，防滑纹路可增大基板与地面之间的摩擦力，尽可能地避免釜体1发生滑动，釜体1的上方设有封盖2，且釜体1的上端固定有第一固定部4，封盖2的下端固定有第二固定部5，第一固定部4和第二固定部5之间通过螺栓6固定相连，且第一固定部4和第二固定部5的内侧远离螺栓6的一端位置处开设有容纳槽7，容纳槽7的内部安装有第一密封层8，第一密封层8的上下两侧均固定有加强块11，第一固定部4和第二固定部5的一侧对应加强块11的位置处均开设有卡槽，加强块11卡入卡槽中，可提高第一密封层8固定的稳定性，第一密封层8为一种橡胶材质的构件，橡胶材质具有良好的弹性，并且第一密封层8的内部固定有遇水膨胀层9，遇水膨胀层9为一种树脂材质的构件，且遇水膨胀层9呈颗粒状结构，第一密封层8背离螺栓6的一侧开设有透气孔10，透气孔10位于第一固定部4和第二固定部5的接缝处，在对釜体1中的化学物质加热、蒸发的过程中，水汽穿过釜体1和封盖2之间的缝隙，通过透气孔10进入遇水膨胀层9中，遇水膨胀层9吸收了水分之后，便会发生膨胀，从而达到对釜体1和封盖2之间密封的目的。
22.参照图3，第二固定部5的下方位于第一密封层8和螺栓6之间固定有第一衔接块12，且第二固定部5的下方位于第一衔接块12的两侧位置处均固定有第二衔接块15，第一衔接块12和第二衔接块15呈阶梯状结构，可进一步对釜体1和封盖2的接缝之间进行密封，第一固定部4的上方对应第一衔接块12的位置处开设有第一衔接槽13，且第一固定部4的上方对应第二衔接块15的位置处开设有第二衔接槽16，第一衔接块12和第二衔接块15分别卡入第一衔接槽13和第二衔接槽16中，第一衔接槽13的内部位于第一衔接块12的位置处固定有
第二密封层14，第二密封层14的纵截面呈“u”型结构，第二密封层14可采用橡胶或硅胶材质，且第二密封层14的上表面与第一衔接块12的下表面相贴合，第二密封层14可提高第一衔接块12与第一衔接槽13之间的贴合度。
23.现对本实用新型的操作原理做如下描述：
24.在该反应釜使用期间，对釜体1中的化学物质加热、蒸发的过程中，水汽穿过釜体1和封盖2之间的缝隙，通过透气孔10进入遇水膨胀层9中，遇水膨胀层9吸收了水分之后，发生膨胀，由于第一密封层8采用橡胶材质，而橡胶材质具有良好的弹性，那么第一密封层8也会发生膨胀，这样一来，便可提高釜体1与封盖2之间的密封性。
25.当将封盖2固定在釜体1上时，在第一衔接块12和第一衔接槽13的配合作用下，可对封盖2的位置起到有效的定位作用，更加方便工作人员对封盖2进行固定，同时，第一衔接块12和第二衔接块15呈阶梯状结构，可进一步对釜体1和封盖2的接缝之间进行密封，第二密封层14可提高第一衔接块12与第一衔接槽13之间的贴合度。
26.以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。


技术特征：
1.一种高密封性反应釜，包括釜体（1），其特征在于，所述釜体（1）的上方设有封盖（2），且釜体（1）的上端固定有第一固定部（4），所述封盖（2）的下端固定有第二固定部（5），所述第一固定部（4）和第二固定部（5）之间通过螺栓（6）固定相连，且第一固定部（4）和第二固定部（5）的内侧远离螺栓（6）的一端位置处开设有容纳槽（7），所述容纳槽（7）的内部安装有第一密封层（8），所述第一密封层（8）的内部固定有遇水膨胀层（9），且第一密封层（8）背离螺栓（6）的一侧开设有透气孔（10），所述透气孔（10）位于第一固定部（4）和第二固定部（5）的接缝处；所述第二固定部（5）的下方位于第一密封层（8）和螺栓（6）之间固定有第一衔接块（12），所述第一固定部（4）的上方对应第一衔接块（12）的位置处开设有第一衔接槽（13），所述第一衔接槽（13）的内部位于第一衔接块（12）的位置处固定有第二密封层（14）。2.根据权利要求1所述的一种高密封性反应釜，其特征在于，所述第一密封层（8）为一种橡胶材质的构件，所述遇水膨胀层（9）为一种树脂材质的构件，且遇水膨胀层（9）呈颗粒状结构。3.根据权利要求2所述的一种高密封性反应釜，其特征在于，所述第一密封层（8）的上下两侧均固定有加强块（11），所述第一固定部（4）和第二固定部（5）的一侧对应加强块（11）的位置处均开设有卡槽。4.根据权利要求1所述的一种高密封性反应釜，其特征在于，所述釜体（1）的下方安装有支撑脚（3），所述支撑脚（3）的下端固定有基板，所述基板的下表面设有防滑纹路。5.根据权利要求1所述的一种高密封性反应釜，其特征在于，所述第二固定部（5）的下方位于第一衔接块（12）的两侧位置处均固定有第二衔接块（15），所述第一固定部（4）的上方对应第二衔接块（15）的位置处开设有第二衔接槽（16）。6.根据权利要求1所述的一种高密封性反应釜，其特征在于，所述第二密封层（14）的纵截面呈“u”型结构，且第二密封层（14）的上表面与第一衔接块（12）的下表面相贴合。

技术总结
本申请属于反应釜技术领域，公开了一种高密封性反应釜，包括釜体，所述釜体的上方设有封盖，且釜体的上端固定有第一固定部，所述封盖的下端固定有第二固定部，所述第一固定部和第二固定部之间通过螺栓固定相连，且第一固定部和第二固定部的内侧远离螺栓的一端位置处开设有容纳槽，所述容纳槽的内部安装有第一密封层。本实用新型通过设置遇水膨胀层和第一密封层，在该反应釜使用期间，对釜体中的化学物质加热、蒸发的过程中，水汽穿过釜体和封盖之间的缝隙，通过透气孔进入遇水膨胀层中，遇水膨胀层吸收了水分之后，发生膨胀，由于第一密封层采用橡胶材质，那么第一密封层也会发生膨胀，这样一来，便可提高釜体与封盖之间的密封性。性。性。


技术研发人员：陆明如 岳丕乔 刘岩 梁世崎
受保护的技术使用者：杭州构建新型材料有限公司
技术研发日：2021.10.21
技术公布日：2022/3/4