一种缺陷检测装置的制作方法

本技术涉及半导体检测，具体涉及一种缺陷检测装置。

背景技术：

1、半导体检测中，明场和暗场作为常规使用的检测方式，使得半导体上的缺陷能够被检测出来，进而提高了半导体的质量。

2、现有技术的半导体检测中为了提高检测效率通常通过明场、暗场在时间、空间上错位交替拍摄的方式，将需要两次扫描减少为一次，然而在实际应用中明场光源和暗场光源在传播过程中，由于光的扩散导致光线损失较大，进而使得半导体检测画面不清晰，使得检测效果较差。因此，亟需设一种缺陷检测装置来解决上述问题。

技术实现思路

1、本实用新型提出一种缺陷检测装置，解决了现有技术中的问题。

2、本实用新型的技术方案是这样实现的：

3、一种缺陷检测装置，包括交替作业的明场照明系统以及暗场照明系统，分别用于产生被测物使用的明场光和暗场光，并通过第一光路将携带有被测物信息的明场光和暗场光投射至第一相机和第二相机内。

4、在本发明的一个实施例中，所述第一光路包括第一分光棱镜和第二分光棱镜，所述第一分光棱镜接收由所述被测物反射的明场光和暗场光，后将明场光和暗场光投射至第二分光棱镜，所述第二分光棱镜将所述明场光分至第一相机和第二相机。

5、在本发明的一个实施例中，所述第一光路还包括中继透镜，用于接收来自第一分光棱镜透射的明场光和暗场光，并投射至第二分光棱镜。

6、在本发明的一个实施例中，所述第一光路还包括物镜，所述物镜接收由所述被测物反射的明场光和暗场光，后将所述明场光和暗场光投射至所述第一分光棱镜。

7、在本发明的一个实施例中，所述明场照明系统包括明场光源以及第二光路，所述明场光源产生明场光并通过所述第二光路将所述明场光投射至第一分光棱镜，并经由所述第一分光棱镜通过物镜投射至被测物。

8、在本发明的一个实施例中，所述第二光路包括反射镜，所述反射镜将明场光源产生的明场光反射至所述第一分光棱镜。

9、在本发明的一个实施例中，所述第二光路还包括准直镜，所述准直镜将所述反射镜反射的明场光准直后投射至第一分光棱镜。

10、在本发明的一个实施例中，所述暗场照明系统包括配置在所述被测物照明范围内的环形暗场以及与所述环形暗场连接的暗场光源，所述环形暗场为所述被测物提供暗场照明环境。

11、在本发明的一个实施例中，所述环形暗场配置在所述被测物与所述物镜之间。

12、在本发明的一个实施例中，所述第一相机为主线扫相机，所述第二相机为辅助线扫相机。

13、有益效果：

14、(1)本实用新型通过准直镜减小明场光源产生的光扩散，并通过中继透镜使得携带信息的光投射到第一相机和第二相机上时更加的均匀，进而使得第一相机和第二相机拍摄的画面更加的清晰，使得检测效果得到提高。

15、(2)本实用新型通过环形暗场和明场光源使得明场和暗场交替采图，只需一次扫描即可完成半导体的明场和暗场的检测，从而减少明场和暗场各扫一次的检测时间，进而提高半导体的检测效率和生产效率。

技术特征：

1.一种缺陷检测装置，其特征在于，包括交替作业的明场照明系统以及暗场照明系统，分别用于产生被测物(108)使用的明场光和暗场光，并通过第一光路将携带有被测物(108)信息的明场光和暗场光投射至第一相机(112)和第二相机(111)内。

2.根据权利要求1所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述第一光路包括第一分光棱镜(104)和第二分光棱镜(110)，所述第一分光棱镜(104)接收由所述被测物(108)反射的明场光和暗场光，后将明场光和暗场光投射至第二分光棱镜(110)，所述第二分光棱镜(110)将所述明场光分至第一相机(112)和第二相机(111)。

3.根据权利要求2所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述第一光路还包括中继透镜(109)，用于接收来自第一分光棱镜(104)透射的明场光和暗场光，并投射至第二分光棱镜(110)。

4.根据权利要求3所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述第一光路还包括物镜(105)，所述物镜(105)接收由所述被测物(108)反射的明场光和暗场光，后将所述明场光和暗场光投射至所述第一分光棱镜(104)。

5.根据权利要求2所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述明场照明系统包括明场光源(101)以及第二光路，所述明场光源(101)产生明场光并通过所述第二光路将所述明场光投射至第一分光棱镜(104)，并经由所述第一分光棱镜(104)通过物镜(105)投射至被测物(108)。

6.根据权利要求5所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述第二光路包括反射镜(103)，所述反射镜(103)将明场光源(101)产生的明场光反射至所述第一分光棱镜(104)。

7.根据权利要求6所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述第二光路还包括准直镜(102)，所述准直镜(102)将所述反射镜(103)反射的明场光准直后投射至第一分光棱镜(104)。

8.根据权利要求4所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述暗场照明系统包括配置在所述被测物(108)照明范围内的环形暗场(107)以及与所述环形暗场(107)连接的暗场光源(106)，所述环形暗场(107)为所述被测物(108)提供暗场照明环境。

9.根据权利要求8所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述环形暗场(107)配置在所述被测物(108)与所述物镜(105)之间。

10.根据权利要求1～9任一项所述的缺陷检测装置，其特征在于，所述第一相机(112)为主线扫相机，所述第二相机(111)为辅助线扫相机。

技术总结
本技术提出了一种缺陷检测装置，包括交替作业的明场照明系统以及暗场照明系统，分别用于产生被测物使用的明场光和暗场光，并通过第一光路将携带有被测物信息的明场光和暗场光投射至第一相机和第二相机内；第一光路包括第一分光棱镜和第二分光棱镜，第一分光棱镜接收由被测物反射的明场光和暗场光，后将明场光和暗场光投射至第二分光棱镜，第二分光棱镜将明场光分至第一相机和第二相机。本技术通过准直镜减小明场光源产生的光扩散，并通过中继透镜使得携带信息的光投射到第一相机和第二相机上时更加的均匀，进而使得第一相机和第二相机拍摄的画面更加的清晰。

技术研发人员：陆志毅,郑军
受保护的技术使用者：聚时科技（上海）有限公司
技术研发日：20220927
技术公布日：2024/1/13