专利名称：测量玻璃板中畸变的量规的制作方法
测量玻璃板中畸变的量规
背景技术：
发明领域
本发明一般涉及坐标测量设备，尤其涉及用于测量平面基板中的畸变的装 置和方法。
背景技术：
为测量玻璃板在经受致畸变处理(例如切割、退火)时的畸变，通常在处 理之前和之后测量玻璃上标记的位置。作为处理结果的这些标记位置的变化量 被定义为畸变。当前的基板畸变量规通常是将机器视觉与精确运动组合以便于
用高精确度测量位置的坐标测量机器(CMM)。
在一种当前方法中，常规CMM设计采用与使用标记网格划线的机座上的 固定玻璃基准板一起的单个相机的精确运动。可相对于基准板固定网格制定部 分标记位置。单个相机在各种位置间运动以测量玻璃上每个标记的位置。这些 当前单个相机CMM需要使用昂贵且易碎的精确运动部件。附加地，单个相机 的运动可减少所获得测量值的总量。因而，在本领域中存在对坐标测量机器的 需要，该坐标测量机器可提供一种便宜的方式来快速且准确地测量基板在经历 一些形式的处理时的畸变，诸如在它被切割成较小块时的应力释放或者在它被 热退火时的压实。
发明内容
本发明提供一种可快速且准确测量诸如玻璃板之类的平面基板在它经历 一些形式的致畸变处理时的畸变的便宜装置，这些致畸处理诸如在它被切割成 较小块时的应力释放或者在它被热退火时的压实。 一般而言，本发明的装置包 括多个图像捕捉设备(基板上的每一个基准标记用一个设备)，并且采用多个图像捕捉设备来测量处理之前和之后的标记位置。图像捕捉设备位置维持不变 并且因而在测量过程期间不运动。因而，将在各个相应图像捕捉设备的视场
(FOV)内直接测量标记位置变化。
因为在测量过程期间未移动或触摸本发明的多图像捕捉设备坐标测量系 统，所以该系统是非常稳定且鲁棒的。此外，多个固定图像捕捉设备的实现消 除了对于先前用来定位图像捕捉设备的昂贵精确运动系统的需要。更进一步 地，因为多图像捕捉设备自身提供稳定的基准系统，所以也不再需要易碎的玻 璃基准平面。
可由本发明的各个方面提供若干优点和益处。首先，因为完全在相机的 FOV内确定标记位置，所以可避免对于相机运动的需要(如在现有技术中所表 示的)。还可使用新系统同时进行多标记位置的测量，然而现有技术需要单个 相机从一个标记到一个标记的运动，这增大了总的测量时间。更进一步地，因 为不需要高精确的运动系统或者易碎的基准平面，所以本发明的装置的维护相 对较少。
因此，在一方面，本发明提供用于测量平面基板中的畸变的坐标测量装置。 该装置包括基座组件以及图像捕捉设备的多维阵列，该基座组件包括具有配置 成接受平面基板的顶面的底板。各个图像捕捉设备具有视场，并且被定位在与 底板的顶面的至少一部分平行且叠加对准的平面中。进一步使多个图像捕捉设 备的取向与多维阵列的平面垂直，以使各个图像捕捉设备的视场可捕捉底板的 顶面的至少一部分。更进一步地，台架运动系统可选择性地使多个图像捕捉设 备的每一个定位在多维阵列的平面内定义的预定坐标中。
在另一方面，本发明还提供一种用于测量平面基板中的畸变的方法。该方 法包括提供平面基板，该平面基板在其表面上具有可视的多个畸变基准标记。 使用图像捕捉组件针对每个基准标记生成基准图像，图像捕捉组件包括相对于 多个基准标记定位以使每个基准标记在多个图像捕捉设备之一的视场中的多 个图像捕捉设备的固定阵列。在生成基准图像之后，基板经受致畸变处理情况， 在此之后，使用用来生成基准图像的图像捕捉设备的固定阵列针对每个基准标 记生成处理后的图像。然后比较处理后的图像以及基准图像以在多个图像捕捉 设备的视场内测量在使平面基板经受致畸变处理情况之前和之后的基准标记的定位之间的任何偏差。
在又一方面，本发明还提供一种用于比较两个或更多个平面基板的尺寸参 数的方法。根据此方面的方法包括提供平面主基板，该平面主基板在其表面上 具有多个可视的尺寸基准标记。使用图像捕捉设备的阵列生成各个主基板基准 标记的基准图像，该图像捕捉设备的阵列定位在相对于多个基准标记的预定位 置中以使各个基准标记在多个图像捕捉设备之一的视场中。然后可提供第二平 面基板，第二平面基板在其表面上具有多个可视的尺寸基准标记。然后使用定 位在预定位置中的用来生成主基板的基准图像的图像捕捉设备的阵列生成各 个第二基板基准标记的基准图像。在获得第二基板的基准图像之后，该方法进 一步包括将第二基板的基准图像与主基板的基准图像进行比较以在多个图像 捕捉设备的视场内测量第一基板和第二基板尺寸基准标记的定位之间的任何 尺寸差异。根据此方面，示例性的基准标记可在评估之下包括基板的一个或多 个角落和/或一个或多个边缘部分。
将在详细描述以及随后的任何权利要求中部分地阐述本发明附加的实施 例，并且将部分地来自该详细描述、或者可通过实践本发明来掌握。应当理解， 上述一般描述和以下详细描述仅仅是示例性和说明性的而不是限制所公开的 本发明。
附图简述
包含在此并构成本说明书一部分的
了本发明的某些方面，并且与 说明书一起用来说明而非限制本发明的原理。
图1示出根据本发明一方面的示例性坐标测量装置。在其它方面中，示出 选择性地定位成与底板以及置于其上的基板的至少一部分对准的多个图像捕 捉设备的单个示例性图像捕捉设备。
图2示出根据本发明一方面的示例性基座组件。
图3示出根据本发明一方面的图像捕捉设备的示例性多维阵列的示意性
俯视图。
图4示出根据本发明一方面的图像捕捉设备的示例性多维阵列的示意性 俯视图，图像捕捉设备被选择性地定位成与底板对准。图5示出根据本发明一方面的示例性坐标测量装置。特别地，多维阵列的 示例性图像捕捉设备与计算机连通。另外，还示出通过底板的顶面延伸的多个 真空口与真空源连通。
详细描述
提供本发明的以下描述作为在其最佳的、当前已知的实施例中的本发明的 可能的示教。所以，相关领域的那些技术人员将认识且理解可对在此所述的发 明的各种实施例作各种改变，而仍能获得本发明的有益结果。还将显而易见地， 可通过选择本发明的某些特征而不采用其它特征来获得某些本发明的所需益 处。因此，在本领域工作的那些人将认识到本发明的许多修改和改变是可能的， 并且在某些环境中可以甚至是令人期望的并且是本发明的一部分。因而，提供 以下描述作为本发明的原理的说明且不是其限制。
如在此所使用，单数形式的"一"、"一个"以及"该"包括复数指示物， 除非上下文另外明确地指出。因而，例如，引用"成像设备"包括具有两个或 更多个这种成像设备的实施例，除非上下文另外明确地指出。
可在此表达范围为从"约" 一个具体值，和/或至"约"另一具体值。当 表达这种范围时，另一实施例包括从一具体值和/或至另一具体值。类似地，当 表达值为近似值时，通过使用先行词"约"，将理解该具体值形成另一实施例。 将进一步理解，每个范围的端点关于另一端点以及独立于另一端点都是重要 的。
如以上所简单地总结，在第一方面中，本发明提供一种用于测量平面基板 经受致畸变处理时的畸变的坐标测量装置。参考附图，示出了示例性的坐标测 量装置100以及其各种部件。如图1所示，该装置通常包括配置成接受平面基 板200的基座组件110。还设置图像捕捉设备122的多维阵列120 (注意仅 为说明目的，图1描述多图像捕捉设备阵列的单个示例性图像捕捉设备)。每 个图像捕捉设备122具有单独的视场124，并且可在与基座组件的至少一部分 平行且叠加对准(in overlying registration)的平面中定位。在一个方面，多个 图像捕捉设备122的取向可垂直于多维阵列120的平面，以使每个图像捕捉设 备的视场可捕捉基座组件的顶面的至少一部分，并且因此捕捉其上所接受的平面基板的至少一部分。更进一步地，可使多个图像捕捉设备的每一个选择性地 定位在多维阵列的平面内定义的预定坐标中。图像捕捉设备的选择性定位可使 每个图像捕捉设备的视场定位成使它能捕捉基座组件上所接受的基板表面的 所需部分。
参考图2，示出示例性基座组件110。该基座组件110由具有平面顶面112(a) 的平面底板112构成，定该平面顶面112(a)的定尺寸和形状以接受置于其上的 平面基板200。所以，底板可被按比例扩縮至任何所需尺寸以便于容纳从，例 如，面积为若干平方厘米的基板样品至面积为若干平方米的较大的基板样品。 更进一步地，底板优选地由鲁棒且稳定的材料构成，诸如自然或合成的石材。 例如，在一方面，底板由经精磨的花岗岩构成。
基座组件110还可包括用于在相对于底板的预定取向上对准所接受的平 面基板的装置。例如，在一方面，可由一个或多个挡针(fence pin) 114或沿 平面底板的一个或多个边缘定位的停止件来提供平面基板的机械定位。例如， 如所示，可沿底板的两个正交边缘放置多个挡针114。根据此方面，平面底板 112可定义穿过底板的顶面延伸并且配置成接受至少一部分相应挡针的多个 孔。由底板定义的孔可接受多个挡针以提供适用于在所需位置对准基板的示例 性挡板。
在又一方面，基座组件可进一步包括一种用于将平面基板可松开地附着到 底板的顶面的装置。例如，在一方面，底板可进一步定义多个穿过底板的顶面 延伸并且与真空源117选择性地连通的真空口 116。在使用中，可把负压力施 加到覆盖一个或多个真空口的基板表面部分上，以便于将基板可松开地附着到 底板的顶面。替换地，在另一方面，底板的顶面可包括也与真空源117连通的 一个或多个插入多孔片(poroustile)(未示出)。再一次，在使用时，真空源 可将负压力施加到覆盖一个或多个多孔插入片的基板表面部分上，以便于将基 板可松开地附着到底板的顶面。
参考图3，示出了图像捕捉设备122的示例性多维阵列120的示意图。特 别地，每个图像捕捉设备具有预定视场124，并且被定位在与底板112的顶面 的至少一部分平行且叠加对准的平面中。在一个方面，如图4所示，多个图像 捕捉设备122的取向垂直于多维阵列120的平面，以使每个图像捕捉设备的视场可捕捉底板的顶面的至少一部分，并且因此捕捉其上所接受的基板表面200
的至少一部分。如上所述，可使多个图像捕捉设备的每一个选择性地定位在多 维阵列的平面内定义的预定坐标中。每个图像捕捉设备的选择性定位可使每个 图像捕捉设备的视场定位成使它能捕捉底板的顶面的所需部分和/或定位在底 板上的平面基板的所需部分。
在一方面，多维阵列120可以是两维阵列，可选择性地定位在笛卡尔坐标 系的X和Y轴中。替换地，图像捕捉设备的多维阵列120还可以是三维阵列， 可选择性地定位在笛卡尔坐标系的X、 Y和Z轴中。所以，多维阵列可包括任 何所需数目的图像捕捉设备。例如，在一方面，坐标测量装置可包括至少两个 图像捕捉设备。在另一方面，该阵列包括至少三个图像捕捉设备。在又一方面 且如图3和图4所示，多维阵列可包括至少四个图像捕捉设备。
图像捕捉设备的多维阵列可安装在常规台架运动系统上，以使图像捕捉设 备悬挂在装置的底板部分上。根据此方面，可由台架运动系统提供各个图像捕 捉设备的选择性定位，可将该台架运动系统配置成使任何一个或多个图像捕捉 设备选择性地定位在多维阵列的平面内定义的预定坐标中。例如，可用台架运 动系统来使多个图像捕捉设备的任何一个或多个能在与底板的平面平行的平 面中的"x"或"y"轴上横向调整。更进一步地，在另一方面中，图像捕捉设 备的任何一个或多个可在与底板平面至少基本垂直的"z"轴上移动，以便于 相对于底板的顶面升高或降低图像捕捉设备。
可以预期，在一个方面中，可通过电气控制台架系统，以在多维阵列的平 面内定义的预定坐标中使多个图像捕捉设备选择性地定位和锁定，以使适当的 目标在多个图像捕捉设备的视场内。替换地，在另一方面，可以预期，可手动 地控制台架系统，只要适当的目标在特定图像捕捉设备的视场内，就可以使每 个图像捕捉设备选择性地定位和锁定。
在替换方面中，且如图5中的示例所示，可把多维阵列的一个或多个图像 捕捉设备安装在臂组件130上，臂组件130从邻近底板顶面的一部分基座组件 延伸，并且延伸越过底板自身的至少一部分。如所示，可使臂组件的基座部分 选择性地定位在由基座组件的X和Y轴定义的平面内的预定坐标上，以便于 使图像捕捉的视场定位在相对于底板和/或其上所接受的基板表面的所需位置上。例如，可通过调整臂组件的高度来提供Z轴中的运动。替换地，还可通
过相对于臂组件升高或降低图像捕捉设备的位置来提供图像捕捉设备在z轴
的运动。更进一步地，应理解，臂组件可由适用于在底板112的至少一部分上 吊挂一个或多个图像捕捉器件的任何常规材料构成。例如，如附图中所例示地， 臂组件可由按堆叠排列放置的一个或多个块130(a)、 (b)、 (c)构成。在一方面， 这些块可由诸如经精研的花岗岩材料之类的石材形成。
可根据本发明使用的图像捕捉设备可包括基于常规两维电荷耦合器件 (CCD)阵列的模拟和/或数字电子相机。附加地，在一方面中，也可使用基 于常规一维CCD或互补型金属氧化物半导体(CMOS)阵列的电子相机。这 些在本领域中通常被称为行扫描相机。示例性的可购得图像捕捉设备是Teli 型TK5572A7、具有640乘480像素清晰度并配备有Motic PLAN APO EL WD 20X/0.42 WD-20物镜的模拟两维CCD相机。更进一步地，本领域的一名普通 技术人员将理解，在使用模拟相机的那些方面中，该系统将进一步包括与模拟 图像捕捉设备连通的数字转换器。可使用的示例性数字转换器是具有针对4个 相机的多路输入的Matrox Meteor II帧接收器。
还把多个图像捕捉设备设置成与诸如计算机140之类的常规电子设备和 数据处理设备电连通，使该常规电子设备和数据处理设备配置成接收并分析从 多个图像捕捉设备接收的电子图像馈入。例如，可使由每个图像捕捉设备提供 的图像数据发送到计算机，并且为标记或目标位置而进行处理。在一方面，一 旦完成了处理后的测量值，计算机还可以计算玻璃样品的畸变值。
在使用中，本发明的坐标测量设备还提供一种用于测量平面基板中的畸变 的方法。该方法包括提供平面基板，平面基板在其表面上具有可视的多个畸变 基准标记。在一方面中，基板可以是平面的玻璃基板，诸如液晶显示器(LCD) 玻璃板。还可由用于标记的任何常规已知方法提供基板上的多个基准标记。例 如，且非限制，可由划痕、不能消除的墨水、或激光器技术提供基准标记。替 换地，基板自身的一个或多个角落或边缘可适用于作为基准标记。
可使用本发明的图像捕捉组件获得每个基准标记的基准图像，包括相对于 多个基准标记定位以使每个基准标记在多个图像捕捉设备之一的视场中的多 个图像捕捉设备的固定阵列。例如，可把经基准标记的基板样品放置在平面机器基座的顶面上，并且抵靠多个档针而调整或对准到所需位置。然后可起动真 空源以将基板牢固地保持在位。可机械地调整每个图像捕捉设备的位置以使基 板上相应的目标或的基准标记焦点对准，并且在相应的图像捕捉设备的视场之 内。在示例性方面中,且不旨在限制，此调整可涉及三个自由度，即沿与平面基
座表面的顶面至少基本平行的平面的X和Y轴、以及在与平面机器基座的顶
面的平面至少基本垂直的z轴上的运动自由度。在一方面，可由配备有可变焦 距透镜的图像捕捉设备提供Z轴上的运动自由度，该可变焦距透镜可相对于Z 轴调整或聚焦。替换地，还可由图像捕捉设备沿Z轴的相对运动提供Z轴上的 运动自由度，这对于具有单个或固定焦距的图像捕捉设备尤其有用。
一旦调整到所需位置，就可使每个图像捕捉设备牢固地锁定在位。然后可 命令常规计算机以获取并处理来自各个相应的图像捕捉设备的视频输出的各 个基准标记的图像。例如，可用图像的处理来生成并存储指示相应图像捕捉设 备的视场内的各个基准标记的初始位置的数据。在一方面，在尺寸至少基本一 致的样品集的情况下，可按批处理方式进行基板畸变测量。因而，在此方面，
可停止使用真空源以能去除先前样品并且加载后续样品而获得基准图像。通过 重复此工艺，只要相机位置未被扰乱，就可为基准图像测量一系列任何数目的 样品。
在另一方面，多个图像捕捉设备还设置成与诸如计算机之类的常规电子设 备和数据处理设备电连通，该常规电子设备和数据处理设备可接收并分析从多 个图像捕捉设备接收的电子图像馈入。例如，可把每个图像捕捉设备的视频输 出发送到计算机中的数字化硬件，在该计算机中软件抓取图像并为标记或目标 位置处理它们。 一旦完成了处理后的测量，计算机软件还为玻璃样品计算畸变 值。
在获得经标记的平面基板的参考图像之后，然后可使基板经受可导致平面 基板的畸变的任何一个或多个常规制造工艺或处理情况。例如，且非限制性， 处理情况可包括平面基板的切割和/或热退火。
在使平面基板经受致畸变处理情况之后，然后可把平面基板放回底板部分 的顶面以便于获得各个基准标记的处理后的图像。 一旦放置在底板的顶面上， 基板再次抵靠多个档针而调整或对准，并且可再次起动真空源以将基板牢固定地保持在位。然后使用图像捕捉设备的固定阵列在它们用来生成初始基准图像 的相同位置获得每个基准标记的处理后的图像。再一次，可命令常规计算机电 子设备和软件以获取和处理来自各个相应图像捕捉设备的视频输出的各个基 准标记的处理后的图像。例如，可用图像的处理来生成并存储指示相应图像捕 捉设备的视场内的各个基准标记的畸变位置的数据。如上所述，在尺寸至少基 本一致的样品集的情况下，通常按批处理方式进行基板畸变测量。因而，在此 方面，可停用真空源以能去除先前的处理后的样品并且加载后续样品而获得基 准图像。通过重复此工艺，只要相机位置未从生成相应基准图像的初始位置被 扰乱，还可为处理后的图像而测量一系列任何数目的处理后的样品。
在获得各个畸变基准标记的处理后的图像之后，可对各个基准标记的相对 位置与各个相应的畸变处理后的基准标记的相对位置进行比较以在多个图像 捕捉设备的视场内测量在使平面基板经受致畸变处理情况之前和之后的基准 标记的定位之间的任何偏差。因此，可用使用常规数学算法的计算机软件来计 算从处理情况获得的特定样品的总畸变值。例如，在一方面，可用可购得的
Matrox Meteor II帧接收器以及Matrox检査器图像捕捉和分析软件包(都可从 Matrox电子系统有限公司，魁北克(Quebec)，加拿大(Canada)购得)对 图像进行数字化并处理，以提供在各个图像捕捉设备的FOV内的基准标记位 置的XY坐标。
在替换使用中，可用本发明的坐标测量设备来比较多个基板的一个或多个 尺寸参数。例如，可用此测量技术来相对于第一或主基板比较一个或多个第二 (和后续)基板的大小。根据此方面的方法可包括提供平面的第一或主基板， 在其表面上具有多个可视的尺寸基准标记。可使用图像捕捉设备的阵列生成各 个主基板基准标记的基准图像，该图像捕捉设备的阵列被定位在相对于多个基 准标记的预定位置中，以使各个基准标记在多个图像捕捉设备之一的视场中。 然后提供在其表面上具有多个可视的尺寸基准标记的一个或多个第二平面基 板，并且使用定位在与用来生成第一或主基板的基准图像相同的预定位置中的 图像捕捉设备阵列生成各个第二基板基准标记的基准图像。然后可使一个或多 个第二基板的基准图像与主基板的基准图像作比较，以在多个图像捕捉设备的 视场内检测和/或测量第一基板和第二基板尺寸基准标记的定位之间的任何尺寸差异。
根据此方面，基板可以再次是平面玻璃基板，诸如液晶显示器(LCD)玻 璃板。更进一步地，还可由用于标记的任何常规已知方法提供基板上的多个尺 寸基准标记。例如，且非限制，可由划痕、不能消除的墨水、或激光器技术提 供基准标记。替换地，尺寸基准标记可包括基板自身的一个或多个角落或边缘 部分。
在又一方面中，该方法可结合入基板装配或生产线，藉此使针对尺寸差异 被评估的一个或多个第二基板附着到传输系统或者否则被传输系统操作，该传 输系统在图像捕捉设备的阵列的适当视场内使各个后续第二基板定位。因而， 根据此方面，可获得一个或多个第二基板的尺寸测量而无需中断装配或生产 线。
最后，应理解，虽然已关于某些说明性的且具体的实施例详细描述了本发 明，但是不应认为被限制于此，因为多个修改是可能的而不背离由权利要求书 所定义的本发明的宽泛的精神和范围。
权利要求
1.一种用于测量平面基板中畸变的方法，所述方法包括以下步骤提供平面基板，在其表面上具有可视的多个畸变基准标记，使用图像捕捉设备的阵列生成各个基准标记的基准图像，使所述图像捕捉设备的阵列定位在相对于所述多个基准标记的预定位置中以使各个基准标记在所述多个图像捕捉设备之一的视场中；使所述平面基板经受致畸变处理情况；使用在所述预定位置中的图像捕捉设备的阵列生成各个基准标记的处理后的图像；以及将各个基准图像的处理后的图像与各个基准标记的基准图像进行比较以在所述多个图像捕捉设备的视场内测量在使所述平面基板经受所述致畸变处理情况之前和之后的所述基准标记的定位之间的任何偏差。
2. 如权利要求l所述的方法，其特征在于，所述基板是玻璃。
3. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述致畸变处理情况是热退火。
4. 如权利要求l所述的方法，其特征在于，所述致畸变处理情况是切割。
5. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，同时生成各个基准标记的基 准图像。
6. 如权利要求1所述的方法，其特征在于，同时生成各个基准标记的处 理后的图像。
7. —种用于比较两个或更多个平面基板的尺寸参数的方法，所述方法包 括以下步骤提供平面主基板，在其表面上具有可视的多个尺寸基准标记，使用图像捕捉设备的阵列生成各个主基板基准标记的基准图像，使所述图像捕捉设备的阵列定位在相对于所述多个基准标记的预定位置中以使各个基准标记在所述多个图像捕捉设备之一的视场中；提供第二平面基板，在其表面上具有可视的多个尺寸基准标记； 使用定位在所述预定位置的图像捕捉设备的阵列生成各个第二基板基准标记的基准图像；以及将所述第二基板的基准图像与所述主基板的基准图像进行比较以在所述多个图像捕捉设备的视场内测量所述第一基板和第二基板尺寸基准标记的定 位之间的任何尺寸差异。
8. 如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述尺寸基准标记包括所述 第一和第二基板的一个或多个边缘部分。
9. 如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述尺寸基准标记包括所述 第一和第二基板的一个或多个角落部分。
10. 如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述主和第二基板是玻璃。
11. 如权利要求7所述的方法，其特征在于，包括提供多个第二平面基板， 在各个的表面上具有可视的多个尺寸基准标记；使用定位在所述预定位置的图像捕捉设备的阵列生成所述多个第二平面 基板的每一个的各个第二基板基准标记的基准图像；以及将所述多个第二基板的每一个的基准图像与所述主基板的基准图像进行 比较以在所述多个图像捕捉设备的视场内测量所述主基板和所述多个第二基 板尺寸基准标记的定位之间的任何尺寸差异。
12. —种用于测量平面基板中的畸变的坐标测量装置，其包括 基座组件，其包括具有配置成接受所述平面基板的顶面的底板；以及 图像捕捉设备的多维阵列，各个图像捕捉设备具有视场并且被定位在与所述底板的顶面的至少一部分平行且叠加对准的平面中；其中使所述多个图像捕捉设备取向成与所述多维阵列的平面垂直，以使各 个图像捕捉设备的视场可捕捉所述底板的顶面的至少一部分；以及其中可使所述多个图像捕捉设备的每一个选择性地定位在所述多维阵列 的平面内定义的预定坐标中。
13. 如权利要求12所述的坐标测量装置，其特征在于，所述基座组件进 一步包括一种用于相对于所述底板对准所接受的平面基板的装置。
14. 如权利要求12所述的坐标测量装置，其特征在于，所述基座组件进 一步包括一种用于将所述平面基板可松开地附着于所述底板的装置。
15. 如权利要求12所述的坐标测量装置，其特征在于，所述底板由石材构成。
16. 如权利要求15所述的坐标测量装置，其特征在于，所述石材是花岗山石。
17. 如权利要求12所述的坐标测量装置，其特征在于，所述多维阵列是 两维阵列。
18. 如权利要求12所述的坐标测量装置，其特征在于，所述多维阵列是 三维阵列。
19. 如权利要求12所述的坐标测量装置，其特征在于，所述多维阵列包 括至少三个图像捕捉设备。
20. 如权利要求12所述的坐标测量装置，其特征在于，所述多维阵列包 括至少四个图像捕捉设备。
21. 如权利要求12所述的坐标测量装置，其特征在于，所述图像捕捉设 备是相机。
22. 如权利要求12所述的坐标测量装置，其特征在于，图像捕捉设备的 多维阵列进一步包括台架系统，所述台架系统用于将所述图像捕捉设备选择性 地定位在所述多维阵列的平面内定义的预定坐标中。
23. 如权利要求22所述的坐标测量装置，其特征在于，可手动地控制所 述台架系统使所述图像捕捉设备定位在所述多维阵列的平面内定义的预定坐 标中。
24. 如权利要求22所述的坐标测量装置，其特征在于，可电气地控制所 述台架系统使所述图像捕捉设备定位在所述多维阵列的平面内定义的预定坐 标中。
25. 如权利要求12所述的坐标测量装置，其特征在于，所述多个图像捕 捉设备与计算机电连通，所述计算机可接收并分析来自所述多个图像捕捉设备 的电子图像馈入。
全文摘要
公开了一种用于测量一个或多个平面基板中畸变和或尺寸变化的坐标测量装置。在一方面，坐标测量装置包括基座组件，其包括底板，该底板具有配置成接受平面基板的顶面；以及图像捕捉设备的多维阵列，每个图像捕捉设备具有视场并且被设置在与底板的顶面的至少一部分平行且叠加对准的平面中。使多个图像捕捉设备的取向与多维阵列的平面垂直，以使各个图像捕捉设备的视场可捕捉底板的顶面的至少一部分。进一步地，可使多个图像捕捉设备的每一个选择性地定位在多维阵列的平面内定义的预定坐标中。
文档编号G01B11/245GK101542231SQ200780042959
公开日2009年9月23日 申请日期2007年11月16日 优先权日2006年11月21日
发明者R·W·夏普斯 申请人:康宁股份有限公司