专利名称：膜缺陷检查方法及装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种膜缺陷检查方法及装置，特别是涉及一种用于对旨在 制造相位差膜的基底膜的表面(涂布侧面)发生的伤痕等微细缺陷高精度 地进行检测的膜缺陷检査方法及装置。
背景技术：
相位差膜等光学膜的制造，大体可以分为由对基底膜进行制膜的制 膜工序；以及在制膜所得的基底膜进行涂布配向层涂布液、液晶性涂布液 等处理的涂布工序这两个的工序构成。
并且，即使是在制膜工序中在基底膜表面产生的极其微细的微细缺 陷(例如伤痕等的凹凸缺陷)，在涂布工序中涂布配向层涂布液、液晶性 涂布液之际，有时也作为涂布缺陷而发现。并且，由该基底膜的微细缺陷 引起的涂布缺陷成为降低最终制品即相位差膜等光学膜的光学特性的致 命性原因。作为微细缺陷发生的代表例，存在由于附着于在制膜工序中被 搬送的带状的膜表面的異物的刮擦(擦^)而在膜搬送方向产生v字状的 伤痕的情况。
作为对这种膜表面缺陷进行检查的装置，存在例如专利文献1的检査 装置。该检查装置，利用CCD线形传感器对从以相对于膜搬送方向垂直的 方式而配置的棒状的荧光灯向膜面照射的光进行受光而形成图像信号，并 通过由图像处理装置对图像信号进行处理，而对膜表面的色不均、伤痕等 缺陷进行检测。在专利文献l中，作为所涉及的检查装置的灵敏度上升对 策，在膜背面配置暗视野箱(求、乂夕7)。
专利文献1特开2003 — 139524号公报
然而，在专利文献1的检査装置中，存在不能够对深度为O. lum以 下的微细缺陷高灵敏度地进行检测的问题。在相位差膜等的光学膜的制造 中成为问题微细缺陷，是宽5 30um、长度30 250um，深度0. 04 0. 1
4W m的极其微细的伤痕，需要对这种极其微细的伤痕高精度进行检查。
作为提高微细缺陷的检测灵敏度的对策的其中之一，可以考虑通过 在滚筒上巻挂(巻t掛^3)所被搬送的带状的膜，而在对阻害微细缺陷 的检测的膜的褶皱、粘连(、乂^)进行校正的状态中进行检查。可是，若 在滚筒上巻挂膜，则由于滚筒周面的弯曲性而使得受光机和膜的检查区域 面的距离不固定，因此从被拍摄景深(被写界深度)偏离，因图像变得模 糊而相反使得灵敏度降低。
因此，需要将所被搬送的膜的检査区域面置于容易将被拍摄景深保持 为固定的空中悬浮(浮V、)的状态，并且使得能够保持没有褶皱、粘连的 平面性。
发明内容
本发明鉴于这种情形而提出，甚至对于在膜表面产生的微细缺陷也能 够高灵敏度地进行检测，因此目的在于提供一种在用于对相位差膜等光学 膜进行制造的基底膜的微细缺陷检查中较为适用的膜缺陷检查方法及装 置。
本发明的第l项中，为了实现所述目的，而提供一种膜缺陷检査方法， 其中，在利用受光机对从投光机向膜表面照射的检查光在膜表面所反射的 反射散射光进行检测，并基于检测结果对所述膜表面的微细缺陷进行检査 的膜缺陷检查方法中， 一边对所述膜沿其长度方向及宽方向牵引而保持膜 的平面性，一边在将所述投光机与所述微细缺陷的发生方向大致平行地配 置的状态中将所述检査光照射到所述膜表面，并且在与所述微细缺陷的发 生方向大致平行地配置所述受光机的状态中，对所述反射散射光进行受 光。
这里，所谓"与微细缺陷的发生方向大致平行"，优选为相对于与微 细缺陷完全平行的配置，在土15。以'内，更优选为在士10。以内。
根据本发明的第1特征，在从与微细缺陷的发生方向大致平行配置的 投光机向膜表面照射检查光、并与微细缺陷的发生方向大致平行地配置受 光机的状态中，对由膜面反射的反射散射光进行受光。由此，能够从相对
于形成在膜面的微细缺陷(例如v字状的伤痕面)大致成直角的方向照射检查光。因此，与从相对于微细缺陷的发生方向垂直配置的投光机向膜表 面照射检査光相比，能够增大反射散射光的强度。同样，通过与微细缺陷 的发生方向大致平行地配置受光机，能够增大反射散射光的受光量。作为 受光机，适宜使用CCD线形传感器，并以多数的受光元件与微细缺陷的发 生方向大致平行的方式排列。
此外，在本发明的第2的特征中， 一边对膜沿其长度方向及宽方向进 行牵引而保持膜的平面性--边对膜进行检查，因此能够在将膜的检査面悬 浮于空中的状态、且没有膜的褶皱、粘连的状态中进行检査。因此，可以 不像以往那样为了对膜的褶皱、粘连进行校正而巻挂在滚筒上，从而也能 够解决受光机和膜检查区域面的距离不固定之类的问题。
根据这两个特征，即使是在膜面上形成的宽5 30pm、长度30 250 U m、深度O. 04 0. lum的极其微细的缺陷，也能够得到可检测的检测 灵敏度。
本发明第2项的特征在于，在本发明第l项中，所述膜作为被连续搬 送的带状膜而被制造，所述微细缺陷的发生方向是膜搬送方向。
本发明第2项中，在膜不是作为单叶状的膜被制造，而是作为被连续 搬送的带状膜而被制造的情况下，由于膜搬送方向上形成的微细伤痕是特 征性的(特徴的)，因此，与微细缺陷的发生方向大致平行地配置投光机 和受光机，在检测灵敏度的提高方面更为重要。
本发明第3项的特征为，在本发明第l项或第2项中，所述膜表面的 微细缺陷是宽5 30iim、长度30 250um、深度0. 04 0. lum6勺伤痕。
本发明第3项，规定了要求高精度的检测的微细缺陷的具体的尺寸， 在例如相位差膜的那样的光学膜的制造中，这种程度的极其微细的缺陷能 够成为降低光学膜的光学特性的致命的缺陷。
本发明第4项的特征在于，在本发明第1 3项的其中l项中，所述 膜是用于制造相位差膜的基底膜。
本发明第4项中，规定了本发明特别发挥效果膜的用途，即使是如 相位差膜那样是微细缺陷，在成为光学特性低下的致命的缺陷的情况下， 本发明也能够特别发挥效果。
本发明第5项为了达到前述目的，而提供一种膜缺陷检査装置，其中，对向膜表面照射的检査光在膜表面反射的反射散射光进行检测，并基于检 测结果对所述膜表面的微细缺陷进行检查，该膜缺陷检查装置备有投光 机，其与所述微细缺陷的发生方向大致平行地被配置，并向所述膜表面照 射所述检查光；受光机，其与所述微细缺陷的发生方向大致平行地配置， 并对所述反射散射光进行检测；以及牵引机构，其对所述膜沿其长度方向 和宽方向进行牵引而保持膜的平面性。
本发明第5项，是将本发明作为装置而构成技术方案，与微细缺陷 的发生方向大致平行地配置投光机和受光机，并且在利用牵引机构沿膜的 长度方向及宽方向进行牵引而保持膜的平面性的状态中对膜进行检査，因 此即使是在膜面形成的宽5 30um、长度30 250um、深度0. 04 0. 1 iim的极其微细的缺陷，也能够得到可检测的检测灵敏度。
本发明第6项的特征在于，在本发明第5项中，所述膜是被连续搬 送的带状膜，且在膜制造生产线中对膜表面的微细缺陷进行在线检查，并 且与膜搬送方向大致平行地配置所述投光机和所述受光机。
本发明第6项中，在膜并非作为单叶状的膜而被制造、而是作为连续 搬送的带状膜而被制造的情况下，膜搬送方向上形成的微细伤痕是特征性 的，因此与微细缺陷的发生方向大致平行地配置投光机和受光机，在检测 灵敏度的提高方面，更为重要。在如此被搬送的在线检查的情况下，带状 膜的长边方向因搬送而被牵引，因此容易产生褶皱、粘连，于是作为牵引 机构，需要对膜宽方向进行牵引，并对褶皱、粘连进行校正而保持平面性。
本发明第7项的特征在于在本发明第5项或第6项中，设置对所述 投光机和所述受光机进行搭载且在所述膜的宽方向移动的横动装置。
在与微细缺陷的发生方向大致平行地配置投光机及受光机的本发明 中，为了膜被连续搬送的情况下的膜全宽检査，设置对投光机和受光机进 行搭载而一体地在膜的宽方向移动的横动装置，在提高灵敏度向方面较为 优选。
本发明第8项的特征在于，在本发明第5 7项的其中一项中，在所 述受光机的所述膜背面侧，设置对透过所述膜的检査光的反射进行防止透 过光反射防止机构。
如本发明第8项那样，由于在受光机的膜背面侧，设置了对透过膜后的检査光的反射进行防止的透过光反射防止机构，因此能够抑制受光机 对膜背面的外乱光进行受光。因此，由于在上述的本发明的特征中加入了 本发明第8项的特征，因此能够进一部提高检测灵敏度。
本发明第9项是在本发明第5 8项的其中一项中，将所述受光机的
光轴与所述投光机的正反射光所成的角度设为e时，以满足一20° ^ e s
+ 20° (除了0。外)的反射配置所述投光机和所述受光机。
这里，根据来自微细缺陷的反射散射光的强度分布，越是接近于正反
射光的角度，越能够增加光量，因此通过以角度e满足一20°芸e ^+20
° (除了0°外)的方式配置投光机和受光机，能够进一步提高微细缺陷的
检测灵敏度。更优选为角度e是一io。s e ^ + 10° (除了o。外)。这里使 e是除了 0。外的角度，表示除去(除<)正反射光直接入射到受光机的 情况。
本发明第io项的特征在于在本发明第5 9项的其中一项中，所述
受光机相对于所述膜面正对而配置，在所述受光机的左右两侧配置2台的
投光机。
根据本发明第10项，从配置在相对于膜面正对的受光机的左右两侧 的2台的投光机，照射与微细缺陷的发生方向大致平行的检查光，能够与
由微细缺陷的左右形状引起的不同无关地，进行稳定的高灵敏度的检测。
本发明第ll项的特征在于，在本发明第5 10项的其中一项中，所 述投光机在所述膜面的照度是30万Lx以上。
为了对作为检査对象的宽5 30y m、长度30 250iim、深度0. 04 0. lym的极其微细的缺陷高灵敏度地进行检测，而优选为膜面处的照度 为30万Lx以上:。
另外，为了对作为检査对象的宽5 30nm、长度30 250ym、深度 0. 04 0. lum的极其微细的缺陷高灵敏度地进行检测，而优选为附加 以下的构成即，在受光机和膜面之间备有偏振板，对反射散射光中的仅 向一方向振动的光进行受光。该情况下，由受光机受光的受光量降低，因 此与投光机的照度的关系变得重要。
另外，是在投光机或受光机和膜面之间设置波长截止滤光器(力、乂卜 7<》夕)，并且作为检查光使用400nm以下的短波长光的构成。这是出于如下缘故即由于作为检查对象的微细缺陷的深度比可见光的波长小， 因此波长较长的光对散射不产生影响。由于有选择地使用短波长的检查 光，因此能够对微细缺陷高灵敏度进行检测。例如，作为检査光使用紫外 线，因此即使是数nm的深度的微细缺陷，也能够高灵敏度进行检测。
根据本发明，甚至是在膜表面产生的微细缺陷也能够高灵敏度地进行
检测。因此，能够提供一种膜缺陷检査方法及装置，其适用于旨在对相位 差膜等光学膜进行制造的基底膜的缺陷检査。
图1是本发明的膜缺陷检查装置的概念图。
图2是说明投光机和受光机的位置关系的说明图。
图3是由投光机和受光机的位置关系的不同引起的反射散射光的强
度的说明图。
图4是相对于受光机配置两个的投光机的图。
图5是膜缺陷检査装置的牵引机构的说明图。
图6是构成牵引机构的移动机构的说明图。
图7是对基于牵引机构的作用进行说明的说明图。
图8是以往的膜缺陷检查装置的概念图。
图9是本发明的实施例及比较例的表图。
图中10…膜缺陷检査装置，12…透明膜，14…微细伤痕，16、 18 …搬送滚筒，20…检査光，22…投光机，24…受光机，26…牵引机构，28 …图像处理装置，30…受光机的光轴，32…夹紧装置，34…张力装置，36 …牵引机构的移动机构，38、 40…滑轮(7。一y)， 42…无端头链条，44 …理想水平面。
具体实施例方式
以下，基于附图对本发明的膜缺陷检査方法及装置的优选实施的方式 进行详细说明。
图1是表示本发明的膜缺陷检査装置10的一例的概念图，图l (A) 是表示膜缺陷检査装置10的全体的概念图，图1 (B)是对V字状的微细伤痕14进行检査的部分放大图。
如图l (A)所示，带状的透明膜12，沿箭头符号F方向被搬送，并 在两根的搬送滚筒(口一，) 16、 18彼此之间，在悬浮于空中的状态中 被检査。两根搬送滚筒16、 18的间隔(从滚筒面到滚筒面)，优选为是 150 200mra左右(程度)。
膜缺陷检査装置10，可以被组入(組^込t )制造透明膜12的制造 生产线(，一y)，或者也能够作为离线(才7，一:/)对在制造生产线中 制造的透明膜12进行检査的专用装置而设置。在作为专用装置而设置设 置的情况下，在搬送滚筒16的上游侧设置将缠绕(巻回)成巻(口一》) 状的透明膜12送出的送出机(未图示)，并且搬送滚筒18的下游侧设置 巻取机(未图示)，通过巻取而搬送透明膜12。
即使在任何的情况下，透明膜12也能够利用如下方法制造即将熔 融状态的树脂从铸模(夕、、一)(未图示)向冷却鼓(H、，厶)(未图示)以 膜状流延(流延)而成形的方法(熔融制膜法)；或者将树脂溶解于溶剂 的剂料(K一7。)从铸模向冷却鼓以膜状流延而成形的方法(溶液制膜法)。 为此，容易在流延方向即透明膜12的搬送方向中形成微细伤痕14。另外， 在将透明膜12作为用于对相位差膜等光学膜进行制造的基底膜(^一7 7<》厶)而使用的情况下，出现如下问题即微细伤痕14的尺寸是宽 5 30ym、长度30 250um、深度O. 04 0. lnm的极其微细伤痕。
膜缺陷检査装置10，主要由如下装置构成即与微细伤痕14的发 生方向大致平行地被配置、将检查光20照射到透明膜12面的投光机22; 与微细伤痕14的发生方向大致平行地被配置，对由膜表面反射的反射散 射(散乱)光进行检测的受光机24;将透明膜12沿其长度方向及宽方向 牵引(引o張3)而对透明膜12的检查区域面的平面性进行保持的牵引 (引張0)机构26。投光机22及受光机24被配置在透明膜12的出现了 微细伤痕14的膜表面的上方位置，并且受光机24配置在投光机22的正 反射光直接入射的位置。
作为投光机22，优选为棒状，从而能够与微细伤痕14的发生方向 大致平行地被配置。这里，所谓"与微细伤痕14的发生方向大致平行"， 是指在把与微细伤痕14的发生方向完全平行的配置作为0°时，优选为是士15。以内，更优选为是±10°以内。由此，如图l (B)所示，能够从相
对于形成于透明膜12面的V字状的微细伤痕14的伤痕面14A呈大致直 角的方向向侧方照射检査光20，因此与从相对于微细伤痕14的发生方向 垂直的方向照射检查光20湘比，能够进一步增大反射散射光的强度。
作为投光机22能够使用荧光灯，但是由于是微细伤痕i4，伤痕的深 度极其浅(例如O. liim以F)，因此优选为能够照射短波长的检査光20， 并优选能够使用紫外线照射装置。因此，为了从通常的荧光灯仅取出短波 长的检査光，而在投光机22和透明膜12面之间，设置波长截止滤光器(力 、乂卜7 Y》夕)(未图示)。
另外，优选为，通过在投光机22或受光机24与透明膜12面的间设 置偏振板(偏光板)(未图示)，而使用沿一定方向振动的检査光20。
优选为，投光机22的照度，在透明膜12面中的照度为30万Lx以上。
作为受光机24，能够适宜使用CCD线形传感器(，,yir乂廿)，并 将CCD线形传感器的多数的受光元件与微细伤痕14的发生方向大致平行 地配置。如此，能够将受光机24与微细伤痕14的发生方向大致平行地配 置，因此能够增大反射散射光的受光量。这里，所谓"大致平行"，与针 对投光机22所说明的情况同样。
CCD线形传感器可以是1个，但优选为串行(直列)地配置多个。在 图l (A)中，以将两个CCD线形传感器串行地配置的情况进行了图示， 但是也可以是3个以上。
投光机22和受光机24，被搭载于未图示的横动(卜)装置， 并沿图1 (A)的A — B方向移动。由此，能够覆盖透明膜12的全宽地 进行检查。另外，通过将多个受光机24横跨透明膜12的全宽而并列配置， 能够省略横动装置。
由受光机24所受光的反射散射光，被变换为电信号并输入到图像处 理装置28，并基于由图像处理装置28形成的透明膜12的图像(例如由 微细伤痕14引起图像的浓淡)，检查微细伤痕14的有无。
图2是表示投光机22和受光机24的配置关系的图。
如图2所示，优选为，当将受光机24的光轴30和投光机22的正反 射光a所成的角度设为e时，以满足一20。S 6 ^+20° (除了 0°外)的
ii方式配置投光机22和受光机24。由此，能够提高检测灵敏度。这是出于
如下缘故即根据从微细伤痕14反射的反射散射光的强度分布，越是与 正反射光接近的角度e ，越能够增加光量，并能够进一步提高微细伤痕
14的检测灵敏度。更优选为，角度e是一io。芸e s + io° (除了o。外)。
在使受光机24与透明膜12面正对的图3的例中，对该反射散射光 的强度分布进行说明，则图3 (A)是角度e满足一20°^ e ^+20° (除 了0。外)的情况，图3 (B)是不满足的情况。并且，箭头符号a表示正 反射光，箭头符号b表示向受光机24的光轴方向反射的反射散射光，箭 头符号c表示其他的反射散射光，箭头符号较长的一方表示反射散射光的 强度较强。
如从图3 (A)和图3 (B)的对比所明了的那样，可知受光机24 的光轴30和正反射光a的角度e越小，向受光机24的光轴方向30反射 的反射散射光b的长度越长，强度越强。
另外，优选为，如图4所示，受光机24相对于透明膜12面正对而配 置，在受光机24的左右两侧配置2台的投光机22、 22。这是出于如下缘 故即通过从在相对于透明膜12面而正对的受光机24的左右两侧配置的 2台的投光机22照射与微细伤痕14的发生方向大致平行的检査光20，能 够与由微细伤痕14的左右形状(图1 (B)参照)引起的不同无关地进 行稳定的高灵敏度的检测。
图5是牵引机构26的一例，透明膜12的长边(長手)方向(搬送方 向)因为膜搬送而被施加着张力，因此是对膜宽方向进行牵引的牵引机构 26。
如图5所示，牵引机构26主要由如下装置构成即对透明膜12的宽 方向两端部进行夹入(挟^込tiO的一对的夹紧装置32;以及通过对一 对的夹紧装置32进行支撑并以相互远离的方式移动而对透明膜12施加宽 方向的张力的张力装置34。
为了一边对透明膜12进行搬送一边使牵引机构26动作，而需要和透 明膜12的搬送一起移动张力装置34，并能够适宜地采用使图6的膜横延 伸的拉幅(X乂夕一)装置的移动机构36。 g卩，如图6所示，设置多个 对透明膜12的宽方向两端部进行夹入的夹紧装置32，并通过张力装置34(图6中省略)由在两根的滚筒16、 18彼此之间配置的一对的滑轮(7°
一y) 38、 40上挂渡(掛rt渡sti)的无端头链条(無端状千工一y)
42所支撑。并且，使无端头链条42的旋转移动和透明膜12的搬送的速 度相同。另外，夹紧装置32，在滚筒16的位置对透明膜12进行夹紧， 并在滚筒18的位置将夹紧解除。由此，能够和透明膜12的搬送一起地移 动夹紧装置32。另外，仅在图6中在透明膜12的宽方向一方侧图示了移 动机构36,另一方侧省略。
另外，将膜缺陷检查装置IO作为上述的专用装置而设置的情况下， 能够在检査中停止膜搬送，因此没有必要在该情况—卜设置移动机构36。 因此，也可以，如图1所示，与膜宽方向相面对地设置--'对能够在透明膜 12的长边方向以长尺寸夹紧的夹紧装置32，并由各个的张力装置34所牵引。
通过设置该牵引机构26，能够一边对透明膜12在其长度方向(搬送 张力)及宽方向(牵引机构26)进行牵引而保持透明膜12的平面性，一 边进行检査，因此即使在将透明膜12的检査区域面悬浮于空中的状态下， 也能够在没有褶皱(〉17)、粘连(、乂^)的状态中进行检査。由此，能 够进一步提高检测灵敏度。
作为优选的平面性的程度，优选为，在将透明膜12的膜面高低为0 ixm作为理想水平面44时，能够使由褶皱、粘连产生的膜面的高低为士 150um以内，更优选为是士100um以内。另外，优选为，膜面相对于理 想水平面44的倾斜a为1°以内，更优选为是O. 5°以内。由此，即使不 如以往那样为了校正透明膜12的褶皱、粘连而巻挂在滚筒上也可以，因 此也能够解决受光机24和所被检查的检査区域面的距离不固定的问题。
图7表示由透明膜12面的倾斜a引起的反射散射光的强度分布，与 图3中所说明的同样，箭头符号a表示正反射光，箭头符号b表示向受光 机24的光轴方向反射的反射散射光，箭头符号c表示其他的反射散射光， 箭头符号较长的一方，表示反射散射光的强度较强。
如从图7所明了的那样，可知若在透明膜12面存在倾斜a ，则受 光机24的光轴30和正反射光的角度e变大，向受光机24的光轴方向反 射的箭头符号b的长度较短，反射散射光的强度变弱。在图7中，虽然以透明膜12全体倾斜的方式进行了描绘，但是若微观地观察褶皱、粘连的 部分，则能够作为膜面的倾斜而而采用，若褶皱、粘连存在，则检测灵敏 度降低。
另外，如图5所示，优选为在受光机24的透明膜12背面侧，设置用 于对透过透明膜12后的检查光20的反射进行防止的光吸收箱46。例如， 以涂布消除光泽(o中消L)的黒色涂料，光的反射率极度降低的方式形 成光吸收箱46。由此，能够抑制受光机24对透明膜12背面的外乱光进 行受光。因此，能够进一步提高检测灵敏度。
另外，在本实施的方式中，以搬送的带状的透明膜12的例进行了说 明，但是也能够对单叶状(単葉状)的透明膜12适用本发明。另外，虽 然以透明膜12的例进行了说明，但是对于不透明的膜也能够适用。
实施例
接下来，对按照以下的条件实施的本发明的实施例及比较例进行说明。
将利用熔融制膜法所制膜的纤维素(ir》口一77、乂P—卜)膜作为 检査对象膜，并使用本发明的膜缺陷检査装置(实施例的装置)或以往的 膜缺陷检査装置(比较例的装置)，而检查在该膜表面发现的微细伤痕(微 细缺陷)。伤痕的尺寸(大含$)是，宽10ym、长度210ym、深度0. 05 y m的极其微细的伤痕，微细伤痕形成在来自基于熔融制膜的成形铸模 (夕、V)的压出(押L出L)方向，即膜搬送方向。将实施例1 4的检 査条件和比较例1 3的检査条件合并进行检查的结果在图9中示出。 (实施例1)
实施例1中，以与微细伤痕14的发生方向平行的方式配置投光机22 及受光机24，并且使用对膜12的平面性进行保持的牵引机构26。作为投 光机22使用棒状的荧光灯，作为受光机24使用CCD线形传感器，并在受 光机24的两侧配置两个投光机22。此时的膜12表面的照度是3500Liix。 另外，使受光机24和正反射光机的角度e为10°。并且，在搬送滚筒16、 18之间的膜背面不特别配置对膜12进行支撑的物体，在膜12,被空中搬 送的途中进行检査。 (实施例2)实施例2中，除了将投光机22的数目作为1个而使膜12表面的照度 为1800Lux这一点，以及使受光机24和正反射光的角度e为5。这一点以 外，是与实施例l相同的条件。 (实施例3)
实施例3中，除了使受光机24和正反射光和的角度e为10°这一点 以外，是与实施例2相同的条件。 (实施例4)
实施例4中，除了使受光机24和正反射光的角度e为20。这一点以 外，是与实施例2相同的条件。 (比较例1)
比较例1中，以与微细伤痕14的发生方向成为直角(垂直)的方式 配置投光机22及受光机24，并使用保持膜12的平面性保持的牵引机构 26。作为投光机22，使用1根棒状的荧光灯，作为受光机24，使用CCD 线形传感器。此时的膜表面的照度是1800Lux。并且，搬送滚筒16、 18 之间的膜背面不特别配置对膜12进行支撑的物体，膜12在被空中搬送途 中被检查。即，比较例1中，在以与微细伤痕14的发生方向呈直角(垂 直)的方式配置投光机22及受光机24这一点，不满足本发明。
(比较例2)
比较例2中，以与微细伤痕14的发生方向平行的方式配置投光机22 及受光机24，但是不使用对膜12的平面性进行保持的牵引机构26。作为 投光机22，使用1根棒状的荧光灯，作为受光机24使用CCD线形传感器。 此时的膜12表面的照度是1800Lux。另外，使受光机24和正反射光和的 角度e为10°。并且，在搬送滚筒16、 18之间的膜背面不特别配置对膜 12进行支撑的物体，膜12在被空中搬送的途中被检査。g口，比较例2中， 在不使用牵引机构26这-'点，不满足本发明。 (比较例3)
比较例3中，作为不使用牵引机构26的替代，通过在膜背面配置支 撑(A、y夕7:y:7。)滚筒而对膜进行巻挂，从而对膜12的褶皱、粘连进 行校正。其他的条件与比较例2同样。g卩，比较例3中，在作为牵引机构 26的替代使用支撑滚筒这一点不满足本发明。并且，根据是否能够确认到微细伤痕14的缺陷信号而评价检査性能。 图9的 中，表示完全没有噪声，能够极其良好地确认缺陷信号的情况，
O表示几乎没有噪声、能够良好地确认到缺陷信号的情况。另外，A表示 噪声稍有增加，但是能够确认缺陷信号，是能够使用的性能的情况。x表
示噪声、褶皱、粘连等检查阻碍要因较多，而不能够确认缺陷信号或不能 够判別的情况。
如图9的项目"判断"中所表示的结果那样，实施例1中是 ，实施 例2及3中是0，实施例4中是A的评价。
与此相对，不满足作为本发明的基本的构成的对平面性进行保持(牵 引机构26的使用)的同时与微细伤痕14平行地配置投光机22及受光机 24而进行检查这一条件的比较例1 3全都是X的评价。
权利要求
1、一种膜缺陷检查方法，其中，利用受光机对从投光机向膜表面照射的检查光在膜表面所反射的反射散射光进行检测，并基于检测结果对所述膜表面的微细缺陷进行检查，一边将所述膜沿其长度方向及宽方向牵引而保持膜的平面性，一边在将所述投光机与所述微细缺陷的发生方向大致平行地配置的状态中将所述检查光照射到所述膜表面，并且在与所述微细缺陷的发生方向大致平行地配置所述受光机的状态中，对所述反射散射光进行受光。
2、 根据权利要求l所述的膜缺陷检查方法，其特征在于， 所述膜作为被连续搬送的带状膜而被制造，并且所述微细缺陷的发生方向是膜搬送方向。
3、 根据权利要求1或2所述的膜缺陷检査方法，其特征在于， 所述膜表面的微细缺陷是，宽5 30pm、长度30 250um、深度0. 04 0. lum的伤痕。
4、 根据权利要求1 3中任一项所述的膜缺陷检查方法，其特征在于， 所述膜是用于制造相位差膜的基底膜。
5、 一种膜缺陷检查装置，对向膜表面照射的检査光在膜表面所反射 的反射散射光进行检测，并棊于检测结果对所述膜表面的微细缺陷进行检 查，其特征在于，该膜缺陷检查装置备有投光机，其与所述微细缺陷的发生方向大致平行地被配置，并向所述 膜表面照射所述检査光；受光机，其与所述微细缺陷的发生方向大致平行地被配置，并对所述 反射散射光进行检测；以及牵引机构，其对所述膜，沿其长度方向和宽方向进行牵引而保持膜的 平面性。
6、 根据权利要求5所述的膜缺陷检査方法，其特征在于， 所述膜是被连续搬送的带状膜，由膜制造生产线对膜表面的微细缺陷进行在线检査，并以与膜搬送方向大致平行的方式配置所述投光机和所述受光机。
7、 根据权利要求5或6所述的膜缺陷检查方法，其特征在于， 设置搭载所述投光机和所述受光机并在所述膜的宽方向上移动的横动装置。
8、 根据权利要求5 7中任一项所述的膜缺陷检查方法，其特征在于，在所述受光机的所述膜背面侧，设置对透过所述膜后的检査光的反射 进行防止的透过光反射防止机构。
9、 根据权利要求5 8中任一项所述的膜缺陷检査方法，其特征在于， 将所述受光机的光轴和所述投光机的正反射光所成的角度设为e时，以满足一20°^ e ^+20。的方式，配置所述投光机和所述受光机，其中，这里的e除了 0°以外。
10、 根据权利要求5 9中任一项所述的膜缺陷检査方法，其特征在于，所述受光机相对于所述膜面正对而配置，在所述受光机的左右两侧配 置2台投光机。
11、 根据权利要求5 10中任一项所述的膜缺陷检查方法，其特征在于，所述投光机在所述膜面的照度是30万Lx以上。
全文摘要
本发明公开一种膜缺陷检查方法和装置，在由受光机(24)对从投光机(22)向透明膜(12)面照射的检查光(20)在膜表面所反射的反射散射光进行检测，并基于检测结果对膜表面的微细伤痕(14)进行检查的膜缺陷检查方法中，一边对透明膜(12)沿其长度方向及宽方向进行牵引而保持膜的平面性，一边在与微细伤痕(14)的发生方向大致平行地配置投光机(22)的状态将检查光(20)照射到膜表面，并且在与微细伤痕(14)的发生方向大致平行地配置受光机(24)的状态中对反射散射光进行受光。由此甚至是膜表面产生的微细缺陷也能够高灵敏度进行检测。
文档编号G01N21/892GK101551343SQ20091012972
公开日2009年10月7日 申请日期2009年3月24日 优先权日2008年3月31日
发明者中岛健, 樋口学, 高桥英一, 龟井浩之 申请人:富士胶片株式会社