一种基板位置检测装置制造方法
【专利摘要】本实用新型所述的一种基板位置检测装置，所述装置包括：检测箱体、摆杆和滚轮，所述摆杆的一端通过转轴活动连接于所述检测箱体内，其另一端连接所述滚轮，所述基板运动带动摆杆摆动，所述检测箱体内设有通过摆杆的摆动驱动工作的信号检测器。本实用新型的检测箱体位于液面上方，其信号检测器设置于检测箱体中被保护起来，基板在液面通过时会推动摆杆，使摆杆发生偏移，此时的信号检测器会检测到基板到达信号，获知基板到达，当基板通过以后摆杆的位置恢复到起始位置，信号检测器会获取基板通过后的信号，通过此信号可判断基板已处于通过状态；由于检测部分不置于液面下方，因此不会出现结垢和误测现象。
【专利说明】一种基板位置检测装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及显示【技术领域】，具体涉及一种基板位置检测装置。
【背景技术】
[0002]通常，在制造液晶面板或OLED的过程中，需要在反应腔内对基板进行处理，如清洗或刻蚀等，当基板被传送至反应腔时，需要对基板的位置进行检测，以判定基板是否到达指定位置。
[0003]传统的清洗或刻蚀设备中采用摇摆感应器，其放置于液面以下，当有基板走过后，摇摆头会随基板呈现水平位置，这样，摇摆感应器会呈现开路或闭路，并将检测基板当前位置的信号上传给上位机；这种结构设计在有水垢或其他原因时会出现不能恢复原状态的现象，当没有基板时，摇摆感应器也会将有基板的信息上传给上位机而导致机台停机。
实用新型内容
[0004]为此，本实用新型所要解决的技术问题是针对传感器置于液体中所引起的水垢和结晶问题。
[0005]为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种基板位置检测装置，包括:检测箱体、摆杆和滚轮，所述摆杆包括通过转轴活动连接于所述检测箱体内的第一端，及连接随基板运动的滚轮的第二端，所述检测箱体内设有通过摆杆的摆动驱动工作的信号检测器。
[0006]所述的信号检测器为设置于所述检测箱体内的光信号源，所述光信号源包括光信号发射端和光信号接收端，所述摆杆静止时位于所述光信号发射端与所述光信号接收端之间，并阻断所述光信号发射端向所述光信号接收端所发射的光信号；所检测的基板驱动所述摆杆发生偏移，所述光信号接收端接收到所述光信号发射端所发射的光信号。
[0007]所述摆杆的初始检测位置为竖直状态。
[0008]所述的光信号源为激光、紫外光和LED光中的一种。
[0009]所述的信号检测器为用于发射磁场信号的磁场信号源，所述检测箱体上还设有电流信号检测器；所述摆杆上设有闭合导线回路，其设置于所述磁场信号源所发射的磁场中，所述电流信号检测器用于检测所述摆杆上的闭合导线回路在切割磁力线时所产生的电流信号。
[0010]所述滚轮为耐腐蚀滚轮。
[0011]所述摆杆为金属杆或高分子聚合物杆。
[0012]所述检测箱体的顶面和侧面由耐腐蚀透明壳体围成，其底面由可伸缩材料制成的底部密封层密封，所述摆杆贯穿于所述底部密封层。
[0013]本实用新型相对于现有技术具有如下有益效果:
[0014]A.本实用新型所提供的检测箱体位于液面上方，其信号检测器设置于检测箱体中被保护起来，基板在液面通过时会推动摆杆，使摆杆发生偏移，此时的信号检测器会检测到基板到达信号，通过此信号可判断基板已处于通过状态；由于检测部分不置于液面下方，因此不会出现结垢和误测现象。
[0015]B.由于检测部分不与酸碱液体接触，不受环境的影响，其稳定性强，且使用范围广，亦可应用在非酸碱液的普通液体环境。
【专利附图】
【附图说明】
[0016]为了使本实用新型的内容更容易被清楚的理解，下面根据本实用新型的具体实施例并结合附图，对本实用新型作进一步详细的说明，其中
[0017]图1A是本实用新型所提供的检测基板处于到达状态下的结构示意图；
[0018]图1B是本实用新型所提供的检测基板处于通过状态下的结构示意图；
[0019]图2是本实用新型所提供的一种检测装置在检测状态下的结构示意图；
[0020]图3是图2中的检测箱体与光信号源的布置立体图；
[0021]图4是本实用新型所提供的另一种检测装置在检测状态下的结构示意图；
[0022]图5图4中的检测箱体与磁场信号源、电流信号检测器的布置的立体图。
[0023]图中:1_检测箱体，11-耐腐蚀透明壳体，12-底部密封层；2_摆杆；3-滚轮；4-信号检测器，41-光信号源，411-光信号发射端，412-光信号接收端，42-磁场信号源，43-电流信号检测器；5_基板；6_液面；7_转轴；8_磁场；9_光信号。
【具体实施方式】
[0024]为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型实施方式作进一步地详细描述。
[0025]本实用新型提供了一种基板位置检测装置，如图1A所示，包括:检测箱体1、摆杆2和耐腐蚀的滚轮3，摆杆2的第一端通过转轴7设置于检测箱体I内，其第二端连接所述滚轮3，检测箱体I内设有信号检测器4，所述基板5达到时，耐磨滚轮3会在基板5的上平面上随着基板5的移动发生滚动，从而带动摆杆2摆动，所述摆杆2的摆动驱动所述信号检测器4工作，通过信号检测器4所检测到的信号判断基板5的位置。
[0026]其中，耐腐蚀滚轮3属于轻质滚轮，耐磨滚轮3设置于基板5边缘无图形区域，即靠近基板5边缘7-10_处。摆杆2为金属杆或高分子聚合物杆。
[0027]由图1中可看出，其中的检测箱体I的顶面和侧面由耐腐蚀透明壳体11围成，其底面由可伸缩材料制成的底部密封层12密封，摆杆2贯穿于底部密封层12，底部密封层12紧扣摆杆2，并随着摆杆2位置的变化出现而变化。
[0028]实施例1
[0029]如图2和图3所示，其中的检测箱体I中的信号检测器4为激光等光信号源，这里的光信号源可以为激光、紫外光或LED光中的一种。其中光信号源41的光信号发射端411和光信号接收端412均设置于检测箱体I的两侧，并形成对射结构。
[0030]A.基板5到达前，光信号发射端411发出的光信号被摆杆2挡住，光信号接收端412无光感信号；
[0031]B.基板5到达时，摆杆2随滚轮3运动到基板5上，光信号发射端411发出的光信号9被光信号接收端412接收，表明基板5到达；
[0032]C.基板5过去后，摆杆2及滚轮3恢复到原来位置，光信号接收端412再一次无光感信号。
[0033]其中，光信号接收端412接收到光信号作为基板5到达信号，光信号接收端412再次无光信号作为基板5通过的信号。
[0034]实施例2
[0035]如图3和图5所示，其中的信号检测器4为设置于所述检测箱体I内用于发射磁场信号的磁场信号源，磁场信号源发射磁场8，在金属摆杆2的上下端连接导线组成闭合回路，检测箱体I上设有电流信号检测器43，如图5中的电流信号检测器43设置于检测箱体I的顶面。摆杆2上的闭合导线回路设置于磁场信号源所发射的磁场8中，电流信号检测器43用于检测摆杆2在切割磁力线时所产生的电流信号。
[0036]A.基板5到达前，金属摆杆2在磁场8中静止；
[0037]B.基板5到达时，金属摆杆2随滚轮3运动到基板5上，金属摆杆2切割磁感线，在闭合回路中产生感应电流，在电流信号检测器43中产生电流信号；
[0038]C.基板5过去后，金属摆杆2及滚轮3恢复到原来位置，金属摆杆2再一次切割磁感线，产生电流信号。
[0039]两次间隔的电流信号中的第一次作为基板5到达信号，第二次作为基板5通过的信号。
[0040]显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本实用新型的保护范围之中。
【权利要求】
1.一种基板位置检测装置，其特征在于，包括:检测箱体、摆杆和滚轮，所述摆杆包括通过转轴活动连接于所述检测箱体内的第一端，及连接随基板运动的滚轮的第二端，所述检测箱体内设有通过摆杆的摆动驱动工作的信号检测器。
2.根据权利要求1所述的基板位置检测装置，其特征在于，所述的信号检测器为光信号源，所述光信号源包括光信号发射端和光信号接收端，所述摆杆静止时位于所述光信号发射端与所述光信号接收端之间，并阻断所述光信号发射端向所述光信号接收端所发射的光信号；所检测的基板驱动所述摆杆发生偏移，所述光信号接收端接收到所述光信号发射端所发射的光信号。
3.根据权利要求2所述的基板位置检测装置，其特征在于，所述摆杆的初始检测位置为竖直状态。
4.根据权利要求2所述的基板位置检测装置，其特征在于，所述的光信号源为激光、紫外光和LED光中的一种。
5.根据权利要求1所述的基板位置检测装置，其特征在于，所述的信号检测器为用于发射磁场信号的磁场信号源，所述检测箱体上还设有电流信号检测器；所述摆杆上设有闭合导线回路，其设置于所述磁场信号源所发射的磁场中，所述电流信号检测器用于检测所述摆杆上的闭合导线回路在切割磁力线时所产生的电流信号。
6.根据权利要求1所述的基板位置检测装置，其特征在于，所述滚轮为耐腐蚀滚轮。
7.根据权利要求1所述的基板位置检测装置，其特征在于，所述摆杆为金属杆或高分子聚合物杆。
8.根据权利要求1所述的基板位置检测装置，其特征在于，所述检测箱体的顶面和侧面由耐腐蚀透明壳体围成，其底面由可伸缩材料制成的底部密封层密封，所述摆杆贯穿于所述底部密封层。
【文档编号】G01B21/00GK204228130SQ201420712958
【公开日】2015年3月25日 申请日期:2014年11月24日 优先权日:2014年11月24日
【发明者】王欢 申请人:昆山国显光电有限公司