本技术涉及尾气处理,尤其涉及一种直流法兰反应腔和尾气处理装置。
背景技术:
1、泛半导体产业的生产过程中会产生大量的尾气,这些尾气普遍具有易燃、有毒、高温室效应等性质,这些有害气体必须无害化处理后才能排放到环境中。无害化处理方法是将气体依次通入依次连接的热分解腔和反应腔,进行无害化处理。
2、现有技术中,通常采用旋流法兰向反应腔中提供用于与尾气反应的反应气(例如,氧气或压缩反应气)。但是,由于旋流法兰产生的旋流反应气通常会沿着反应腔的内壁旋流,使得反应气与尾气的氧化反应主要集中在反应腔的内壁处进行,导致产生的粉尘颗粒堆积在反应腔的内壁,且不利于反应的均匀性。
技术实现思路
1、鉴于上述的分析,本实用新型旨在提供一种直流法兰反应腔和尾气处理装置,用以解决现有技术中反应气与尾气的氧化反应主要集中在反应腔的内壁处进行导致产生的粉尘颗粒堆积在反应腔的内壁、不利于反应的均匀性的问题。
2、本实用新型的目的主要是通过以下技术方案实现的。
3、本实用新型提供了一种直流法兰反应腔,包括腔体和直流法兰;直流法兰内具有储气环腔;直流法兰的外圆周面开设与储气环腔连通的进气孔;储气环腔通过气流环道连通至腔体;沿着腔体中尾气气流的方向,气流环道向靠近直流法兰中心轴的方向倾斜;进气孔的出气方向沿着直流法兰的径向,气流环道的出气方向在直流法兰径向平面内的投影沿着直流法兰的径向。
4、进一步地,直流法兰、储气环腔和气流环道同轴设置。
5、进一步地,气流环道沿反应气流动方向向下倾斜。
6、进一步地,储气环腔包括依次设置的进气孔所在的壁面、第二壁面、第一壁面和第三壁面;第二壁面与第三壁面相对,第一壁面与进气孔所在的壁面相对。
7、进一步地,第二壁面上设有环形的凸台,将储气环腔分隔成沿着第一壁面到进气孔的方向依次连接的第一腔段、狭缝和第二腔段。
8、进一步地,狭缝的高度小于储气环腔高度的一半。
9、进一步地,气流环道的侧壁与第一壁面连接,且气流环道的侧壁的倾斜角度与第一壁面的倾斜角度相同。
10、进一步地,气流环道的出气方向与直流法兰的中心轴线之间的夹角为10°~60°。
11、进一步地,气流环道的宽度为3mm~10mm。
12、本实用新型还提供了一种尾气处理装置,包括上述直流法兰反应腔。
13、与现有技术相比,本实用新型至少可实现如下有益效果之一。
14、本实用新型提供的直流法兰反应腔,进气孔的出气方向以及气流环道的出气方向在直流法兰径向平面内的投影均沿直流法兰的径向设置,使得反应气在不产生旋流的基础上直接供入腔体的中间区域,并在中间区域与待处理尾气进行充分混合和反应,从而能够解决反应气与尾气的氧化反应主要集中在反应腔的内壁处进行导致产生的粉尘颗粒堆积在反应腔的内壁。
15、本实用新型中,上述各技术方案之间还可以相互组合,以实现更多的优选组合方案。本实用新型的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述,并且,部分优点可从说明书中变得显而易见,或者通过实施本实用新型而了解。本实用新型的目的和其他优点可通过说明书实施例以及附图中所特别指出的内容中来实现和获得。
1.一种直流法兰反应腔,其特征在于,包括腔体和直流法兰;
2.根据权利要求1所述的直流法兰反应腔,其特征在于,所述直流法兰、储气环腔和气流环道同轴设置。
3.根据权利要求1所述的直流法兰反应腔,其特征在于,所述气流环道沿反应气流动方向向下倾斜。
4.根据权利要求1至3任一项所述的直流法兰反应腔,其特征在于,所述储气环腔包括依次设置的进气孔所在的壁面、第二壁面、第一壁面和第三壁面;
5.根据权利要求4所述的直流法兰反应腔,其特征在于,所述第二壁面上设有环形的凸台,将储气环腔分隔成沿着第一壁面到进气孔的方向依次连接的第一腔段、狭缝和第二腔段。
6.根据权利要求5所述的直流法兰反应腔,其特征在于,所述狭缝的高度小于储气环腔高度的一半。
7.根据权利要求4所述的直流法兰反应腔,其特征在于,所述气流环道的侧壁与第一壁面连接,且气流环道的侧壁的倾斜角度与第一壁面的倾斜角度相同。
8.根据权利要求1所述的直流法兰反应腔,其特征在于,所述气流环道的出气方向与直流法兰的中心轴线之间的夹角为10°~60°。
9.根据权利要求1所述的直流法兰反应腔,其特征在于,所述气流环道的宽度为3mm~10mm。
10.一种尾气处理装置,其特征在于,包括如权利要求1至9任一项所述的直流法兰反应腔。