基板支撑台和具有基板支撑台的基板检查设备的制作方法

专利名称：基板支撑台和具有基板支撑台的基板检查设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种基板支撑台和一种具有所述基板支撑台的基板检查设 备。更明确地说，本发明涉及一种基板支撑台和一种具有所述基板支撑台 的基板检查设备，其可通过改进检查效率和减少生产时间(tact time)的 量来改进生产率，且通过防止需要不必要的外围装置，并通过使用单个检 查设备共同地执行凹痕4企查(dent inspection)和裂缝检查(crack inspect ion )来减小工作空间和各种损失。
背景技术：
基板是图像显示装置的组件。基板包含半导体基板和平板显示器(Flat Panel Display, FPD )基板。FPD基板包含液晶显示器(Liquid Crystal Display, LCD)基板、等离子显示面板(Plasma Display Panel, PDP )基 板、有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode, 0LED)基板和类 似物。
LCD基板将被描述为FPD基板的实例。LCD的一般制造工艺分成TFT工 艺、单元工艺和模块工艺。在所述工艺中，模块工艺是将各种电子组件附 接到LCD基板以组装产品且将用于驱动LCD基板的驱动器IC附接到所述LCD 基板的工艺。
为了执行此工艺，已在相关技术中使用了直接将驱动器IC的引线安装 到LCD基板的技术。
然而，因为最近已制造了具有高分辨率的LCD产品，所以难以将具有 大量引线的驱动器IC安装到LCD基板，且因此通常使用TAB( Tape Automated Bonding,巻带式自动接合)作为一种安装技术。
具体地说，作为一种类型的带载封装(tape carrier package, TCP) 的TAB是通过中间形成有图案的带而不是引线框来将驱动器IC接合(下文 用作"压缩"和"附接")到LCD基板的封装技术。然而，TAB还表示压缩 地附接到LCD基板的对应位置以便在LCD基板中形成信号线的带或所述带 的整个区域。在下文的描述中，后者被称为"TAB"。
在将TAB附接到LCD基板之前，通常首先在LCD基板中使用各向异性 导电膜(anisotropic conductive film, ACF )。各向异性导电膜具有类似
4于双面带(two-sided tape)的结构，其中将通过热量而石更化的粘合剂与 微小的导电球彼此混合。此各向异性导电膜是通常在安装工艺中使用的材料。
如果各向异性导电膜在对应位置处接合到LCD基板，那么TAB会附接 到各向异性导电膜的表面。此时，TAB的电极图案和LCD基板的电极图案需 要准确地彼此附接。用于使LCD基板和TAB具有导电性的导电球也需要准 确地定位。
如果将各向异性导电膜和TAB附接到LCD基板，那么在高温状态下将 足够的压力施加到LCD基板和TAB,使得LCD基板和TAB的电路图案的衬垫 彼此接触。此时，当各向异性导电膜中接触部分处的导电球被毁坏时，电 流在两个衬垫之间流动，且剩余的粘合剂填充在不平坦的表面而不是两个 衬垫中，并在其中硬化。以此方式，TAB附接工艺完成。
在TAB附接工艺完成之后，对LCD基板执行各种检查。举例来说，执 行凹痕检查以检查TAB的电极图案是否准确地附接到LCD基板的电极图案， 且导电球的形状和位置是否为优选，且执行裂缝检查以检查在压缩TAB时， LCD基板中是否出现裂缝。
按照惯例，凹痕检查和裂缝检查分别由凹痕检查设备和裂缝检查设备 执行。凹痕纟企查和裂缝;险查具有类似的结构，在于凹痕和裂缝均在TAB区 i或中被冲企查。
首先，将描述常规的凹痕检查设备。
图1是说明根据相关技术的凹痕检查设备的示意性透视图。
参看图1,根据相关技术的凹痕检查设备1包含面阵相机(area camera) 10，其对凹痕才企查区域进行照相；和台20，上面安装有FPD基板 5。在FPD基板5中，TAB 7a和7b附接到短边7a和长边7b。
面阵相机10固定到凹痕检查设备1中的相机固定件(camera fixing die ) 50，并对附接有TAB 7a和7b的FPD基板5的凹痕检查区域进行照相。 面阵相机10具有自动对焦功能，且每当台20在TAB 7a与7b的间隔处移 动时，可通过自动对焦对凹痕检查区域的凹痕图像进行精密的照相和检查。 出于此目的，面阵相机19相对于FPD基板5的板表面方向(如由箭头Z所 示)而垂直上升和下降。
在面阵相机10上方提供台20，且成为凹痕;f全查目标的FPD基板5稳定 地安装在台20的顶面上。稳定地安装有FPD基板5的台20借助单独的驱 动单元(未图示)而在如箭头所示的二维方向(X和Y方向)上移动，且将 FPD基^反5定位在固定面阵相才几10上方。
具有上文所述的结构的凹痕检查设备1对成为凹痕检查目标的FPD基 板5执行凹痕检查。 一般来说，凹痕检查设备1针对附接到FPD基板5的短边的TAB 7a的区域执行凹痕检查，且接着针对附接到长边的TAB 7b的 区域才丸4亍凹痕纟企查。
首先，为了^r查附接到短边的TAB 7a的区域，台20在由箭头X所示 的方向上线性地移动，使得面阵相机IO循序地对凹痕检查区域进行照相和 检查。在检查附接到短边的TAB 7a的区域之后，凹痕检查设备1检查附接 到长边的TAB 7b的区域的;f企查表面。在此情况下，台20在由箭头9所示 的方向上旋转，使得面阵相机10可对凹痕检查区域进行照相。
同时，当面阵相机1G对成为凹痕检查目标的FPD基板5的TAB 7a和 7b的区域进行照相时，台20重复移动和停止。在此过程中，为了获得凹痕 检查区域的图像，面阵相机IO还重复自动对焦，其连同FPD基板5—起调 节焦点。
如上文所述，根据相关技术的凹痕检查设备1具有下述结构其中台 20相对于固定面阵相机10而移动FPD基板5，且执行凹痕才企查。台20不 得不移动的原因在于，尽管固定面阵相机10的自动对焦跟踪范围在约0.2 rrnn到0. 8mm的范围内，但由于处理和组装过程中的误差的缘故而不可能维 持自动对焦跟踪范围。
将描述根据相关技术的裂缝检查设备。
尽管图中未绘示，但与上文所述的凹痕检查设备1相反，根据相关技 术的裂缝检查设备具有下述结构其中当相机(未图示)在台(未图示) 固定的状态下移动时，裂缝4企查设备4企查FPD基板5的对应于TAB区域的 部分中是否出现裂缝。
然而，在相关技术中，尽管以类似的方式执行凹痕检查和裂缝检查， 但台和相机以不同类型进行移动。出于此原因，不可能将凹痕检查设备和 裂缝检查设备集成为单个检查设备，检查效率降低，且生产时间的量增加， 这降低了生产率。另外，由于有必要通过使用两个检查设备来移动基板， 所以需要额外提供不必要的外围装置以增加工作空间，从而导致各种损失。
在已参考图l描述的根据相关技术的凹痕检查设备l中，由于台20移 动，所以设备比例和设备安装空间增加。在TAB 7a与7b的间隔处移动和 停止台20之后，再次执行自动对焦，并执行检查，这增加了生产时间的量。 当FPD基板5的平面度由于FPD基板5的下陷(由于尺寸增加的缘故)而 不规则时，由于FPD基板5的下陷量超过自动对焦跟踪范围，所以需要使 用搜索功能，这降低了检查效率。
在已参考图1描述的根据相关技术的凹痕检查设备1中，由于面阵相 机10固定到相机固定件50,且较大尺寸的台20移动，所以设备比例和设 备安装空间增加。另外，由于需要将面阵相机10提供成适合台20的移动， 所以同时仅能安装两个面阵相机IO。因此，难以减小生产时间的量。同时，在FPD基板5由对应检查设备的基板支撑台支撑之后执行检查。
将参考图2和3描述根据相关技术的基板支撑台。除上文所述的检查设备
之外，当执行上文所述的各种工艺时，可使用图2和3中所示的基板支撑 台
图2和3是说明根据相关技术的基板支撑台的结构的示意图。
如图2中所示，在根据相关技术的实例的基板支撑台中，固定地提供 支撑基板G1和G2的多个衬垫30和30a。当然，所述多个衬垫30和30a设 置成以相同间隔H1彼此远离。在图2中所示的基板支撑台中，具有(例如) 30英寸的尺寸的小尺寸基板Gl和具有(例如)46英寸的尺寸的大尺寸基 板G2共同使用所述台。
然而，当将小尺寸基板G1安装在图2中所示的基板支撑台上，且由基 板支撑台支撑时，基板G1的边可能与定位在两边处的衬垫30a碰撞，且基 板G1可能损坏。具体来说，由于衬垫30和30a固定在图2中所示的基板 支撑台上，所以基板支撑台难以稳定地支撑具有除上文所述的30英寸和46 英寸之外的不同尺寸的基板(未图示)。为了使用具有除30英寸和46英寸 之外的不同尺寸的基板(未图示)，需要单独地提供对应于不同尺寸的基板 支撑台，这导致工艺中的损失。
同时，如图3中所示，在根据相关技术的另一实例的基板支撑台中， 提供支撑基板G3的多个衬垫40和40a。在衬垫40和40a中，中心衬垫40 固定，而定位在两边处的衬垫40a在由箭头所示的方向上移动。在图3的 情况下，由于定位在两边处的衬垫40a可移动，所以除图2中所示的基板 Gl和G2之外，可有效地支撑比图2中所示的基板G2大的基板G3。
然而，当定位在两边处的衬垫40a从由虚线所示的位置移动到由实线 所示的位置并支撑基板G3时，衬垫40与40a之间的间隔Hl和H2中产生 差异。具体来说，由于在定位到两边且移动其位置的衬垫40a的附近产生 较大间隔H2，所以基板G3可能在对应区域中严重下陷。如果基板G3严重 下陷，那么在检查FPD基板5 (参看图1)的检查设备(参看图1)中所使 用的台的情况下，可能出现检查误差。

发明内容
本发明的目的是提供一种基板支撑台和一种具有所述基板支撑台的基 板检查设备，其可通过改进检查效率和减小生产时间的量来改进生产率， 并通过防止需要不必要的外围装置，且通过使用单个检查设备共同地执行 凹痕4企查和裂缝才企查来减小工作空间和各种损失。
根据本发明的另 一 目的，提供一种基板支撑台和一种具有所述基板支 撑台的基板检查设备，其可减小执行凹痕检查所需的生产时间的总量，并增加自动对焦跟踪范围，甚至在基板的平面度由于基板的下陷(由于尺寸 增加的缘故)而不规则时也可执行有效检查，且减小设备比例和设备安装 空间。
根据本发明的又一 目标，提供一种基板支撑台和一种具有所述基板支 撑台的基板检查设备，其可减小设备比例和设备安装空间，且相对于基板 的个别表面安装相机，从而减小了执行凹痕检查所需的生产时间的总量。
根据本发明的又一目标，提供一种基板支撑台和一种具有所述基板支 撑台的基板检查设备，其可稳定地支撑具有各种尺寸的基板，同时防止基 板损坏和被支撑的基板下陷。
本发明的额外优势、目的和特征将部分地在以下的描述内容中陈述， 且部分地将对研究过下文后的所属领域的技术人员来说变得明显，且可通 过实践本发明而学习到。
根据本发明的第一方面，提供一种基板检查设备，其包括上面稳定 地安装有基板的台，所述基板成为检查目标，其中对附接到所述基板一边 的TAB的区域扭j于凹痕4企查和裂缝;险查；至少一个凹痕4金查相冲几，其对TAB 区域进行照相，以便纟企查所述TAB中是否出现凹痕；至少一个裂缝检查相 机，其对TAB区域进行照相，以便检查基板的TAB区域中是否出现裂缝； 和光学系统移动单元，其支撑所述凹痕4企查相才几和所述裂缝4佥查相^i，以 ^i目对于所述台而相对地移动。
根据本发明的第二方面，提供一种基板检查设备，其包括上面稳定 地安装有基板的台，所述基板成为检查目标，其中对附接到所述基板一边 的TAB的区域执行凹痕检查和裂缝检查；至少一个相机，其对基板的凹痕 检查区域进行照相；光学系统移动单元，其耦合到所述相机并相对于所述 台而相对地移动所述相机；至少一个位移传感器，其测量基板的位移；和 控制单元，其在由位移传感器获得的信息的基础上控制相机的移动。
根据本发明的第三方面，提供一种基板检查设备，其包括上面稳定 地安装有基板的固定台，所述基板成为凹痕检查目标，其中对附接到所述 基板一边的TAB的区域执行凹痕检查，所述固定台固定地安装在预定位置； 至少一个相机，其对基板的凹痕检查区域进行照相；和光学系统移动单元， 其耦合到所述相^L，并相对于固定台而相对地移动所述相^L， ^使得相^/L对 固定台上的基板的凹痕检查区域进行照相。
根据本发明的第四方面，提供一种基板支撑台，其包括多个衬垫， 其支撑基板；和移动支撑部分，其可移动地支撑所述多个衬垫，使得所述 多个衬垫彼此接近并以规则间隔彼此远离。


通过结合附图阅读以下详细描述内容，本发明的上述和其它目的、特
征和优势将更明显，其中
图1是说明根据相关技术的实例的凹痕检查设备的示意性透视图。 图2和3是说明根据相关技术的基板支撑台的结构的示意图。 图4是说明根据本发明第一示范性实施例的基板检查设备的透视图。 图5是说明基板稳定地安装在图4中所示的基板检查设备的台上的状
态的透视图。
图6是图5的平面图。
图7是图6的部分放大图。
图8是图7的示意性侧面图。
图9是图4中所示的支撑检查设备的控制方框图。
图10是说明根据本发明第二示范性实施例的基板检查设备的示意性方框图。
图ll是说明图IO所示的基板检查设备的示意性透视图。 图12是说明图11中所示的基板检查设备的主要元件的放大透视图。 图13是说明图10中所示的基板检查设备的操作的图。 图14是说明根据本发明第三示范性实施例的基板检查设备的示意性透 视图。
图15和16是说明根据本发明第四示范性实施例的基板检查设备的透视图。
图17和18是图15和16中所示的基板检查设备的平面图。
图19是说明根据本发明第五示范性实施例的基板检查台的透视图。
图20和21是说明根据本发明第六示范性实施例的基板支撑台的透视图。
图2 2和2 3是根据本发明第七示范性实施例的基板支撑台的平面图。
具体实施例方式
在下文中，将参考附图详细描述本发明的优选实施例。通过参照待参 看附图详细描述的实施例，本发明的方面和特征以及用于实现所述方面和 特征的方法将变得明显。然而，本发明并非限于下文所揭示的实施例，而 是可以不同形式来实施。描述内容中所界定的内容(例如详细构造和元件) 只是被提供以辅助所属领域的技术人员全面理解本发明的特定细节，且本 发明仅界定在所附权利要求书的范围内。在本发明的整个描述内容中，在各 个图中，相同的附图参考标号始终用于相同的元件。
为参考起见，下文将描述的基板意味着LCD (液晶显示器)基板、PDP (等离子显示面板)基板和0LED (有机发光二极管)基板。然而，为了便于
9阐释，上文所述的基板被称为FPD (平板显示器)基板。
另外，为了便于阐释，TAB和光学系统移动单元的每一者在每一位置处 由不同的参考标号表示，且相机由同一参考标号表示。
图4是说明根据本发明第一示范性实施例的基板检查设备的透视图，图 5是说明基板稳定地安装在图4中所示的基板检查设备的台上的状态的透视 图，图6是图5的平面图，图7是图5的部分放大图，图8是图7的示意 性侧面图，且图9是图4中所示的基板检查设备的控制方框图。
如图中所示，根据本发明第一示范性实施例的基板检查设备101包含 检查设备主体110;台120，其提供在检查设备主体110中且上面稳定地安 装有FDP基板105 (待检查)；光学系统移动单元130，其耦合到检查设备 主体110的上部，并支撑下文将描述的凹痕4佥查相机140和裂缝检查相机 150，使得凹痕^r查相冲几140和裂缝4企查相才几150在水平方向上移动，且上 升和下降；凹痕检查相机140，其在沿光学系统移动单元130移动时，检查 提供在FPD基板105中的TAB 107a到107c是否有凹痕；裂缝检查相机105， 其检查FPD基板105的对应于TAB 107a到107c的区域的部分中是否出现 裂缝；位移传感器160,其测量凹痕检查相机140和裂缝检查相机150与 FDP基板105之间的位移；和控制单元170,其在位移传感器160获得的信 息的基础上控制凹痕检查相机140和裂缝检查相机150的移动。
检查设备主体110是形成根据本发明第一示范性实施例的基板检查设 备101的外部的一部分。在一些情况下，检查设备主体110可称为检查工 作台。参看附图，仅为了便于阐释而将检查设备主体IIO绘示成盒状形状。
因此，可在检查设备主体110下方提供轮子(未图示)以移动检查设 备主体110，且可在检查设备主体110中提供用于操作光学系统移动单元 130的一连串机械装置。然而，将省略对以上装置的详细描述。另外，可在 检查设备主体110 —边上提供用于显示一连串检查过程的监视器(未图示)。
台120耦合到检查设备主体110的上部，并支撑FPD基板105，使得待 检查的FPD基板105稳定地安装在台120的顶面上。如图中所示，台120 可形成为具有预定厚度的矩形板的形状，且通常被制造成具有比FPD基板 105小的面积。
因此，如果FPD基板105稳定地安装在台120的顶面上，那么待检查 的TAB 107a到107c的区域可能会暴露在台120外部。因此，可通过设置 在台120下方的凹痕检查相机140和裂缝检查相机150的照相来执行对TAB 107a到107c的区域的凹痕和裂缝4企查。
为参考起见，在附图中，FPD基板105直接安装在台120上，但通常在 台的顶面上提供多个顶升销(未图示)。因此，当FPD基板105由单独传送 机械臂装载在台120上时，顶升销上升并支撑FPD基板105的底面。接着，如果顶升销下降，那么FPD基板105可装载在台120的顶面上。在抽取FPD 基板105时，在顶升销上升的状态下抽取FPD基板105。
如果将台120制造成具有比FPD基板105大的面积，且FPD基板105 装载在台120的顶面上，那么台120需要由透明材料形成，以便对台120 的底面上的FPD基板105的TAB 107a到107c的区域进行照相。然而，当台 120由透明材料形成时，可在某种程度上执行裂缝检查，且可能难以准确地 执行凹痕才企查。因此，如上文所述，优选将台120制造成具有比FPD基板 105小的面积。
然而，当将台120制造成具有比FPD基板105大的面积时，FPD基板 105稳定地安装在台120的顶面上，使得TAB107a到107c的区域暴露在台 120外部。以此方式，凹痕4全查相机140和裂缝检查相机150可安全地对 FPD基板10 5进行照相。
当然，台120可具有柱形形状、矩形块形状和多边形块形状。然而，在 此情况下，在昂贵的FPD基板105稳定地安装在台120的顶面上之后，FPD 基板105不应在检查过程期间与台120分离或从台120上落下。因此，优选 台120以真空吸附方法或类似方法支撑FPD基板105。
在此实施例中，基板检查设备101具有下述结构其中当凹痕检查相 机140和裂缝检查相机150相对于固定台120而移动时，对稳定地安装在 台120上的FPD基板105的TAB 107a到107c的区域4丸行凹痕和裂缝检查。 因此，台120耦合并固定到检查设备主体110的上部。
然而，在此情况下，单独的基板传送机械臂(未图示)需要将待检查 的FPD基板105稳定地安装在台120的顶面的预定位置处，否则，沿光学 系统移动单元130移动的凹痕检查相机140和裂缝4企查相机150不能准确 地对TAB 107a到107c的区域进行照相。也就是说，如果FPD基板105不 是安装在台120的顶面的预定位置处，那么凹痕检查相机140和裂缝检查 相机150不能准确地对TAB 107a到107c的区域进行照相。
因此，将台120制造成实质上固定，且台120需要在预定角范围内被 可旋转地驱动，使得稳定地安装在台120的顶面上的FPD基板105在预定 位置处对准，这由提供在台120下方的台旋转单元122来执行。当然，在设 计时可省略台旋转单元122。
由此，由于台120实质上固定，所以有可能减小在根据相关技术的凹 痕检查设备中移动所述台(未图示)所需的较大设备比例和较大设备安装 空间。另外，当相对较大的台移动时发生的微粒污染或施加到FPD基板105 的物理冲击可预先防止，这促进了产率的改进。然而，本发明并非局限于 此，且台120可移动。当使用可移动台120时，可应用稍后将描述的根据 本发明第四到第七示范性实施例的基板支撑台(未图示)。光学系统移动单元130是凹痕检查相机140和裂缝检查相机150以及 位移传感器160借以支撑和移动的部分。光学系统移动单元130支撑凹痕 才企查相机140和裂缝;险查相机150，使得凹痕检查相机140和裂缝;险查相机 150可相对于台120而相对地移动。
如上文所述，在根据此实施例的基板检查设备101中，随着凹痕检查 相机140和裂缝;險查相机150移动而进行凹痕和裂缝冲企查。光学系统移动 单元130负责移动凹痕检查相机140和裂缝检查相机150。
光学系统移动单元130包含多个水平部分131a到131c;第一垂直部 分132a到132c,其耦合到所述水平部分131a到131c,且可移动地支撑凹 痕4企查相才几140和位移传感器160;和第二垂直部分133a到133c，其可移 动地支撑裂缝检查相机150，同时独立于第一垂直部分132a到132c而移动。
为参考起见，由于由根据此实施例的基板检查设备101检查的FPD基 板105的尺寸较大，所以TAB 107a和107b附接(压缩并接合)到FPD基 板105的两个短边，且一连串TAB 107c附接到FPD基板105的一长边。也 就是说，TAB 107a到107c附接到FPD基板105的除另 一长边之外的三个边。 因此，提供光学系统移动单元130、位移传感器160以及凹痕检查相机140 和裂缝;险查相才几150以对应于TAB 107a到107c。
水平部分131a到131c耦合到一企查设备主体110的上部，且提供在三 个部分中，以便对应于形成于FPD基板105中的TAB 107a到107c。也就是 说，提供两个水平部分131a和131b以对应于FPD基板105的两个短边，且 提供一个水平部分131c以对应于FPD基板105的一个长边。如图中所示， 水平部分131a到131c可彼此分离，且可彼此集成为"U"形状。
第一和第二垂直部分132a到132c和133a到133c分别耦合到水平部 分131a到131c。第一和第二垂直部分132a到132c和133a到133c的一边 可沿水平部分131a到131c移动，且其另边支撑对应的凹痕检查相机140 和裂缝^r查相才几150以及对应的位移传感器160。
在第一垂直部分132a到132c与第二垂直部分133a到133c之间，支撑 凹痕4企查相机140和位移传感器160的第一垂直部分132a到132c可在对 应位置处上升和下降。即，第一垂直部分132a到132c上升和下降，使得 凹痕检查相机140可接近和远离FPD基板105。当然，上升和下降操作由控 制单元170控制。参看图4和5，由参考标号132a表示的第一垂直部分处 于上升状态，且由参考标号132b和132c表示的第一垂直部分处于下降状 态。第一垂直部分132a到132c可以共同线性运动或伸缩套管结构上升和 下降。
与第一垂直部分132a到132c不同，第二垂直部分133a到133c并不 上升和下降。如下文所述，由于凹痕检查相机140仅需要对TAB 107a到107c
12的局部区域进行照相，以便精密地检查是否存在凹痕，所以由于自动对焦
或类似情况的缘故，凹痕检查相机140需要相对于FPD基板105而上升和 下降。然而，由于裂缝检查相机150需要对TAB 107a到107c的较大区域 进行照相，以便检查是否存在裂缝，所以裂缝检查相机150不需要相对于 FPD基板105而上升和下降。
另外，在水平部分131a到131c上，上面安装有裂缝检查相机150的 第二垂直部分133a到133c的移动速度VI (见图7)相对快于上面安装有 凹痕才企查相才几140和位移传感器160的第一垂直部分132a到132c的移动 速度V2 (见图7)。因此，第二垂直部分133a到133c设置在第一垂直部分 132a到132c的前面，并比第一垂直部分132a到132c更快地移动。
因此，在一个FPD基板105中，在TAB 107a到107c所有区域中执行 裂缝检查。也就是说，借助安装于设置在第一垂直部分132a到132c前面 并比第一垂直部分132a到132c更快地移动的第二垂直部分133a到133c 上的裂缝检查相机150，在TAB 107a到107c的所有区域中执行裂缝检查。
然而，与裂缝检查不同，需精密且緩慢地执行凹痕检查。出于此原因， 考虑到执行凹痕检查所需的时间的量，不在TAB 107a到107c的所有区域 中执行凹痕检查。也就是说，借助安装于设置在第二垂直部分133a到133c 后面且比第二垂直部分133a到133c相对较慢地移动的第一垂直部分13h 到132c上的凹痕检查相机140，在从TAB 107a到107c的区域中选择的部 分区域中执行凹痕检查。
在第一和第二垂直部分132a到132c和133a到133c不是彼此分离而 是彼此集成之后，凹痕检查相机140和裂缝才全查相机150以及位移传感器 160可一起移动。然而，在此情况下，^r查时间的量增加，这减小了产率。
凹痕检查相机140耦合到第一垂直部分132a到132c的上部的一边。 凹痕检查相机140对FPD基板105的TAB 107a到107c的区域进行照相，以 便执行凹痕检查，所述凹痕检查检查TAB 107a到107c的电极图案是否准 确地附接到FPD基板105的电极图案，以及导电球的形状和位置是否准确。 如上文所述，凹痕纟企查相机140 <又对TAB 107a到107c的局部区域进行照 相，以便精密地检查是否出现凹痕。参看图7，由凹痕检查相机140进行照 相的照相范围较窄。
裂缝;险查相机150耦合到第二垂直部分133a到133c的上部的一边，且 当沿对应的水平部分131a到133c移动时，检查FPD基板105的对应于TAB 107a到107c的区域的部分中是否出现裂缝。
此时，与根据相关技术的相机不同，凹痕检查相机140和裂缝检查相 才几150可用作线扫描相才几。
如上文所述，在根据相关技术的凹痕和裂缝检查设备中，当台(未图示)重复地移动和停止时，出于自动对焦的目的而需要使用面阵相机。然
而，在此实施例中，凹痕^r查相才几140和裂缝;险查相才几150可由光学系统 移动单元130移动，且凹痕才企查相机140和裂缝才企查相机150的移动速度 可由控制单元170个别地控制。在凹痕检查相机140的情况下，由于可执 行用于自动对焦的上升和下降操作，所以可使用线扫描相机。
由此，在使用线扫描相机的根据此实施例的基板检查设备101中，由于 凹痕才企查相才几140和裂缝;险查相才几150在移动时可获得移动区域中存在的 图像，所以可执行连续和实时检查。也就是说，如果使用线扫描相机，那么 可获得相对较高分辨率的图像。因此，与使用根据相关技术的面阵相机的 凹痕和裂缝检查设备相比，检查精度可改进且检查面积可增加，其执行连 续和实时的4全查。
为参考起见，为了使凹痕检查相机140和裂缝检查相机150执行各自 的功能，凹痕检查相机140和裂缝检查相机150需要具备一种结构，例如 照明或反射板。然而，由于此结构是一般的相机结构，所以将省略对其的 详细描述。
同时，由台120支撑的FPD基板105的几乎整个区域是平面的，但FPD 基板105的平面度可能是不规则的，如由图8中的实线所示。
如图8中所示，在FPD基板105的平面度不是规则的而是不规则的情 况下，如果凹痕才企查相机140和裂缝4企查相机150对TAB 107a到107c的 区域进行照相，那么难以获得清楚的图像。在裂缝检查相机150的情况下， 即使在FPD基板的平面度不规则时，获得清楚的图像并执行裂缝检查也不 是很难。然而，在凹痕检查相机140的情况下，需要执行自动对焦，以便 获得对应区域上的清楚图像。此时，当FPD基板105的平面度不是规则的 而是不规则的时，需花费较大量的时间来执行自动对焦，且因此难以减少 生产时间。
因此，在此实施例中，在凹痕^^查相机140的前面提供位移传感器160， 以便预先测量凹痕检查相机140与FPD基板105之间的位移。接着，位移 传感器160将关于测量到的位移的信息传输到控制单元170,且控制单元 170在关于测量到的位移的信息的基础上，驱动沿光学系统移动单元130移 动的凹痕检查相机140上升和下降(图8中的距离H)，使得凹痕检查相机 140可接近和远离FPD基板105,这会显著减少执行自动对焦所需的时间的 量。
对生产类型给出详细描述。在凹痕检查相机140移动之前或当凹痕检 查相糸U40移动时，位移传感器160将通过预先测量对应的TAB 107a到107c 与凹痕检查相机140之间的间隔而获得的信息传输到控制单元170。在达到 实质检查点之前，凹痕检查相机140可根据控制单元170的控制操作而预先上升和下降。因此，执行自动对焦所需的时间的量减少，这减少了生产
时间的总量。另外，有可能增加自动对焦跟踪范围，且即使在FPD基板105 的平面度由于FPD基板105的下陷(由于尺寸增加的缘故)而不规则时，也 有可能有效地执行凹痕检查。
另外，在基板下陷的量超过使用面阵相机的相关技术中的自动对焦跟 踪范围的情况下，需要使用搜索功能，这增加了生产时间的量。然而，在 此实施例中，如果在由位移传感器160获得的信息的基础上预先控制凹痕 检查相机14G的移动，那么与相关技术相比，有可能增加自动对焦跟踪范 围。因此，即使在FPD基板105的下陷由于FPD基板105的尺寸增加的缘 故而4交严重时，也可在寸丸行自动对焦的同时实时地纟丸行4企查，而在预定范 围内无需单独的搜索功能，这减少了生产时间的量。
当然，不可能仅通过使用光学系统移动单元130来相对于凹痕检查相 机140安全地实现自动对焦。然而，在可进行自动对焦的自动对焦跟踪范 围内预先上升和下降凹痕检查相机140之后，凹痕检查相机140对对应区 域进行照相。以此方式，有可能获得清楚的图像，且显著减少生产时间的 量。为参考起见，当在根据此实施例的结构中操作时，已从实验证实，即使 自动对焦跟踪范围可能变成4 mm或更大，也不会存在任何问题。
如上文重复描述的，位移传感器160测量凹痕4企查相机HO与FPD基 板105之间的位移，并将测量到的结果传输到控制单元170。因此，位移传 感器160优选定位在凹痕斗企查相4几140前面。因此，在此实施例中，在位 移传感器160和凹痕4企查相机140安装在第一垂直部分132a到132c中的 每一者上的状态下，位移传感器160和凹痕4企查相才几140—起移动。然而， 位移传感器160不一定与凹痕4企查相纟几140 —起移动，且可个别地移动和 操作。激光传感器可用作位移传感器160。
在凹痕检查相才几140到达待照相的TAB 107a到107c的区域之前，控制 单元170事先从位移传感器160获得关于FPD基板105的平面度的信息，且 通过水平部分131a到131c和第一垂直部分132a到132c来控制凹痕冲企查 相才几140的移动。
具体地说，为了使凹痕检查相机140可对TAB 107a到107c的区域实 时执行自动对焦，控制单元170控制凹痕检查相机140，使得凹痕检查相机 140可在光学系统移动单元130上接近和远离FPD基板105。另外，为了在 凹痕检查相机140的照相操作期间，获得来自凹痕检查相机140的移动路 径的整个区域的图像，控制单元170控制凹痕检查相机140连续移动。当 然，控制单元170独立地移动裂缝检查相机150。
下文将描述具有上述结构的基板检查设备101的操作和功能。
首先，待检查的FPD基板105由单独机械臂稳定地安装在台上。也就
15是说，当单独的机械臂将FPD基板105装载在台120上时，顶升销上升并 支撑FPD基板105的底面。接着，当顶升销下降时，FPD基板105可装载并 稳定地安装在台120的顶面上。接着，FPD基板105可由台旋转单元122对准。
接着，控制单元170控制光学系统移动单元130，使得凹痕检查相机 140和裂缝检查相机150以及位移传感器160可移动。也就是说，耦合到第 一和第二垂直部分132a到132c和133a到133c的凹痕4企查相才几140和位 移传感器160以及裂缝检查相机150分别沿对应的水平部分131a到131c 在由图4中的箭头A、 B和C所示的方向上移动。如上文所述，在上面安装 有裂缝检查相机150的第二垂直部分133a到133c首先以较高速度移动之 后，上面安装有凹痕4企查相才几140和位移传感器160的第一垂直部分132a 到132c移动。
由于裂缝检查相机150不需要执行单独的自动对焦操作，所以裂缝检 查相机150可在以较高速度移动时对TAB 107a到107c的整个区域执行裂 缝;险查。然而，在凹痕4企查相才几140的情况下，首先，定位在凹痕^r查相 机140前面的位移传感器160测量凹痕检查相机140与FPD基板105之间 的位移，并将测量结果传输到控制单元170。在所传输的位移信息的基础上， 控制单元170控制第一垂直部分132a到132c上升和下降。因此，在凹痕 检查相机140可执行自动对焦的情况下，凹痕检查相机140在光学系统移 动单元130上对FPD基板105的TAB 107a到107c的区域进行照相，以便 才丸4亍凹痕4企查。
具体来说，根据控制单元170的控制操作，凹痕检查相机140和裂缝 检查相机150在连续地执行水平移动以及上升和下降运动的同时，对FPD 基板105的TAB 107a到107c的区域进行照相，而无需停止其移动，这样 便可实现实时的凹痕和裂缝4企查。
另外，由于凹痕检查相机140和裂缝检查相机150仅对FPD基板105 的每一侧的对应位置进行照相，所以有可能显著减少执行凹痕检查和裂缝 检查所需的时间的量。为参考起见，由于需花费约5秒钟来对32英寸的FPD 基板105执行凹痕和裂缝检查，所以与相关技术相比，检查时间显著减少。 因此，可减少生产时间的量，且可对所有产品执行凹痕和裂缝检查。另外， 有可能对下陷严重且平面度不规则的FPD基板执行4企查。
由此，根据本发明，由于可通过使用单个检查设备共同地执行凹痕检 查和裂缝;险查两者，所以可改进^r查效率。另外，可减少生产时间的量，这 增加了生产率。
另外，由于可防止需要不必要的外围装置，所以可减小工作空间。因 此，与相关技术相比，可减少各种损失。为参考起见，在此实施例中，由于单个基板检查设备共同地执行凹痕
检查和裂缝检查，所以有可能达到将基板检查设备的体积减小50%或更多 的效果。以此方式，不仅可减小基板检查设备的体积，而且可减小安装基 板检查设备的空间或工作空间。因此，还可显著减小清洗制造成本。
图10是说明根据本发明第二示范性实施例的基板检查设备的示意性方 框图，图ll是说明图10中所示的基板检查设备的示意性透视图，图12是 说明图11中所示的基板检查设备的主要元件的放大透视图，且图13是说 明图10中所示的基板检查设备的操作的图。参看图l和图10到13来作出 描述。
如图中所示，根据本发明第二示范性实施例的基板检查设备201包含 台220, FPD基板205稳定地安装且支撑在台220上；线扫描相机210，其 对TAB 207a附接到的FPD基板205的凹痕检查区域进行照相；位移传感器 230，其提供在线扫描相机210的前面；光学系统移动单元250，其将线扫 描相才几210移动到台220 —侧；和控制单元260，其控制线扫描相一几210的 移动，以便实时执行自动对焦。
如图10中所示，在根据本发明第二示范性实施例的基板检查设备201 中，位移传感器230事先获得关于稳定地安装在固定在预定区域中的台220 上的FPD基板205 (待检查)的平面度的信息。在由位移传感器230获得的 信息的基础上，控制单元260控制线扫描相机210的移动，使得线扫描相 机210可实时执行自动对焦。
具有上述结构且安装在光学系统移动单元250上的线扫描相机210可 在在凹痕检查区域中连续移动的同时执行凹痕检查。因此，根据此实施例， 与根据相关技术的台20移动的基板检查设备1 (参看图1)相比，可减少 生产时间的量。另外，可减少设备比例和设备安装空间。
对生产类型进行详细描迷。提供在线扫描相机210的前表面部分前面 的位移传感器230传输通过预先测量TAB 207a与线扫描相机210之间的间 隔而获得的信息，并在线扫描相机210移动之前或在线扫描相机210移动 时，将所述信息传输到控制单元260。线扫描相机210可在到达检查点之前 上升和下降。因此，减少了执行自动对焦所需的时间的量，这减少了生产
时间的总量。
另外，由于线扫描相机210在到达检查点之前可预先上升和下降，所以 有可能增加自动对焦跟踪范围。即使在FPD基板235的平面度由于FPD基 板235的下陷(由于FPD基板235的尺寸增加的缘故)而不规则时，也可 执行有效检查。
同时，FPD基板205的TAB 207a可以各种类型附接到FPD基板205的 各边。然而，在此实施例中，首先，对TAB 207a仅附接到一边(短边)的FPD基板2G5进4于描述。
在将TAB 207a附接到FPD基板205的过程中，基板检查设备201检查 各向异性导电膜(未图示)中出现的凹痕。因此，基板检查设备201提取 TAB 207a附接到的凹痕检查区域上的图像，并检查所提取的凹痕图像。基 板检查设备2Q1重复这些过程。
基板检查设备201的台220稳定地安装FPD基板205,其中TAB 207a 附接到FPD基板205的一边且成为凹痕检查目标。在此实施例中，如图中 所示，将台220形成为具有比FPD基板205小的尺寸，且FPD基板的底面 稳定地安装在台220的顶面上。此时，FPD基板205在TAB 207a的区域暴 露在台220外部的状态下，稳定地安装在台2"的顶面上。具体地说，在 提供在台220中的顶升销(未图示)上升的状态下，传送机械臂('未图示) 将FPD基板205从外部引导到台220。此时，如果支撑所引导的FPD基板 205的顶升销下降，那么FPD基板205便在TAB 207a的区域暴露在台220 外部的状态下，稳定地安装在台220上。
因此，稳定地安装在台220上使得TAB 207a的区域暴露在台220外部 的FPD基板205设置在线扫描相机210可容易地执行检查的位置处。
由于台220是支撑待检查的FPD基板205的部分，所以台220不一定 具有上述类型。因此，将台220制造成具有柱形形状、正方柱形形状或矩 形板形状，且在FPD基板205的TAB 207a的区域暴露在台220外部的状态 下稳定地安装FPD基板205。这样，台220可具有各种结构，只要线扫描相 机210可检查FPD基板205即可。
另外，台220可经构造以移动，但在此实施例中，将台220提供为固 定到基板检查设备201的预定位置。
由此，固定台220可解决根据相关技术的基板检查设备1 (参看图1) 包含可在二维方向(X和Y方向)上移动并旋转(e)的台20时发生的各种 问题。
也就是说，由于根据相关技术的台20在基板检查设备1中在二维方向 (X和Y方向)上移动并旋转(e)，所以由于台20的移动的缘故，设备比例 和设备安装空间增加。同时，在此实施例中，由于台220相对地固定，所
i装i间r '' — 、
另外，由于FPD基板205稳定地安装在台220上并以此种方式固定，所 ，J可能减少相关，术中移动台20所需的辅助设施,和功率:肖，毛。另^卜，有
基板205的物理冲击，这促进产率的改进。
同时，根据本发明，线扫描相机210和面阵相机(未图示)两者均可
18用作相机。在此实施例中，将线扫描相机210用作相机。
一般来说，线扫描相机210主要用于对局部区域进行照相和扫描。在 此实施例中，将线扫描相机210提供为定位在上面稳定地安装有FPD基板 205 (TAB 207a附接到FPD基板205 )的台220下方，且线扫描相才几210 对凹痕检查区i或进4亍照相。
如上文所述，根据相关技术的基板检查设备1不得不使用面阵相机10 来在台20重复移动和停止时执行自动对焦操作。然而，在此实施例中，线 扫描相才几210可由稍后将描述的光学系统移动单元250移动，且可由位移 传感器230实时执行自动对焦操作。因此，有可能使用线扫描相机210。
因此，在根据此实施例的使用线扫描相机210的基板检查设备201中， 由于线扫描相机210可在移动时获得整个凹痕检查区域上的图像，所以有 可能选择性地对所获得图像的所需区域执行检查过程。
由此，如果使用线扫描相机210，那么可获得相对较高分辨率的照相图 像，这与根据相关技术的使用面阵相机10的基板检查设备1相比，改进了 检查精度且增加了检查区域的宽度。
如上文所述，位移传感器230耦合到线扫描相机210的前表面的一侧。
位移传感器230测量FPD基板205的位移或线扫描相才几210与成为凹 痕牙企查目标的FPD基板205之间的位移。在此实施例中，尽管未详细绘示 位移传感器230，但位移传感器230耦合到线扫描相机210的前表面部分的 一侧，使得位移传感器230实质上在线扫描相机210的移动方向上与线扫 描相4几210集成。
如图12和13中所示，位移传感器230事先测量FPD基板205与线扫 描相机210之间的距离或FPD基板205的位移，使得线扫描相机210在前 进了At的位置处连续移动的同时，实时执行自动对焦。
根据相关技术的面阵相机10在台20到达凹痕检查区域之后执行自动 对焦，而根据此实施例的线扫描相机210可在连续移动时实时执行自动对 焦。
此原因如下。由于位移传感器230耦合到线扫描相机210的前表面部 分的一侧，所以位移传感器230预先测量FPD基板205的平面度，并将关 于平面度的信息传输到控制单元260,且控制单元260控制线扫描相机210 的移动，使得线扫描相机210可实时执行自动对焦。
另外，在根据相关技术的FPD基板5 (参看图1)的下陷量超过面阵相 机10的自动对焦跟踪范围的情况下，需要使用搜索功能，且因此增加生产 时间的量。然而，在此实施例中，控制单元260在由位移传感器230获得 的信息的基础上，预先控制线扫描相机10的移动，这与相关技术相比，增 加了自动对焦跟踪范围。因此，即使在下陷由于FPD基板205的尺寸增加的缘故而严重时，也可 在实时执行自动对焦时执行^r查，而在预定范围内无需单独的搜索功能，这 减少了生产时间的量。
也就是说，由于线扫描相机210可通过使用位移传感器230实时执行 自动对焦，所以与根据相关技术的重复执行移动和停止且在自动对焦之后 执行检查的基板检查设备1相比，有可能以较高速度连续执行凹痕检查。 因此，与相关技术相比，可减少生产时间的量，可防止产品中由于产品尺 寸增加而出现下陷，且可改进凹痕4企查效率。
位移传感器2 30耦合到的线扫描相机210安装在光学系统移动单元250 上，以便实质上移动。
尽管未详细绘示，但在此实施例中，光学系统移动单元250提供在台 220下方且与TAB 207a附接到的FPD基板205的凹痕检查区域平行设置， 以便允许线性运动。因此，使用光学系统移动单元250，线扫描相机210可 在连续移动时对TAB 207a附接到FPD基板205的凹痕检查区域执行凹痕检 查。
另外，光学系统移动单元250允许线扫描相机210根据图11到13中 的箭头Z所示的方向垂直地上升和下降。因此，在由位移传感器230获得 的信息的基础上，线扫描相机210可移动到一位置，所述位置可事先在垂 直上升和下降时预先执行自动对焦。
提供控制单元260，其控制线扫描相机210的移动，使得线扫描相机 210可通过光学系统移动单元250而移动。
控制单元260在由位移传感器230获得的信息的基础上控制线扫描相 机210的移动。也就是说，在线扫描相机210到达FPD基板205的凹痕检 查区域之前，控制单元260事先从位移传感器230获得关于FPD基板205 的凹痕检查区域的平面度的信息，并控制线扫描相机210的移动。
因此，控制单元260可控制线扫描相机210的移动，使得线扫描相机 210可实时对FPD基板205的凹痕检查区域执行自动对焦。另外，控制单元 260连续地移动线扫描相冲几210，以便在由线扫描相机210进行照相时，获 得线扫描相机210的移动路径的整个区域上的图像。
由此，根据控制单元260的控制操作，线扫描相机210在图11和12 中的箭头X所示的方向上线性地移动，且连续地移动到成为凹痕^r查目标 的TAB 207a的区域。此时，根据控制单元260的控制操作，线扫描相机210 在由位移传感器230获得的信息的基础上，在由箭头Z所示的方向上上升 和下降，并预先移动到检查位置，从而实时执行自动对焦。
因此，线扫描相才几210在连续移动时实时4丸行自动对焦，并寸丸4亍凹痕 检查。因此，与根据相关技术的重复停止和移动且执行检查的方法相比，可减少生产时间的量，且可改进检查效率。
现将描述具有上述结构的基板检查设备的操作。
在下文中，将参看图10到13，尤其是图13,来描述基板检查设备的 操作。
首先，成为凹痕^r查目标的FPD基板205稳定地安装在基板一企查设备 201的台220上。此时，附接有TAB 207a的FPD基板的区域向上设置。因 此，当线扫描相4几210定位在台220下方时，有可能对具有凹痕的TAB 207a 进行照相并提取其凹痕图像。
在本发明中，如果FPD基板205稳定地安装在台220上并以此种方式 固定在其上，那么与根据相关技术的包含移动台20 (参看图1)的基板检 查设备l (参看图1)相比，可减小设备比例和设备安装空间。另外，如上 文所述，有可能预先防止微粒污染或施加到FPD基板205的物理冲击，这改 进了产率。
由此，如果FPD基板205稳定地安装在台220上，那么线扫描相机210 移动，以Y更对成为凹痕纟企查目标的FPD基板205的TAB 207a的区域进行照 相。也就是说，线扫描相机210通过光学系统移动单元250而移动，使得线 扫描相机210定位在台220下方，其中台220安装FPD基板205，且凹痕检 查区域的TAB 207a附接到FPD基板205。
设置在待首先检查的TAB 207a的区域中的线扫描相机210在预先由位 移传感器230获得的信息的基础上移动到凹痕检查区域，且在实时执行自 动对焦时对第一凹痕图像进行照相和扫描。此时，位移传感器230耦合到 线扫描相机210的前表面部分的一侧，以在前进了At的位置处测量线扫描 相机210与待检查的FPD基板205之间的位移。也就是说，位移传感器230 事先测量成为凹痕检查目标的FPD基板205的平面度，使得在线扫描相机 210到达凹痕检查区域之前，线扫描相机210可准确地执行自动对焦。
一般来说，尺寸较小的FPD基板205是平面的，如由图13中的虚线所 示。然而，在尺寸较大的FPD基板205的情况下，即使在FPD基板205稳 定地安装在台220上时，FPD基板205的一部分还是会下陷，如在由实线所 示的FPD基板205S中。
由此，当FPD基板205的平面度由于FPD基板205的下陷(由于尺寸 增加的缘故)而不规则时，在根据相关技术的基板检查设备(参看图1)中， FPD基板205的下陷量可能超过自动对焦跟踪范围，且因此可能需要执行搜 索功能。因此，可能增加生产时间的量。
因此，为了解决根据相关技术的上述问题，在本发明中，即使在FPD 基板205S由于基板检查设备201的尺寸增加的缘故而下陷时，位移传感器 230也预先测量关于FPD基板205S的平面度的信息，并将其传输到控制单
21元260。接着，控制单元260可预先移动线扫描相机210,以便增加自动对 焦跟踪范围。当线扫描相机210移动时，线扫描相机210可在实时执行自 动对焦的同时对凹痕图像进4亍照相和^r查。
具体地说，图13的(A)中所示的线扫描相机210接收关于从位移传 感器230前进了At的位置处的FPD基板的平面度的信息，并在光学系统移 动单元250的参考位置处执行自动对焦。图13的(B)中所示的线扫描相 机210接收指示从位移传感器2 30前进了 At的位置处的FPD基板205S向上 弯曲的状态的信息，并在光学系统移动单元250上升之后执行自动对焦。 图13的(C)中所示的线扫描相机210接收指示从位移传感器230前进了 At的位置处的FPD基板205S向下弯曲的状态的信息，并在光学系统移动单 元250下降之后4丸行自动对焦。
由此，耦合到线扫描相机210的前表面部分的一侧的位移传感器230 定位在移动的线扫描相机210前面，并预先获得关于FPD基板205和205S 的平面度的信息，并将其传输到控制单元260。线扫描相机210可在移动的 同时实时执行自动对焦。
由此，使用根据本发明的基板检查设备201，有可能在线扫描相机210 移动时，对FPD基板205的TAB 207a的区域^丸行凹痕才企查，且因此台220 不需要执行复杂的操作，例如移动和旋转。因此，与相关技术相比，可减 少设备比例和设备安装空间，这减少了制造成本。
另外，线扫描相机210可在连续移动时执行照相操作，使得线扫描相 机210可通过预先从位移传感器230获得关于FPD基板205的平面度的信 息来实时执行自动对焦。因此，有可能减少执行凹痕检查所需的生产时间 的总量，并增加自动对焦跟踪范围。即使在FPD基板205的平面度由于FPD 基板205的下陷(由于尺寸增加的缘故)而不规则时，也可通过实时执行 自动对焦来进行检查，而无需在预定范围内使用搜索功能，这总体上改进 了检查效率。
图14是说明根据本发明第三示范性实施例的基板检查设备的示意性透 视图。
将在关注与第二示范性实施例的部分不同的部分的同时，描述第三示 范性实施例。在第三示范性实施例中，与第二示范性实施例相同的组成元 件由相同的参考标号表示，且不同的组成元件由添加了字符"a"的参考标 号表示。
如图14中所示，根据本发明第三示范性实施例的基板检查设备201a 包含光学系统移动单元(未图示)，其构造成允许交叉方向上的线性运动； 两个线扫描相才几210和210a，其沿光学系统移动单元移动，即在X和Y方 向上移动；和两个位移传感器230和230a。因此，与根据第二示范性实施例的可检查具有一个检查表面(短边)
的FPD基板205的基板检查设备201不同，根据第三示范性实施例的基板 检查设备201a将FPD基板205a (待检查)稳定地安装在台220上，其中 TAB 207a和207b附接到FPD基板205a的待检查的两个边(短边和长边)； 并检查FPD基板205a。
在此结构中，基板检查设备201a可将FPD基板205a (待检查)稳定地 安装在台220上，其中TAB 207a和207b附接到FPD基板205a的待4企查的 两个边(短边和长边)，且可冲企查FPD基板205a。
另外，基板4全查设备201a包含两个线扫描相机210和210a以及两个 位移传感器230和230a，且可同时4企查附接到短边的TAB 207a的区域和附 接到长边的TAB 207b的区域两者。
因此，除根据上文所述的第二示范性实施例的效果之外，可同时检查 两个4企查表面，从而提高4全查速度。因此，与相关技术相比，可减少生产 时间的量，且可改进^r查效率。
图15和16是说明根据本发明第四示范性实施例的基板支撑台的透视 图，且图17和18是图15和16中所示的基板支撑台的平面图。
图15到18中所示的基板支撑台可在上述基板检查设备中使用，或可在 除所述基板检查设备之外的各种设备中使用，以便支撑基板G。
如图15到18中所示，根据此实施例的基板支撑台包含设备主体301; 多个衬垫310,其支撑基板G;移动支撑单元320,其可移动地支撑所述多 个衬垫310，使得所述多个衬垫31(M皮此接近(参看图16和18)或以规则 间隔彼此远离(参看图15和17);以及第一和第二导轨331和332。
设备主体301是形成根据本实施例的基板支撑台的外部的部分。在本 实施例中，由于图中仅绘示多个衬垫310、移动支撑单元以及第一和第 二导轨331和332，所以设备主体301是局部绘示的。
然而，实际上，除图中所示的组件之外，设备主体301还系统地耦合 到外围装置。举例来说，当根据本发明的基板支撑台在检查系统中使用时， 可进一步将上/下单元或左/右移动单元耦合到设备主体301。
多个衬垫310通过支撑基板G的底面而支撑基板G。因此，实质上接触 基板G的衬垫310的每一者均优选由不会对由玻璃制成的基板G施加损坏 (例如划痕)的材料形成。举例来说，可通过在后处理期间对铝材料进行阳 极氧化来制造衬垫310。这样，当通过阳极氧化工艺来制造衬垫310时，衬 垫不会对由玻璃制成的基板G施加例如划痕的损坏。
为参考起见，也称为阳极氧化涂覆工艺的阳极氧化方法是指在金属表 面上形成氧化物膜以便通过氧化膜来防止在空气中不断进行氧化的工艺。 阳极氧化方法在各种领域中使用，但在铝材料中广泛使用，因为铝材料具有在氧化时因脆弱材料的缘故而容易破裂的特性。且在此实施例中，在衬
垫310的材料中使用阳极氧化方法。
图中所示的村垫310以"U"形状或阶梯状形成，但本发明并非局限于 此。也就是说，衬垫310不一定具有图中所示的结构。衬垫310中并非每 一者均由参考标号来表示。当衬垫310形成为具有图中所示的形状时，有可 能防止衬垫310在支撑相对较重的基板G的过程中变形。
在此实施例中，衬垫310的数目为12。然而，本发明并非局限于此， 且衬垫310的数目可大于或小于12。为了便于阐释，假设如图中所示提供 12个衬垫310来进4于描述。
可将12个衬垫310分成一对固定衬垫310a (即两个衬垫)、两对驱动 衬垫310b (四个驱动衬垫)和多对从动衬垫310c (即，六个从动衬垫)。 在此情况下，将所述对固定衬垫310a提供成定位并固定在中心区域中，且 将所述两对驱动衬垫310b两个接两个地提供在12个衬垫310的两端。将 所述多对从动衬垫310c ^是供在所述对固定衬垫310a与所述两对驱动衬垫 310b之间。
出于以下原因，可以上述方法来划分12个衬垫310。固定村垫310a固 定在对应位置处，且从动衬垫310c在从动衬垫310c与驱动衬垫310b互锁 的状态下移动。
为参考起见，在图中，将固定衬垫310a绘示为面积大于驱动衬垫310b 和从动衬垫310c。另外，将固定衬垫310a中的每一者设置在从连接驱动衬 垫310b与/人动衬垫310c的虚拟线向一侧偏离的位置处。然而，由于此结 构仅为一个示范性实施例，所以本发明并非局限于此。也就是说，固定村 垫310a设置在连接驱动村垫310b与从动衬垫310c的虛拟线上，且与驱动 衬垫310b和从动村垫310c具有相同面积。
所述对固定衬垫310a通过固定衬垫连接部分312a彼此连接，所述两 对驱动衬垫310b通过对应的驱动衬垫连接部分312b彼此连接，且所述多 对,人动衬垫310c通过对应的/人动衬垫连接部分312c -波此连接。因此，驱动 衬垫连接部分312b和从动衬垫连接部分312c (固定衬垫连接部分312a除 外)与两对驱动衬垫310b和多对从动衬垫310c —起移动。
同时，12个衬垫310在彼此接近(参看图16和18 )和彼此以规则间 隔远离(参看图15和17)时支撑具有不同尺寸的基板(未图示)。由此， 提供移动支撑部分320以及第一和第二导轨331和332，使得12个衬垫310 彼此接近和以规则间隔彼此远离。
移动支撑部分320与上述衬垫连接部分312a到312c部分地链接。移 动支撑部分320包含多个链接部分323a和323b，所述多个链接部分经设置 以彼此交叉并彼此接近和彼此远离；和多个铰接销部分325a和325b,其在
24多个链接部分323a和323b的相交点处，整体地4交接耦合到多个链接部分 323a和323b以及衬垫连接部分312a到312c。
在此实施例中，将形成移动支撑部分320的多个链接部分323a和323b 分成多个单元链接群组320a和320b，其以固定衬垫连接部分312a为基础， 在左侧和右侧处彼此独立。如图15到18中所示，两个单元链接群组320a 和320b具有相同结构，且对称设置(主要参看图16)。
形成两个单元链接群组320a和320b的链接部分323a和323b具有相 同单元长度。因此，当两个单元链接群组320a和320b操作时，多个衬垫 310可卩波此接近(参看图16和18 )和以相同间隔H (参看图17 );波此远离 (参看图15和17)。
在固定到固定衬垫连接部分312a的多个铰接销部分325a和325b之间 的4交接销部分325a'和325b'形成参考点，两个独立单元链接群组320a和 320b在所述参考点处移动。在此实施例中，形成两个独立单元链接群组320a 和320b移动的参考点的铰接销部分325a'和325b'在固定衬垫连接部分 312a上彼此远离的位置处形成(参看图16)。
同时，在多个衬垫310根据移动支撑部分320的操作而彼此接近和以 相同间隔H (参看图17)彼此远离的情况下，提供第一和第二导轨331和 332以稳定地引导衬垫310的移动。
第一导轨331耦合到两对驱动衬垫310b，并引导所述两对驱动衬垫 310b的移动，使得两对驱动村垫310b可在多个衬垫310彼此接近和彼此远 离的方向上移动。也就是说，如图15和16中所示，两对驱动衬垫310b可 沿第一导轨331的纵向方向移动。此时，第一导轨331可进一步耦合到驱 动单元(未图示)，所述驱动单元独立地驱动两对驱动衬垫310b,即驱动两 对驱动衬垫310b，使得链接部分323a和323b彼此接近(参看图16和18) 和彼此远离预定长度(图15和17 )。
另外，第二导轨332耦合到多对从动衬垫310c,并引导所述多对从动 衬垫310c的移动。第一和第二导轨331和332可由线性运动或类似运动来 实施。
为了防止第一与第二导轨331与332之间发生相对干扰，在此实施例 中，在相对低于第二导轨332的位置处提供第一导轨331。由此，为了使第 一导轨331提供在相对低于第二导轨332的位置处，可将两对驱动衬垫310b 形成为长度大于多对从动衬垫310c的长度，如图中所示。
现将描述具有上述结构的基板支撑台的操作。
在链接部分323a和323b彼此接近且多个衬垫310彼此接近(如图16 和18中所示)的初始位置处，包含在第一导轨331中的驱动单元操作，以 便使链接部分323a和323b彼此远离，且使衬垫310以相同间隔H (参看图17)彼此远离，如图15和17中所示。
此时，根据单独控制信号，驱动单元独立地驱动两对驱动衬垫310b， 使得链接部分323a和323b变成彼此远离预定长度(参看图16和18 )。
由此，如果两对驱动村垫310b沿第一导轨331在相反方向上移动，那 么多对从动衬垫310c根据链接部分323a和323b的操作也彼此远离与两对 驱动4于垫310b的移动距离相同的距离。
因此，最终，如图15和17中所示，衬垫310可以相同间隔H (参看图 17 )彼此远离。在此状态下，基板G稳定地安装在衬垫310上并以此种方 式被支撑。此时，由于基板G不会损坏或由衬垫310支撑的基板中不会出 现下陷，所以有可能执行稳定的过程，例如纟企查工作。
为参看起见，如果不提供驱动单元，那么操作者可在相反方向上拉动 两对驱动衬垫310b，以便将两对驱动村垫310b设置在所需位置处。
如上文所述，根据此实施例，可稳定地支撑具有不同尺寸的基板，同时 可防止基板G损坏或下陷。
图19是说明根据本发明第五示范性实施例的基板支撑台的透视图。
在上述示范性实施例中，基板G直接安装在多个衬垫310的顶面上并 以此种方式^t支撑。然而，如图19中所示，可进一步在多个衬垫310的顶 面上提供支撑基板G的辅助支撑衬垫340。
在此情况下，辅助支撑衬垫340中的每一者可具有宽条形状，且可耦 合到一对衬垫310，即一对固定衬垫310a、两对驱动衬垫310b中的每一对 和多对从动衬垫310c中的每一对。如图19中所示，如果进一步提供单独 的辅助支撑衬垫340，那么有可能在较宽面积上支撑基板G，这稳定地支撑 了基板G。
图20和21是说明根据本发明第六示范性实施例的基板支撑台的透视图。
在上述第一和第二示范性实施例中，形成两个独立单元链接群组320a 和320b移动的参考点的铰接销部分325a'和325b'被提供在固定衬垫连接 部分312a上彼此远离的位置处(参看图16)。因此，在两个单元链接群组 320a和320b不是彼此连接而是实质上彼此远离的状态下，在设备主体301 中提供两个单元链接群组320a和320b。
然而，与第一和第二示范性实施例不同，形成两个独立单元链接群组 320a和320b移动的参考点的铰接销部分325a'和325b'可提供在固定衬垫 连接部分312a上的同一位置处，如图20和21中所示。
在此情况下，形成两个单元链接群组320a和320b的链接部分323a和 323b可绘示为仿佛其彼此连接。此结构可达到本发明的效果。
图22和23是根据本发明第七示范性实施例的基板支撑台的平面图。
26在上述示范性实施例中，多个衬垫310彼此接近和以相同间隔H (参看 图17)彼此远离。然而，如图22和23中所示，当链接部分323c和323d 构造成具有不同单元长度时，多个衬垫310可彼此接近且以规则间隔H3和 H4 (不是相同的间隔)彼此远离。在一些情况下，多个衬垫310可经构造 以使其彼此接近和以相同的间隔彼此远离。
在上述第一示范性实施例中，省略了描述，但在FPD基板中，TAB可附 接到一边、两个选定边或所有的四个边。在此情况下，光学系统移动单元、 位移传感器和相机被设计成根据所提供的TAB而提供在对应位置处。
在上述第一示范性实施例中，凹痕检查相机和裂缝检查相机沿对应的 光学系统移动单元一起移动。然而，凹痕检查相机和裂缝检查相机可独立 于对应的光学系统移动单元而移动。这可应用于位移传感器。在此情况下， 具有可个别地执行在凹痕检查与裂缝检查之间选择的一种检查的优势。
一般来说，在裂缝检查的情况下，在整个间隔上以较高速度执行裂缝 检查，但在凹痕检查的情况下，由于凹痕检查的特性，所以可执行部分检 查且同时对对应区域进行緩慢的4企查。因此，凹痕检查相机、裂缝4企查相 机和位移传感器中的每一者的移动速度可被控制为不同速度。具体来说，当 凹痕检查相机与位移传感器之间的组合相对较緩慢地被驱动且裂缝检查相 机以较高速度独立地被驱动时，可执行检查。
在上述第一示范性实施例中，可将线扫描相机用作相机。然而，由于 相机可如上文所述由位移传感器和控制单元来控制，所以在一些情况下可 将面阵相机用作相机。
在上述第二和第三示范性实施例中，关于线扫描相机的移动方向，在位 移传感器耦合到线扫描相机的前表面部分的一侧的状态下，位移传感器与 线扫描相^JL一起移动。然而，可实施以下结构。位移传感器可远离线扫描 相机预定距离，而不与线扫描相机集成，且可以不同速度个别地移动。
在上述第四到第七示范性实施例中，多个衬垫中的固定衬垫提供在中 心区域中，且驱动衬垫设置在两侧。然而，固定衬垫可设置在多个衬垫的 一端上，驱动衬垫可设置在多个村垫的另一端上，且从动村垫可设置在固 定衬垫与驱动衬垫之间。即使在此情况下，也可获得相同效果。
如上文所述，根据本发明的基板检查设备和基板支撑台会产生以下效果。
第一，由于单个检查设备共同地执行凹痕检查和裂缝检查，所以可改 进^r查效率且可减少生产时间的量，从而改进生产率。另外，由于可防止 需要不必要的外围装置，所以可减小工作空间，从而与相关技术相比，减少 各种损失。
第二，有可能减少执行凹痕检查所需的生产时间的总量，并增加自动对焦跟踪范围。即使在基板的平面度由于基板的下陷(由于尺寸增加的缘 故)而不规则时，也可执行有效检查，且可减小设备比例和设备安装空间。
第三，与相关技术相比，可减小设备比例和设备安装空间，且相机可 安装在基板的每一表面上，从而减少执行凹痕检查所需的生产时间的总量。
所属领域的技术人员应了解，可在不脱离如由所附权利要求书所界定 的本发明的精神和范围的情况下，对其作出形式和细节上的各种替换、修 改和改变。因此，应了解，上文所述的实施例仅是出于说明的目的，且不 应被解释为对本发明的限制。
权利要求
1.一种基板支撑台，其包括多个衬垫，其支撑基板；以及移动支撑部分，其可移动地支撑所述多个衬垫，使得所述多个衬垫彼此接近和以规则间隔彼此远离。
2. 根据权利要求1所述的基板支撑台，其中所述多个衬垫包含 一对固定衬垫，其/人所述多个衬垫中选出；至少一对驱动衬垫，其从所述多个衬垫中选出，并远离所述对固定衬 垫而定4立；以及多对从动衬垫，其设置在所述对固定衬垫与所述对驱动衬垫之间。
3. 根据权利要求2所述的基板支撑台，其中所述对固定衬垫定位并 固定在所述多个衬垫的中心处，且至少所述对驱动衬垫设置在所述多个衬 垫的两侧。
4. 根据权利要求3所述的基板支撑台，其进一步包括 固定衬垫连接部分，其使所述对固定衬垫彼此连接； 驱动衬垫连接部分，其使至少所述对驱动衬垫彼此连接；以及 从动衬垫连接部分，其中的每一者均使所述多对从动衬垫中的每一对对应的从动衬垫4皮此连才妄，其中所述移动支撑部分部分地链接到所述衬垫连接部分。
5. 根据权利要求4所述的基板支撑台，其中所述移动支撑部分包含 多个链接部分，其设置成彼此交叉，且彼此接近和彼此远离；以及 多个铰接销部分，其在所述多个链接部分的相交点处，整体地铰接耦合到所述多个链接部分和所述多个衬垫连接部分。
6. 根据权利要求5所述的基板支撑台，其中所述多个链接部分分成 两个独立的单元链接群组，且所述两个单元链接群組中的每一者均从所述 固定衬垫连接部分朝向每一驱动衬垫连接部分一侧形成。
7. 才艮据权利要求6所述的基板支撑台，其中在所述两个单元链接群 组中所提供的所述多个铰接销部分中，将铰接耦合到所述固定村垫连接部 分的铰接销部分提供为在所述固定衬垫连接部分上彼此远离。
8. 根据权利要求6所述的基板支撑台，其中在所述两个单元链接群 组中所提供的所述多个铰接销部分中，将铰接耦合到所述固定村垫连接部 分的铰接销部分提供在所述固定衬垫连接部分上的同 一位置处。
9. 根据权利要求2所述的基板支撑台，其进一步包括 第一导轨，其耦合到所述至少一对驱动衬垫，并引导所述至少一对驱动衬垫的移动，使得所述至少一对驱动衬垫在所述多个衬垫彼此接近和彼jt匕远离的方向上移动；以及第二导轨，其耦合到所述多对从动衬垫，并引导所述多对从动衬垫的移动。
10. 根据权利要求9所述的基板支撑台，其进一步包括 设备主体，其支撑所述第一和第二导轨，其中，在所述设备主体中，将所述第一导轨提供在比所述第二导轨相 对较低的位置处。
11. 根据权利要求9所述的基板支撑台，其中独立地驱动所述至少一 对驱动衬垫的驱动单元进一步耦合到所述第一导轨。
12. 根据权利要求1所述的基板支撑台，其中所述多个衬垫借助所述 移动支撑部分而彼此接近和以相等间隔彼此远离。
13. 根据权利要求1所述的基板支撑台，其进一步包括辅助支撑衬垫，其耦合到所述多个衬垫的顶面，并支撑所述基板。
14. 根据权利要求13所述的基板支撑台，其中提供多个辅助支撑衬 垫，且所述多个辅助衬垫各自耦合到所述多对村垫中的每一对。
全文摘要
本发明揭示一种基板支撑台和一种具有所述基板支撑台的基板检查设备。一种基板检查设备包括台，其上面稳定地安装有基板，所述基板成为检查目标，其中对附接到所述基板的一边的TAB的区域执行凹痕检查和裂缝检查；至少一个凹痕检查相机，其对所述TAB区域进行照相，以便检查所述TAB中是否出现凹痕；至少一个裂缝检查相机，其对所述TAB区域进行照相，以便检查所述基板的TAB区域中是否出现裂缝；以及光学系统移动单元，其支撑所述凹痕检查相机和所述裂缝检查相机，以便相对于所述台而相对地移动。
文档编号G01N21/95GK101666760SQ20091017986
公开日2010年3月10日 申请日期2007年6月12日 优先权日2006年6月13日
发明者崔裕灿, 朴珉镐, 洪旋珠 申请人:Sfa工程股份有限公司