专利名称：波片位相延迟量测量方法及光胶盘的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种波片位相延迟量测量方法及光胶盘。
背景技术：
光学波片是偏振光学中的重要原件，在与偏振光有关的光学系统中有着广泛的应用，如光学干涉仪、光学调制器、光隔离器、光盘读取头、椭偏仪等。作为光学系统中的重要组成元件，波片位相延迟量的精度会影响整个系统的使用效果。为了加工、制造高精度的波片，需要对波片制造工序中的每个环节进行精密控制。目前波片加工工序中，波片被光胶到光胶盘上，一起研磨、抛光。
图1所示为现在波片加工中所用光胶盘结构，1为光胶盘，2为波片。光胶盘和波片表面均抛光，表面粗糙度很小，两者通过分子间范德华力结合，光胶在一起。由于光胶时范德华力的存在，必然会引入应力双折射。表1为波片光胶在光胶盘上和取下时测得的位相延迟数据，可以看到光胶上和取下时位相延迟值不同。表1。光胶在光胶盘上和取下光胶盘时测量值
权利要求
1.一种波片位相延迟量在线测量方法，其特征在于，所述方法为令测量光束穿过波片和光胶盘上与波片位置对应的通孔得到测量结果，消除光胶应力双折射和/或光胶盘加工残余应力双折射对测量结果的影响。
2.根据权利要求1所述的波片位相延迟量在线测量方法，其特征在于，所述方法包括下述步骤在光胶盘上加工通孔； 在所述通孔内串设套管；将波片覆盖在所述通孔放置上，波片的边缘光胶于所述光胶盘上； 令测量光束穿过波片和通孔得到测量结果。
3.光胶盘，其特征在于，所述光胶盘包括光胶盘本体，所述光胶盘本体上设有至少一个通孔，所述通孔内设有不透光材质的套管。
4.根据权利要求3所述的光胶盘，其特征在于，所述通孔与所述套管过盈配合。
5.根据权利要求3所述的光胶盘，其特征在于，所述套管内设置支撑柱，所述套管与所述支撑柱过盈配合。
6.根据权利要求3所述的光胶盘，其特征在于，所述通孔由超声波方法加工制成。
全文摘要
本发明公开一种波片位相延迟量在线测量方法，为解决现有测量方法精度差的问题而设计。本发明波片位相延迟量在线测量方法为令测量光束穿过波片和光胶盘上与波片位置对应的通孔得到测量结果，消除光胶应力双折射和/或光胶盘加工残余应力双折射对测量结果的影响。该方法包括下述步骤在光胶盘上加工通孔；在通孔内串设套管；将波片覆盖在通孔放置上，波片的边缘光胶于光胶盘上；令测量光束穿过波片和通孔得到测量结果。本发明光胶盘包括光胶盘本体、通孔、支撑柱和套管。本发明波片位相延迟量在线测量方法测量效果更好，精度更高。本发明光胶盘适合于实现上述测量方法，令波片位相延迟量在线测量精度更好。
文档编号G01M11/02GK102507143SQ20111029722
公开日2012年6月20日 申请日期2011年9月30日 优先权日2011年9月30日
发明者张书练, 李浩昊, 赵子英, 陈文学 申请人:清华大学