本技术涉及除垢剂,具体涉及一种除垢剂灌装设备。
背景技术:
1、除垢剂是一种用于去除水垢、污垢等多种垢渍的化学制剂,具有除垢性能好的优点,广泛用于除垢领域。
2、为了减小存储空间,相关除垢剂的浓度一般较高,在使用时再稀释成较低的浓度,高浓度的除垢剂制备完成后需要灌装,但高浓度的除垢剂在灌装时易残留在灌装设备上,从而导致灌装速度慢,甚至导致堵塞。
技术实现思路
1、针对上述技术问题,本实用新型提供了一种除垢剂灌装设备,它使得高浓度的除垢剂不易残留。
2、为解决上述问题,本实用新型提供的技术方案为:
3、一种除垢剂灌装设备,包括:
4、料斗;
5、与所述料斗连接的驱动器;
6、与所述驱动器的驱动轴连接的旋转轴;
7、均与所述旋转轴连接的第一刷子和第二刷子,所述第一刷子和所述第二刷子均朝向所述料斗的内壁,所述第一刷子和所述第二刷子位于所述料斗的不同侧。
8、可选的,所述第一刷子和所述第二刷子关于所述料斗呈轴对称分布。
9、可选的,还包括:
10、形成于所述第一刷子和所述料斗的内壁之间的第一间隙;
11、形成于所述第二刷子和所述料斗的内壁之间的第二间隙。
12、可选的,
13、所述第一刷子包括:
14、与所述旋转轴连接的第一承载板;
15、螺纹连接于所述第一承载板上的若干刷子本体一;
16、所述第二刷子包括:
17、与所述旋转轴连接的第二承载板;
18、螺纹连接于所述第二承载板上的若干刷子本体二;
19、其中,所述刷子本体一和所述刷子本体二均朝向所述料斗的内壁,所述刷子本体一和所述刷子本体二位于所述料斗的不同侧。
20、可选的,还包括:
21、衔接管,所述衔接管的一端和所述料斗连通;
22、与所述衔接管的另一端连接的推块;
23、活动套接于所述衔接管和所述推块外的活动管,所述活动管上设有通槽;
24、套接于所述衔接管外的弹性件,所述弹性件的一端和所述料斗接触,所述弹性件的另一端和所述活动管接触;
25、位于所述活动管远离所述衔接管的一端伸缩组件。
26、可选的,所述推块内设有通道,所述通道的一端和所述衔接管连通,所述通道的另一端和所述活动管连通。
27、可选的,还包括连接于所述活动管内的导流板,所述导流板和所述通槽相对而设。
28、可选的,所述伸缩组件为液压伸缩组件。
29、可选的,还包括连接于所述料斗上的支撑架,所述驱动器和所述支撑架连接。
30、可选的,还包括设于所述料斗上的通孔,所述旋转轴穿过所述通孔。
31、采用本实用新型提供的技术方案,与现有技术相比,具有如下有益效果:料斗用于通过高浓度的除垢剂,便于灌装主体将高浓度的除垢剂通过料斗灌装至储料桶;驱动器通过料斗的支撑,并用于带动旋转轴转动,从而带动第一刷子和第二刷子转动,由于第一刷子和第二刷子均朝向料斗的内壁,便于第一刷子和第二刷子清扫残留在料斗的内壁上的高浓度的除垢剂,并在重力的作用下,高浓度的除垢剂流至料斗底部随后流至储料桶内,有利于使得高浓度的除垢剂不易残留,从而防止灌装速度慢及堵塞,又由于第一刷子和第二刷子位于料斗的不同侧,有利于增加第一刷子和第二刷子的清扫全面性,其中,驱动器可以为伺服电机、步进电机等。
1.一种除垢剂灌装设备,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的一种除垢剂灌装设备,其特征在于,所述第一刷子和所述第二刷子关于所述料斗呈轴对称分布。
3.根据权利要求1所述的一种除垢剂灌装设备,其特征在于,还包括:
4.根据权利要求1所述的一种除垢剂灌装设备,其特征在于,
5.根据权利要求1-4任一项所述的一种除垢剂灌装设备,其特征在于,还包括:
6.根据权利要求5所述的一种除垢剂灌装设备,其特征在于,所述推块内设有通道,所述通道的一端和所述衔接管连通,所述通道的另一端和所述活动管连通。
7.根据权利要求5所述的一种除垢剂灌装设备,其特征在于,还包括连接于所述活动管内的导流板,所述导流板和所述通槽相对而设。
8.根据权利要求5所述的一种除垢剂灌装设备,其特征在于,所述伸缩组件为液压伸缩组件。
9.根据权利要求1-4任一项所述的一种除垢剂灌装设备,其特征在于,还包括连接于所述料斗上的支撑架,所述驱动器和所述支撑架连接。
10.根据权利要求1-4任一项所述的一种除垢剂灌装设备,其特征在于,还包括设于所述料斗上的通孔,所述旋转轴穿过所述通孔。