可温控光学观测装置的制作方法

本申请涉及分析领域，更具体地说，涉及一种可温控光学观测装置。

背景技术：

1、在液体检测中为了尽快掌握水体污染程度，测定一些特定污染物，需要将液体放置在可温控光学观测装置内进行反应、处理及测量等步骤，从而计算出被测因子的含量。因此，可温控光学观测装置的优劣对检测结果至关重要，可温控光学观测装置需要具备耐高温、耐腐蚀、热稳定性好、透光性好、使用方便等特性。

2、目前市面上的可温控光学观测装置多采用石英材质的反应容器，然而，石英材质的反应容器的加工难度大、加工成本高。一方面，温度传感器的位置受到石英反应容器的限制，使得石英反应容器的形状复杂，增加了加工难度，另一方面，石英反应容器的表面需要缠绕电阻丝进行加热，为了固定电阻丝，石英反应容器外壁上设置有焊点或凹槽，而焊点和凹槽的加工精度要求极高，依赖手工加工。由于石英反应容器的加工温度在1700℃以上，手工加工困难，容易导致加工一致性较差，因此尤其不适用于微量液体(0.5ml-5ml)的处理和分析。

3、因此，在满足高温高压条件下的液体处理和分析要求下，如何降低可温控光学观测装置的加工难度和成本，成为本领域需要解决的技术问题。

技术实现思路

1、有鉴于此，本申请提出了一种可温控光学观测装置，该可温控光学观测装置加工难度小，成本低，同时具备耐高温、耐腐蚀、热稳定性好、透光性好、使用方便等特性。

2、根据本申请的一个方面，提出了一种可温控光学观测装置，该可温控光学观测装置包括反应容器和温控体，该温控体全部覆盖或部分覆盖于所述反应容器外，其中，所述反应容器的容积为0.1ml-20ml。

3、根据本申请的技术方案，此可温控光学观测装置采用温控体全部覆盖或部分覆盖于反应容器外的方式，可以将复杂的机构设置于容易加工的温控体上，尽可能地简化加工难度大的反应容器的结构，从而降低可温控光学观测装置的加工难度和加工成本。

4、因此，该可温控光学观测装置既能满足高温高压条件下的液体处理和分析要求，具备耐高温、耐腐蚀、热稳定性好、透光性好、使用方便等特性，同时，其加工难度小、成本低。

5、本申请的其它特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。

技术特征：

1.一种可温控光学观测装置，其特征在于，该可温控光学观测装置包括反应容器(12)和温控体(16)，该温控体(16)全部覆盖或部分覆盖于所述反应容器(12)外，其中，所述反应容器(12)的容积为0.1ml-20ml，优选地，所述反应容器(12)的容积为0.1ml-2ml。

2.根据权利要求1所述的可温控光学观测装置，其特征在于，所述反应容器(12)设置有底部开口，该底部开口外径小于所述反应容器(12)的中部内径，优选地：

3.根据权利要求1所述的可温控光学观测装置，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的可温控光学观测装置，其特征在于，所述反应容器(12)和所述温控体(16)间隙配合，优选地，所述反应容器(12)和所述温控体(16)之间填充有导热材料。

5.根据权利要求3所述的可温控光学观测装置，其特征在于，所述温控体(16)包括温度传感器(14)和套设于所述反应容器(12)外的主体，该温度传感器(14)邻近所述反应容器(12)设置，优选地：

6.根据权利要求5所述的可温控光学观测装置，其特征在于，所述温控体(16)包括电阻丝(18)或制热/制冷通道中至少一者，该电阻丝(18)或制热/制冷通道设置于所述主体的内侧或外侧，或者，所述电阻丝(18)或制热/制冷通道设置于所述主体内部。

7.根据权利要求6所述的可温控光学观测装置，其特征在于，所述可温控光学观测装置包括温度开关(30)，用于控制所述电阻丝(18)和/或所述制热/制冷通道的电路通断。

8.根据权利要求6所述的可温控光学观测装置，其特征在于，所述温控体(16)包括导向限位结构(27)和固定件(28)，其中，

9.根据权利要求6所述的可温控光学观测装置，其特征在于，所述温控体(16)设置有观察窗口(24)、测量窗口(26)、通光带(25)中至少一者，其中，

10.根据权利要求1所述的可温控光学观测装置，其特征在于，所述反应容器(12)为透明件或半透明件，和/或，所述温控体(16)导热且绝缘，优选地，所述反应容器(12)的材质是石英、玻璃、有机玻璃、蓝宝石、透明有机物或其组合，和/或，所述温控体(16)的材质是陶瓷、玻璃、塑料、金属、特氟龙或其组合。

技术总结
本申请公开了一种可温控光学观测装置，所述可温控光学观测装置包括反应容器和温控体，该温控体全部覆盖或部分覆盖于所述反应容器外，其中，所述反应容器的的容积为0.1mL‑20mL，根据本申请的技术方案，提供一种加工难度小，成本低的可温控光学观测装置，同时此可温控光学观测装置耐高温、耐腐蚀、热稳定性好、透光性好、使用方便。

技术研发人员：请求不公布姓名,请求不公布姓名,请求不公布姓名,请求不公布姓名
受保护的技术使用者：桂林云璟仪器制造有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/3/11