一种vdmos器件低频噪声测量装置制造方法

文档序号:6252883阅读:181来源:国知局
一种vdmos器件低频噪声测量装置制造方法
【专利摘要】本发明是一种VDMOS器件低频噪声测量装置,其特点是,包括VDMOS偏置电路、噪声匹配变压器、放大单元、负反馈网络、滤波单元、频谱分析仪依次串联;偏置电路激发待测器件VDMOS产生噪声,偏置电路输出端与变压器相连;噪声匹配变压器与放大单元相连降低放大单元的背景噪声,使其低于待测器件噪声的量级;放大单元外接负反馈网络,用来稳定放大器的放大增益,抑制环内噪声滤波单元与频谱分析仪相连,滤除额外的频率成分,得到待测的低频噪声。对低频噪声信号放大后,几乎不会改变原有的噪声信号固有的频谱带宽,具有结构简单,使用方便,测量准确等优点。
【专利说明】一种VDMOS器件低频噪声测量装置

【技术领域】
[0001] 本发明涉及的一种噪声测量装置,尤其涉及一种VDMOS器件低频噪声测量装置。

【背景技术】
[0002] 随着半导体技术的发展与电力电子器件的更新换代,功率VDMOS器件广泛应于电 子设备与变频调速系统等领域。VDMOS质量和可靠性关系到产品的使用寿命与使用者的人 身安全。
[0003] 近年来研宄发现低频噪声是表征VDMOS质量和可靠性的一个重要敏感参数,因此 对VDMOS器件低频噪声测量在评估器件可靠性的研宄有着至关重要的意义。
[0004] 传统的电路检测法是对VDMOS器件的可靠性表征参数的检测。即测量器件的导 通电阻、漏电流、阈值电压、跨导等参数,根据这些参数的变化来判断其可靠性。其失效机 理是:在偏置条件下,随着VDMOS栅级氧化层中电荷不断增加,沟道中载流子迀移率的变 化,最终导致器件的导通电阻上升;二氧化硅表面、界面及氧化层内的电荷位移变化会造成 VDMOS器件阈值电压漂移。然而对于这些电参数的变化的测试需要进行恒定电应力、高低温 循环和功率循环试验等加速寿命试验方法,不仅测量时间长而且带有破坏性同时还会引入 很大的噪声,并且只能对器件所在批次进行可靠性分析,对具体的器件无法给出精确的分 析结果。
[0005] 同时,传统的低频噪声测量装置为了获取可测量的噪声幅值,往往会提高放大器 的放大增益,对待测噪声信号放大的同时,牺牲了待测噪声的部分带宽,这就会改变原有待 测噪声固有频带宽度。因此这会对后期用频谱仪分析待测噪声,产生严重的干扰,也对评估 器件可靠性带来了极大的影响。


【发明内容】

[0006] 本发明的目的是,克服了现有技术对器件破环性的缺点,对低频噪声信号放大后, 几乎不会改变原有的噪声信号固有的频谱带宽,结构简单,使用方便,测量准确的VDMOS器 件低频噪声测量装置。
[0007] 本发明的目的是由以下技术方案来实现的:一种VDMOS器件低频噪声电路测量装 置,其特征在于:包括一种VDMOS偏置电路、噪声匹配变压器、放大单元、负反馈网络、滤波 单元、频谱分析仪依次串联;所述的偏置电路,激发待测器件VDMOS产生噪声,偏置电路的 输出端与变压器相连;所述的噪声匹配变压器与放大单元相连降低放大单元内的背景噪 声,使其低于待测器件噪声的量级;所述的放大单元外接负反馈网络,用来稳定放大器的放 大增益,抑制环内的噪声;所述的滤波单元与相连频谱分析仪相连,滤除额外的频率成分, 得到所测的低频噪声。
[0008] 所述装置中的器件均是低噪声器件,小于待测噪声的一个数量级。
[0009] 所述VDMOS偏置电路具有极低的噪声,有良好的响应度以及较低的负载调整率, 能为负载变化提供快速的响应。
[0010] 所述的VDMOS器件偏置电路是一种直流偏置交流耦合技术,将其置于屏蔽罩中, 并且,其输出端有一親合电容。
[0011] 所述的变压器为升压变压器的初级线圈匝数:次级线圈匝数=l:n,并满足以下 关系式

【权利要求】
1. 一种VDMOS器件低频噪声电路测量装置,其特征在于:包括一种VDMOS偏置电路、噪 声匹配变压器、放大单元、负反馈网络、滤波单元、频谱分析仪依次串联;所述的偏置电路激 发待测器件VDMOS产生噪声,偏置电路的输出端与变压器相连;所述的噪声匹配变压器与 放大单元相连降低放大单元内的背景噪声,使其低于待测器件噪声的量级;所述的放大单 元外接负反馈网络,用来稳定放大器的放大增益,抑制环内的噪声;所述的滤波单元与相连 频谱分析仪相连,滤除额外的频率成分,得到所测的低频噪声。
2. 根据权利要求1所述的一种VDMOS器件低频噪声测量装置,其特征在于,所述装置中 的器件均是低噪声器件,小于待测噪声的一个数量级。
3. 根据权利要求1所述的一种VDMOS器件低频噪声测量装置,其特征在于,所述VDMOS 偏置电路具有极低的噪声,有良好的响应度以及较低的负载调整率,能为负载变化提供快 速的响应。
4. 根据权利要求1或3所述的一种VDMOS器件低频噪声测量装置,其特征在于,所述 的VDMOS器件偏置电路是一种直流偏置交流耦合技术,将其置于屏蔽罩中,并且,其输出端 有一親合电容。
5. 根据权利要求1所述的一种VDMOS器件低频噪声测量装置,其特征在于,所述 的变压器为升压变压器的初级线圈匝数:次级线圈匝数=l:n,并满足以下关系式:
其中En为运放的噪声电压,In为为运放的噪声电流,Zn为噪声源的内阻。
6. 根据权利要求5所述的一种VDMOS器件低频噪声测量装置,其特征在于,所述的变压 器的初级损耗电阻远小于噪声信号源的电阻,初级与次级之间各有一相互绝缘的屏蔽层。
7. 根据权利要求1所述的一种VDMOS器件低频噪声测量装置,其特征在于,所述的负反 馈网络是由JFET构成的负反馈系统,利用栅源电压来改变沟道电阻的大小,控制系统的反 馈。
【文档编号】G01R29/26GK104459359SQ201410766216
【公开日】2015年3月25日 申请日期:2014年12月14日 优先权日:2014年12月14日
【发明者】陈晓娟, 李建坡, 郭立泉, 姜万昌, 李楠, 赵立权, 吴洁, 樊欣欣 申请人:东北电力大学
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