本技术涉及半导体设备生产,特别是涉及一种预防副产物堵塞管路的装置及副产物处理系统。
背景技术:
1、在现有技术中,半导体制造工艺十分复杂,当整个制造工艺流程完成的时候,排放副产物的输出管路内部的副产物就会随着制造工艺的完成而持续累加,同时由于排放副产物的管路内圆直径尺寸偏小,继而导致副产物排放的输出管路内部会出现管路堵塞的问题。副产物排放的管路内部堵塞到了一定程度之后,就会导致泵无法工作,而处于停机的非正常工作状态。特别是当制造工艺在主要步骤运行生产的时候,如果泵发生了停机的故障,就会导致产品报废,那么前面已经完成了的工艺步骤就白费了,这样无疑就增加了生产成本,浪费了大量的时间,缩短了设备的维护周期,导致维护设备的频率增大,设备利用率降低。
2、应该注意,上面对技术背景的介绍只是为了方便对本申请的技术方案进行清楚、完整的说明,并方便本领域技术人员的理解而阐述的。不能仅仅因为这些方案在本申请的背景技术部分进行了阐述而认为上述技术方案为本领域技术人员所公知。
技术实现思路
1、鉴于以上所述现有技术的缺点,本实用新型的目的在于提供一种预防副产物堵塞管路的装置及副产物处理系统,用于解决现有技术中,半导体制造工艺由于排放副产物的管路偏小以及副产物源源不断的输出,而导致副产物排放的管路产生了内部堵塞问题,特别是由于副产物排放管路内部堵塞而对设备的泵产生了很大的影响,可能导致泵无法正常工作而停机,以致产品报废的困境和技术难题。
2、为实现上述目的及其他相关目的,本实用新型提供一种预防副产物堵塞管路的装置,所述预防副产物堵塞管路的装置包括:
3、第一连接装置、第二连接装置、温度控制器、加热带及n条固定片,n为大于等于2的自然数;
4、各固定片间隔排布,各固定片的一端通过所述第一连接装置连接在一起,各固定片的另一端通过所述第二连接装置连接在一起;各固定片上均设置有均匀分布的孔洞;所述加热带连接所述温度控制器,并穿过各孔洞以铺设于各固定片所在区域内。
5、可选地,所述加热带以s形绕设。
6、可选地,各固定片之间平行设置。
7、可选地,所述第一连接装置与所述第二连接装置互相平行,且与各固定片垂直设置。
8、可选地,所述固定片为金属片。
9、可选地,所述第一连接装置及所述第二连接装置设置为依次串接的弹簧。
10、本实用新型还提供一种副产物处理系统,所述副产物处理系统至少包括:泵、输入管路、输出管路、副产物处理装置及上述预防副产物堵塞管路的装置;
11、所述泵的一端连接所述输入管路,另一端连接有所述输出管路的输入端;
12、所述副产物处理装置上设有端口;所述端口与所述输出管路的输出端连接;
13、所述预防副产物堵塞管路的装置包裹于所述输出管路的外侧壁上。
14、可选地,所述输出管路靠近所述泵的位置设置有金属波纹管。
15、可选地,所述输入管路靠近所述泵的位置设有侧漏管路的接口。
16、可选地,所述输出管路的内圆直径设置为40mm~60mm。
17、如上所述,本实用新型提供了一种预防副产物堵塞管路的装置及副产物处理系统,具有以下有益效果:
18、本实用新型的预防副产物堵塞管路的装置及副产物处理系统,在副产物排放管路的外侧壁上包裹可以调节温度和松紧度的预防副产物堵塞管路的装置,目的是为了改变管路的温度来减少副产物在管路中的日益积累;并且将排放副产物的管路内圆直径尺寸增大,增加了排放副产物的空间;从而预防了管路被副产物堵塞而造成的泵停机且无法正常工作的问题,以此来提升了泵的使用寿命,延长了设备的维护周期,维护设备的频率减小,增加了机台正常工作的时间,提高了使用效率,减少了生产成本。
1.一种预防副产物堵塞管路的装置,其特征在于,所述预防副产物堵塞管路的装置包括:
2.根据权利要求1所述的预防副产物堵塞管路的装置,其特征在于:所述加热带以s形绕设。
3.根据权利要求1所述的预防副产物堵塞管路的装置,其特征在于:各固定片之间平行设置。
4.根据权利要求1所述的预防副产物堵塞管路的装置,其特征在于:所述第一连接装置与所述第二连接装置互相平行,且与各固定片垂直设置。
5.根据权利要求1所述的预防副产物堵塞管路的装置,其特征在于:所述固定片为金属片。
6.根据权利要求1所述的预防副产物堵塞管路的装置,其特征在于:所述第一连接装置及所述第二连接装置设置为依次串接的弹簧。
7.一种副产物处理系统,其特征在于,所述副产物处理系统包括:泵、输入管路、输出管路、副产物处理装置及如权利要求1-6任意一项所述的预防副产物堵塞管路的装置;
8.根据权利要求7所述的副产物处理系统,其特征在于,所述输出管路靠近所述泵的位置设置有金属波纹管。
9.根据权利要求7所述的副产物处理系统,其特征在于:所述输入管路靠近所述泵的位置设有侧漏管路的接口。
10.根据权利要求7-9任意一项所述的副产物处理系统,其特征在于,所述输出管路的内圆直径设置为40mm~60mm。