一种成像光谱图像质量检验装置的制作方法

1.本实用新型属于成像光谱扫描领域，具体公开一种成像光谱图像质量检验装置。


背景技术：

2.岩心成像光谱扫描技术是2019年度自然资源部节能及综合利用先进适用技术，目前该技术虽在数据获取方面取得了很大进步，但在数据质量检查方面缺少统一有效的检查方法。因此需要提供一种成像光谱图像质量检验装置，以达到有效提高数据检查效率，节省时间的目的。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的在于提供一种成像光谱图像质量检验装置，具有便于准备、使用和移动的特点，可以大大缩短检验时间。
4.本实用新型的技术方案是：
5.一种成像光谱图像质量检验装置，该装置包括底座、凹槽一、凹槽二、凹槽三、凹槽四；
6.其中凹槽一、凹槽二、凹槽三和凹槽四位于底座上。
7.所述的凹槽一里放置白板。
8.所述的凹槽二里放置黑板。
9.所述的凹槽三里放置峰位检验样品。
10.所述的凹槽四里放置图像分辨率检测样品。
11.所述的白板为标准漫反射白板。
12.所述的黑板为低反射率光学黑板。
13.所述的峰位检验样品为峰位已知的物品。
14.所述的图像分辨率检测样品为尺寸已知的有黑白相间的色块组成的图像。本实用新型具有以下有益效果：
15.(1)本实用新型具有多种功能，即可以实现对高光谱图像的辐射定标，又可以实现对图像的检验；
16.(2)本实用新型可同时实现对高光谱图像的空间和光谱两个维度的检验；
17.(3)本实用新型结构简单便于拆卸和组装；
18.(4)本实用新型使用简单，只需要将本实用新型放置于高光谱相机的视域内或扫描路线上。
附图说明
19.图1是本实用新型提供的一种成像光谱图像质量检验装置结构示意图；
20.图中：1
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底座；2
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凹槽一；3
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凹槽二；4
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凹槽三；5
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凹槽四；6
‑
白板；7
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黑板；8
‑
峰位检验样品；9
‑
图像分辨率检测样品。
具体实施方式
21.下面结合实施例对本实用新型作进一步详细说明。
22.如图1所示，本实用新型提供了一种成像光谱图像质量检验装置，该装置包括底座1、凹槽一2、凹槽二3、凹槽三4、凹槽四5、白板6、黑板7、峰位检验样品8和图像分辨率检测样品9；凹槽一2、凹槽二3、凹槽三4和凹槽四5位于底座1上。
23.白板6为标准漫反射白板。
24.黑板7为低反射率光学黑板。
25.峰位检验样品8为峰位已知的物品。
26.图像分辨率检测样品9为尺寸已知的有黑白相间的色块组成的图像。
27.底座1由塑料制成。
28.该成像光谱图像质量检验装置的具体使用方法为：
29.步骤(1)将白板6放置在凹槽一2里，黑板7放置在凹槽二3里，峰位检验样品8放置在凹槽三4里，图像分辨率检测样品9放置在凹槽四5里；
30.步骤(2)将装置摆放在成像光谱仪的视域内或扫描路线上，完成一次扫描；
31.步骤(3)利用装置上的白板6和黑板7进行仪器定标；
32.步骤(4)利用峰位检验样品8检验峰位和反射率的准确情况；
33.步骤(5)利用图像分辨率检测样品9检验图像的分辨率。
34.上面结合实施例对本实用新型作了详细说明，但是本实用新型并不限于上述实施例，在本领域普通技术人员所具备的知识范围内，还可以在不脱离本实用新型宗旨的前提下作出各种变化。本实用新型中未作详细描述的内容均可以采用现有技术。


技术特征：
1.一种成像光谱图像质量检验装置，其特征在于：该装置包括底座(1)、凹槽一(2)、凹槽二(3)、凹槽三(4)、凹槽四(5)；其中凹槽一(2)、凹槽二(3)、凹槽三(4)和凹槽四(5)位于底座(1)上。2.根据权利要求1所述的一种成像光谱图像质量检验装置，其特征在于：所述的凹槽一(2)里放置白板(6)。3.根据权利要求2所述的一种成像光谱图像质量检验装置，其特征在于：所述的凹槽二(3)里放置黑板(7)。4.根据权利要求3所述的一种成像光谱图像质量检验装置，其特征在于：所述的凹槽三(4)里放置峰位检验样品(8)。5.根据权利要求4所述的一种成像光谱图像质量检验装置，其特征在于：所述的凹槽四(5)里放置图像分辨率检测样品(9)。6.根据权利要求5所述的一种成像光谱图像质量检验装置，其特征在于：所述的白板(6)为标准漫反射白板。7.根据权利要求6所述的一种成像光谱图像质量检验装置，其特征在于：所述的黑板(7)为低反射率光学黑板。8.根据权利要求7所述的一种成像光谱图像质量检验装置，其特征在于：所述的峰位检验样品(8)为峰位已知的物品。9.根据权利要求8所述的一种成像光谱图像质量检验装置，其特征在于：所述的图像分辨率检测样品(9)为尺寸已知的有黑白相间的色块组成的图像。

技术总结
本实用新型属于岩心成像光谱扫描领域，具体公开一种成像光谱图像质量检验装置，该装置包括底座、凹槽一、凹槽二、凹槽三、凹槽四、白板、黑板、峰位检验样品和图像分辨率检测样品，凹槽一、凹槽二、凹槽三和凹槽四位于底座上，白板放置在凹槽一里，黑板放置在凹槽二里，峰位检验样品放置在凹槽三里，图像分辨率检测样品放置在凹槽四里。该实用新型具有多种功能，即可以实现对高光谱图像的辐射定标，又可以实现对图像的检验；可同时实现对高光谱图像的空间和光谱两个维度的检验；结构简单便于拆卸和组装；使用简单，只需要将本实用新型放置于高光谱相机的视域内或扫描路线上。谱相机的视域内或扫描路线上。谱相机的视域内或扫描路线上。


技术研发人员：邱骏挺
受保护的技术使用者：核工业北京地质研究院
技术研发日：2021.01.08
技术公布日：2021/10/23