专利名称：气体供应管路及纯化器的更换方法
技术领域：
本发明是有关于一种气体供应管路及纯化器的更换方法，且特别是有关 于 一种在更换纯化器时机台无须停机的气体供应管路及纯化器的更换方法。
背景技术：
在半导体的制造领域中，元件的制造过程中使用许多气相工艺。而在气相工艺中，所使用的一般气体(bulk gas)通过气体供应管路供应至半导体机 台。但是在此类一般气体中多少仍存在有微量的杂质，这些杂质会带给元件 性能不良影响。目前，除去气体中的杂质的做法是将纯化器直接安装在分流供应管线 上，以通过纯化器滤除气体中的杂质。然而，依照习知的气体供应管路设计， 在进行纯化器的更换时，必须停止整个气体供应系统，同时半导体机台也必 须配合停机才能进行更换。此外，在重新安装新的纯化器之后，必须进行4至8小时的工艺环境的 活化动作之后，气体才能重新供应至半导体机台中，而在这段时间内半导体 机台无法正常进行操作。发明内容本发明的目的就是在提供一种气体供应管路，在更换纯化器时，半导体 才几台无须4f才几。本发明的另一目的是提供一种气体供应管路，在重新安装新的纯化器之 后，于进行工艺环境的活化动作时，半导体机台可正常运作。本发明的又一目的是提供一种纯化器的更换方法，在更换纯化器时，无 须停止整个气体供应系统。本发明提出一种气体供应管路，适用于将气体从气体供应端输送到机台 端，包括主供应管线、多条分流供应管线、多个纯化器、多个第一隔离阀及 支援管路。主供应管线连接至气体供应端。分流供应管线分别连接主供应管线与机台端。纯化器分别配置于各分流供应管线上。第一隔离阀分别配置于 各分流供应管线上，且位于纯化器与气体供应端之间。支援管路连接至分流 供应管线，且配置于纯化器与机台端之间。依照本发明的实施例所述，在上述的气体供应管路中，支援管路包括至 少一条支援管线、至少一个第二隔离阀及多个第三隔离阀。每一条支援管线 连接相邻两条分流供应管线。每一个第二隔离阀配置于所对应的支援管线 上。第三隔离阀分别配置于各分流供应管线上，且位于纯化器与支援管线之 间。依照本发明的实施例所述，在上述的气体供应管路中，还包括多个第四 隔离阀，分别配置于各分流供应管线上，且位于支援管路与机台端之间。依照本发明的实施例所述，在上述的气体供应管路中，还包括多个排放 气隔离阀，分别连接至所对应的各分流供应管线，且连接的位置在支援管路 与纯化器之间。依照本发明的实施例所述，在上述的气体供应管路中 器，连接至排放气隔离阀。依照本发明的实施例所述，在上述的气体供应管路中 气体。依照本发明的实施例所述，在上述的气体供应管路中烷(SiH0、锗烷(GeH4)或氯化氢(HCl)。本发明提出另 一种气体供应管路，适用于将气体从气体供应端输送至机 台端，包括主供应管线、第一分流供应管线与第二分流供应管线、第一纯化 器、第二纯化器、第一隔离阀、第二隔离阀、第一支援管线、第三隔离阀、 第四隔离阀与第五隔离阀。主供应管线连接至气体供应端。第一分流供应管 线与第二分流供应管线分别连接主供应管线与机台端。第一纯化器与第二纯 化器，分别配置于第一分流供应管线与第二分流供应管线上。第一隔离阀与 第二隔离阀分别配置于第 一分流供应管线与第二分流供应管线上，且第 一隔 离阀位于第一纯化器与气体供应端之间，第二隔离阀位于第二纯化器与气体 供应端之间。第一支援管线连接第一分流供应管线与第二分流供应管线。第 三隔离阀配置于第一支援管线上。第四隔离阀与第五隔离阀，分别配置于第 一分流供应管线与第二分流供应管线上，且第四隔离阀位于第 一纯化器与第 一支援管线之间，第五隔离阀位于第二纯化器与第 一 支援管线之间。6，还包括真空产生 ,气体包括危险性 ,危险性气体为硅依照本发明的实施例所述，在上述的气体供应管路中，还包括第三分流 供应管线、第三纯化器、第六隔离阀、第二支援管线、第七隔离阀及第八隔 离阀。第三分流供应管线连接主供应管线与机台端。第三纯化器配置于第三 分流供应管线上。第六隔离阀配置于第三分流供应管线上，且第六隔离阀位 于第三纯化器与气体供应端之间。第二支援管线，连接第二分流供应管线与 第三分流供应管线。第七隔离阀，配置于第二支援管线上。第八隔离阀配置 于第三分流供应管线上，且位于第三纯化器与第二支援管线之间。依照本发明的实施例所述，在上述的气体供应管路中，还包括第九隔离 阀配置于第三分流供应管线上，且位于第二支援管线与机台端之间。依照本发明的实施例所述，在上述的气体供应管路中，还包括第三排放 气隔离阀连接至第三分流供应管线，且连接的位置在第八隔离阀与第三纯化 器之间。依照本发明的实施例所述，在上述的气体供应管路中，还包括真空产生 器，连接至第三排放气隔离阀。依照本发明的实施例所述，在上述的气体供应管路中，还包括第十隔离 阀与第十 一 隔离阀，分别配置于第 一分流供应管线与第二分流供应管线上， 且第十隔离阀与一第十一隔离阀位于第一支援管线与机台端之间。依照本发明的实施例所述，在上述的气体供应管路中，还包括第一排放 气隔离阀与第二排放气隔离阀，分别连接至第 一分流供应管线与第二分流供 应管线，且第 一排放气隔离阀连接的位置在第四隔离阀与第 一纯化器之间， 第二排放气隔离阀连接的位置在第五隔离阀与第二纯化器之间。依照本发明的实施例所述，在上述的气体供应管路中，还包括真空产生 器，连接至第一排放气隔离阀与第二排放气隔离阀。依照本发明的实施例所述，在上述的气体供应管路中，气体包括危险性 气体。依照本发明的实施例所述，在上述的气体供应管路中，危险性气体为硅烷、4者烷或氯化氬。本发明提出一种纯化器的更换方法，适用于如上所述的气体供应管路， 气体经由第 一分流供应管线与第二分流供应管线输送至机台端，此时第三隔 离阀为关闭，更换纯化器的方法首先关闭第五隔离阀。接着，开启第三隔离 阀。然后，关闭第二隔离阀。之后，更换第二纯化器。依照本发明的实施例所述，在上述的纯化器的更换方法中，在关闭第五 隔离阀与第二隔离阀之后，还包括利用真空产生器将第五隔离阀与第二隔离 阀之间的第二分流供应管线中的气体抽出。依照本发明的实施例所述，在上述的纯化器的更换方法中，危险性气体 为硅烷、锗烷或氯化氢。基于上述，由于本发明所提出的气体供应管路具有支援管路，在更换纯 化器时，藉由支援管路中的支援管线及隔离阀，能将其它的分流供应管线中 所供应的气体输送至更换纯化器的分流供应管线中进行支持，而将气体输送 至更换纯化器的分流供应管线所对应的半导体机台，因此半导体机台无须停 机，也可以进行纯化器的更换。此外，在安装新的纯化器之后，于进行工艺 环境的活化动作时，半导体机台可正常运作。另外，本发明所提出的纯化器的更换方法，藉由对支援管路的操作，不 需停止整个气体供应系统且半导体机台也无需停机，即可完成纯化器的更 换。为让本发明的上述和其它目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举优 选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下。
图1所绘示为本发明一实施例的气体供应管路的示意图；图2所绘示为本发明另 一 实施例的气体供应管路的示意图。主要元件符号说明100:气体供应管路102:气体供应端104:才几台端106:主供应管线108a、 108b、 108c:分流供应管线 110a、 110b、 110c:纯化器112a、 112b、 112c、 118、 120a、 120b、 120c、 122a、 122b、 122c、 132: 隔离阀114:支^爰管^各 116、 130:支援管线124a、 124b、 124c:;汰气隔离阀 126:真空产生器 128:气体排出端具体实施方式
图1所绘示为本发明一实施例的气体供应管路的示意图。请参照图1,本发明所提出的气体供应管路100，适用于将气体从气体 供应端102输送到机台端104。在气体供应端102所供应的气体例如是危险 性气体，硅烷、锗烷及氯化氢等。机台端104中包括多台半导体机台，这些 半导体机台例如是蚀刻机台及沉积机台等。气体供应管3各100包4舌主供应管线106、分流供应管线108a与108b、 纯化器110a与110b、隔离阀112a与112b以及支援管路114。主供应管线106连接至气体供应端102及分流供应管线108a与108b。 分流供应管线108a与108b分别连接主供应管线106与机台端104。如此一 来，气体供应端102中的气体，可以经由主供应管线106分流至分流供应管 线108a与108b，再经由分流供应管线108a与108b将气体输送至机台端104 中所对应的半导体机台。纯化器110a与110b分别配置于分流供应管线108a与108b上，用以滤 除气体中所含的杂质。隔离阀112a与112b分别配置于分流供应管线108a与108b上，且隔离 阀112a位于纯化器110a与气体供应端102之间，隔离阀112b位于纯化器 110b与气体供应端102之间，用以控制分流供应管线108a与108b中气体的 供给。支援管路114连接至分流供应管线108a与108b,且配置于纯化器110a 与110b与机台端104之间。支援管路114包括支援管线116、隔离阀118及 隔离阀120a与120b。支援管线116连接相邻两条分流供应管线108a与108b。 隔离阀118配置于所对应的支援管线116上。隔离阀120a与120b分别配置 于分流供应管线108a与108b上，且隔离阀120a位于纯化器110a与支援管 线116之间，隔离阀120b位于纯化器110b与支援管线116之间。气体供应管路IOO可包括隔离阀122a与122b,分别配置于分流供应管 线108a与108b上，且位于支援管路114与机台端104之间，用以控制分流供应管线108a与108b输送至机台端104的气体的供给量。气体供应管路100还可包括排放气隔离阀124a与124b及真空产生器 126。排;故气隔离阀124a与124b分别连4妄至所对应的分流供应管线108a与 108b，且连接的位置在支援管路114与纯化器110a与110b之间，藉由连结 至排放气隔离阀124a与124b的真空产生器126将分流供应管线108a与108b 中的气体抽至气体排出端128。以下，针对更换纯化器110b的方法进行说明。在半导体机台正常的运作下，气体供应端102中的气体经由气体供应管 路100中的主供应管线106分流至分流供应管线108a与108b，再经由分流 供应管线108a与108b将气体输送至机台端104中所对应的半导体机台，此 时隔离阀118为关闭状态。更换纯化器110b的方法，首先关闭隔离阀120b。接着，开启隔离阀118，以使得分流供应管线108a中的气体可经由支援 管线116输送至分流供应管线108b中。由于已事先关闭隔离阀120b，因此 可避免从分流供应管线108a输送过来的气体进入到隔离阀120b与隔离阀 112b之间的分流供应管线108b中。然后，关闭隔离阀112b，使得主供应管线106中的气体无法继续进入供 应管线108a中，以避免在更换纯化器110b的过程中由于气体持续供应而出 现气体外泄的情况。之后，更换纯化器110b。此外，在关闭隔离阀120b与隔离阀112b之后，可利用真空产生器126 将隔离阀120b与隔离阀112b之间的分流供应管线108b中的气体抽出，可 防止残存在隔离阀120b与隔离阀112b之间的分流供应管线108b中的气体 在更换纯化器110b时发生外泄的情况。由于本发明所提出的气体供应管路100中具有支援管路114，当要更换 纯化器110b时，藉由支援管路114中的支援管线116及对隔离阀118与120b 的控制，能将分流供应管线108a中所供应的气体输送至更换纯化器110b的 分流供应管线108b中进行支持，而将气体输送至分流供应管线108b所对应 的半导体机台，因此半导体机台无须停机，且不需要停止整个气体供应系统，也可以进行纯化器110b的更换。此外，由于分流供应管线108a中所供应的气体能输送至更换纯化器 110b的分流供应管线108b中进行支持，因此在安装新的纯化器110b之后，于进行工艺环境的活化动作时，半导体机台仍可正常运作。值得注意的是，上述实施例虽然只介绍配置于分流供应管线108b上的 换纯化器110b的更换方法，但于此技术领域具有通常知识者可藉由上述说明轻易推知分流供应管线108a上的换纯化器110a的更换方法，故于此不再赘述。图2所绘示为本发明另 一实施例的气体供应管路的示意图。请同时参照图l及图2，图2与图1的差异在于图2的气体供应管路U0 比图1的气体供应管路110多了分流供应管线108c、纯化器110c、隔离阀 112c、隔离阀120c、隔离阀122c、隔离阀132、支援管线130及排放气隔离 阀124c，图2中其余的构件与图1相同，故于此不再赘述。分流供应管线108c连接主供应管线106与机台端104。如此一来，气体 供应端102中的气体，可以经由主供应管线106分流至分流供应管线108c, 再经由分流供应管线108c将气体输送至机台端104中所对应的半导体机台。纯化器11 Oc配置于分流供应管线108c上，用以滤除气体中所含的杂质。隔离阀112c配置于分流供应管线108c上，且位于纯化器110c与气体供 应端102之间，用以控制分流供应管线108c中气体的供给。在图2中的支援管路114还包括支援管线130、隔离阀132及隔离阀 120c。支援管线130连接相邻两条分流供应管线108b与108c。隔离阀132 配置于所对应的支援管线130上。隔离阀120c配置于分流供应管线108c上， 且位于纯化器110c与支援管线130之间。隔离阀122c,配置于分流供应管线108c上，且位于支援管路130与机 台端104之间，用以控制分流供应管线108c输送至机台端104的气体的供 给量。排放气隔离阀124c连接至所对应的分流供应管线108c，且连接的位置 在支援管路130与纯化器110c之间，藉由连结至排放气隔离阀124c的真空 产生器126将分流供应管线108c中的气体抽至气体排出端128。以下，针对更换纯化器110b的方法进行说明。在半导体机台正常的运作下，气体供应端102中的气体经由气体供应管 路100中的主供应管线106分流至分流供应管线108a、 108b与108c,再经 由分流供应管线108a、 108b与108c将气体输送至机台端104中所对应的半 导体机台，此时隔离阀118与132为关闭状态。更换纯化器110b的方法，首先关闭隔离阀120b，以避免之后从分流供 应管线108a与108c输送过来的气体进入隔离阀120b与隔离阀112b之间的 分流供应管线108b中。接着，开启隔离阀118,以使得分流供应管线108a中的气体可经由支援 管线116输送至分流供应管线108b中；或者是开启隔离阀132，以使得分流 供应管线108c中的气体可经由支援管线130输送至分流供应管线108b中； 或者是同时开启隔离阀118与132，以使得分流供应管线108a与108c中的 气体可分别经由支援管线116与130输送至分流供应管线108b中然后，关闭隔离阀112b,使得主供应管线106中的气体无法继续进入供 应管线108a中，以避免在更换纯化器110b的过程中由于气体持续供应而出 现气体外泄的情况。之后，更换纯化器110b。此外，在关闭隔离阀120b与隔离阀U2b之后，可利用真空产生器126 将隔离阀120b与隔离阀112b之间的分流供应管线108b中的气体抽出，可 防止残存在隔离阀120b与隔离阀112b之间的分流供应管线108b中的气体 在更换纯化器110b时发生外泄的情况。由于本发明所提出的气体供应管路100中具有支援管路114,当要更换 纯化器110b时，藉由支援管路114中的支援管线116与130及对隔离阀118、 120b、 132与120c的控制，能将分流供应管线108a与108c中所供应的气体 输送至更换纯化器110b的分流供应管线108b中进行支持，而将气体输送至 分流供应管线108b所对应的半导体机台，因此半导体机台无须停机，且不 需要停止整个气体供应系统，也可以进行纯化器110b的更换。此外，由于分流供应管线108a与108c中所供应的气体能输送至更换纯 化器110b的分流供应管线108b中进行支持，因此在安装新的纯化器110b 之后，于进行工艺环境的活化动作时，半导体机台仍可正常运作。值得注意的是，上述实施例虽然只介绍配置于分流供应管线108b上的 换纯化器110b的更换方法，但于此技术领域具有通常知识者可藉由上述说 明轻易推知纯化器110a与110c的更换方法，故于此不再赘述。此外，在图l及图2的实施例中分别说明具有两条分流供应管线及三条 分流供应管线的气体供应管路及纯化器的更换方法，但于此技术领域具有通 常知识者参照图1及图2所述的实施例，应可自行推论得知具有三条分流供 应管线以上的气体供应管路及纯化器的更换方法，故于此不再赘述。综上所述，本发明至少具有下列优点1. 由于本发明所提出的气体供应管路具有支援管路，在更换纯化器时， 因此半导体机台无须停机，也可以进行纯化器的更换。2. 在本发明所提出的气体供应管路中，能将未更换纯化器的分流供应管 线中所供应的气体输送至更换纯化器的分流供应管线中进行支持，因此在安 装新的纯化器之后，于进行工艺环境的活化动作时，半导体机台仍可正常运作。3. 本发明所提出的纯化器的更换方法，藉由对支援管路的操作，不需停 止整个气体供应系统即可完成纯化器的更换。
权利要求
1. 一种气体供应管路，适用于将气体从气体供应端输送到机台端，包括主供应管线，连接至该气体供应端；多条分流供应管线，分别连接该主供应管线与该机台端；多个纯化器，分别配置于各该分流供应管线上；多个第一隔离阀，分别配置于各该分流供应管线上，且位于该纯化器与该气体供应端之间；以及支援管路，连接至该分流供应管线，且配置于该纯化器与该机台端之间。
2、 如权利要求1所述的气体供应管路，其中该支援管路包括至少 一条支援管线，每一条支援管线连接相邻两条分流供应管线； 至少一个第二隔离阀，每一个第二隔离阀配置于所对应的该支援管线 上；以及多个第三隔离阀，分别配置于各该分流供应管线上，且位于该纯化器与 该支援管线之间。
3、 如权利要求1所述的气体供应管路，还包括多个第四隔离阀，分别 配置于各该分流供应管线上，且位于该支援管路与该机台端之间。
4、 如权利要求1所述的气体供应管路，还包括多个排放气隔离阀，分 别连接至所对应的各该分流供应管线，且连接的位置在该支援管路与该纯化器之间。
5、 如权利要求1所述的气体供应管路，还包括真空产生器，连接至该 排放气隔离阀。
6、 如权利要求1所述的气体供应管路，该气体包括危险性气体。
7、 如权利要求1所述的气体供应管路，该危险性气体为硅烷、锗烷或氯化氢。
8、 一种气体供应管路，适用于将气体从气体供应端输送至机台端，包括主供应管线，连接至该气体供应端；第 一分流供应管线与第二分流供应管线，分别连接该主供应管线与该机台端；第一纯化器与第二纯化器，分别配置于该第一分流供应管线与该第二分流供应管线上；第 一 隔离阀与第二隔离阀，分别配置于该第 一 分流供应管线与该第二分 流供应管线上，且该第一隔离阀位于该第一纯化器与该气体供应端之间，该 第二隔离阀位于该第二纯化器与该气体供应端之间；第 一支援管线，连接该第 一分流供应管线与该第二分流供应管线；第三隔离阀，配置于该第一支援管线上；以及第四隔离阀与第五隔离阀，分别配置于该第一分流供应管线与该第二分 流供应管线上，且该第四隔离阀位于该第 一纯化器与该第 一 支援管线之间， 该第五隔离阀位于该第二纯化器与该第 一支援管线之间。
9、 如权利要求8所述的气体供应管路，还包括 第三分流供应管线，连接该主供应管线与该机台端； 第三纯化器，配置于该第三分流供应管线上；第六隔离阀，配置于该第三分流供应管线上，且该第六隔离阀位于该第 三纯化器与该气体供应端之间；第二支援管线，连接该第二分流供应管线与该第三分流供应管线； 第七隔离阀，配置于该第二支援管线上；以及第八隔离阀，配置于该第三分流供应管线上，且位于该第三纯化器与该 第二支援管线之间。
10、 如权利要求9所述的气体供应管路，还包括第九隔离阀，配置于该 第三分流供应管线上，且位于该第二支援管线与该机台端之间。
11、 如权利要求9所述的气体供应管路，还包括第三排放气隔离阀，连 接至该第三分流供应管线，且连接的位置在该第八隔离阀与该第三纯化器之 间。
12、 如权利要求11所述的气体供应管路，还包括真空产生器，连接至 该第三排放气隔离阀。
13、 如权利要求8所述的气体供应管路，还包括第十隔离阀与第十一隔 离阀，分别配置于该第一分流供应管线与该第二分流供应管线上，且该第十 隔离阀与该第十 一 隔离阀位于该第 一 支援管线与该机台端之间。
14、 如权利要求8所述的气体供应管路，还包括第一排放气隔离阀与第 二排放气隔离阀，分别连接至该第 一分流供应管线与该第二分流供应管线，且该第一排放气隔离阀连接的位置在该第四隔离阀与该第一纯化器之间，该 第二排放气隔离阀连接的位置在该第五隔离阀与该第二纯化器之间。
15、 如权利要求14所述的气体供应管路，还包括真空产生器，连接至 该第 一排放气隔离阀与该第二排放气隔离阀。
16、 如权利要求8所述的气体供应管路，该气体包括危险性气体。
17、 如权利要求8所述的气体供应管路，该危险性气体为硅烷、锗烷或氯化氢。
18、 一种纯化器的更换方法，适用于如权利要求8所述的气体供应管路， 该气体经由该第 一分流供应管线与该第二分流供应管线输送至该机台端，此 时该第三隔离阀为关闭，该方法包括关闭该第五隔离阀 开启该第三隔离阀 关闭该第二隔离阀；以及 更换该第二纯化器。
19、 如权利要求18所述的纯化器的更换方法，其中在关闭该第五隔离 阀与该第二隔离阀之后，还包括利用真空产生器将该第五隔离阀与该第二隔 离阀之间的该第二分流供应管线中的该气体抽出。
20、 如权利要求18所述的气体供应管路，该危险性气体为硅烷、锗烷或氯化氢。
全文摘要
一种气体供应管路，适用于将气体从气体供应端输送到机台端，包括主供应管线、多条分流供应管线、多个纯化器、多个第一隔离阀及支援管路。主供应管线连接至气体供应端。分流供应管线分别连接主供应管线与机台端。纯化器分别配置于各分流供应管线上。第一隔离阀分别配置于各分流供应管线上，且位于纯化器与气体供应端之间。支援管路连接至分流供应管线，且配置于纯化器与机台端之间。
文档编号F17D1/04GK101240872SQ20071000548
公开日2008年8月13日 申请日期2007年2月8日 优先权日2007年2月8日
发明者张世勋, 邱锦旺, 陈宗扬, 陈皆兴 申请人:联华电子股份有限公司