一种用于二氧化硅的高温煅烧实验装置的制作方法

文档序号:36133588发布日期:2023-11-22 20:55阅读:93来源:国知局
一种用于二氧化硅的高温煅烧实验装置的制作方法

本技术属于二氧化硅煅烧,尤其涉及一种用于二氧化硅的高温煅烧实验装置。


背景技术:

1、二氧化硅,是一种无机化合物,化学式为sio2,其用途很广泛,主要用于制玻璃、水玻璃、陶器、搪瓷、耐火材料、气凝胶毡、硅铁、型砂、单质硅、水泥等,在古代,二氧化硅也用来制作瓷器的釉面和胎体。

2、随着如今对二氧化硅提炼的技术愈加成熟,各种高温煅烧实验装置也层出不穷,但仍存在一些尚未克服的问题,在对二氧化硅进行高温煅烧时,若二氧化硅未完全粉末化将会影响煅烧效果,除此之外,传统的煅烧实验装置缺乏煅烧后快速冷却装置,不易及时回收,影响效率。


技术实现思路

1、本实用新型的目的就在于为了解决二氧化硅未完全粉末化将会影响煅烧效果以及传统的煅烧实验装置缺乏煅烧后快速冷却装置等问题而提供一种用于二氧化硅的高温煅烧实验装置。

2、本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的:包括进料斗,进料斗下方设有研磨仓,研磨仓内设有若干搅拌轴,搅拌轴外径面均设有若干研磨叶片,研磨仓外部侧壁且与搅拌轴对应的位置均设有第一电机,研磨仓一侧设有进料段,进料段一侧设有煅烧段,煅烧段包括防护壳,防护壳内径面设有煅烧仓,防护壳与煅烧仓之间紧贴煅烧仓的位置设有若干加热丝,煅烧仓内径面螺旋设有料道,煅烧段一侧设有出料段,出料段一侧设有冷却箱,冷却箱内部设有出料通道,出料通道外壁贴设有螺旋水冷管。

3、进一步的,研磨仓下方设有第一支撑座,第一支撑座下方设有底板,第一支撑座和底板相互配合对研磨仓及整个装置起到支撑作用。

4、进一步的,煅烧段外径面两侧均设有环形齿条,煅烧段外部且与环形齿条啮合的位置均设有齿轮,齿轮内径面均设有转轴,转轴一侧均设有第二电机,第二电机工作时其输出端带动齿轮进行旋转,齿轮与齿条啮合的同时可旋转带动煅烧段整体进行旋转。

5、进一步的,第二电机下方均设有电机固定座,电机固定座下方均设有第二支撑座,电机固定座用于固定第二电机,第二支撑座对其起到支撑作用。

6、进一步的,进料段和出料段均往倾斜向下的方向上进行设置,倾斜向下设置的出料段保证二氧化硅粉末可以无动力向下滑动。

7、进一步的,冷却箱和第一支撑座外侧均设有仓门,仓门上均设有把手,可通过把手将仓门打开并放出其内部的二氧化硅颗粒。

8、进一步的,研磨仓侧壁上设有进料出尘口,冷却箱侧壁上设有出料出尘口,进料出尘口和出料出尘口分别用于排放研磨时和冷却时产生的烟尘。

9、进一步的,研磨仓靠近下方的位置开设有开口,开口内设有抽拉板,抽拉板可在研磨时保证研磨仓不进行漏料,当研磨完毕时抽出抽拉板即可进行向下漏料操作。

10、有益效果:1、可在研磨仓内可将未完全粉碎的二氧化硅颗粒进行进一步研磨粉碎,这样避免了后续对二氧化硅颗粒进行高温煅烧时存在一些大颗粒的二氧化硅煅烧不彻底的问题;

11、2、料道保证在煅烧段在电机与齿轮齿条的相互配合下进行旋转时二氧化硅粉末可顺着料道在旋转的同时向前移动,在不断翻转的过程中也进一步提高了二氧化硅颗粒能够全方位受热煅烧;

12、3、贴设在出料通道外壁上的螺旋水冷管可在煅烧完成后对二氧化硅进行快速冷却,及时对其进行回收,提高工作效率;



技术特征:

1.一种用于二氧化硅的高温煅烧实验装置,其特征在于:包括进料斗(1),所述进料斗(1)下方设有研磨仓(2),所述研磨仓(2)内设有若干搅拌轴(3),所述搅拌轴(3)外径面均设有若干研磨叶片(4),所述研磨仓(2)外部侧壁且与所述搅拌轴(3)对应的位置均设有第一电机(5),所述研磨仓(2)一侧设有进料段(6),所述进料段(6)一侧设有煅烧段(7),所述煅烧段(7)包括防护壳(701),所述防护壳(701)内径面设有煅烧仓(702),所述防护壳(701)与所述煅烧仓(702)之间紧贴所述煅烧仓(702)的位置设有若干加热丝(703),所述煅烧仓(702)内径面螺旋设有料道(704),所述煅烧段(7)一侧设有出料段(8),所述出料段(8)一侧设有冷却箱(9),所述冷却箱(9)内部设有出料通道(10),所述出料通道(10)外壁贴设有螺旋水冷管(11)。

2.根据权利要求1所述的一种用于二氧化硅的高温煅烧实验装置,其特征在于:所述研磨仓(2)下方设有第一支撑座(12),所述第一支撑座(12)下方设有底板(13)。

3.根据权利要求1所述的一种用于二氧化硅的高温煅烧实验装置,其特征在于:所述煅烧段(7)外径面两侧均设有环形齿条(14),所述煅烧段(7)外部且与所述环形齿条(14)啮合的位置均设有齿轮(15),所述齿轮(15)内径面均设有转轴(16),所述转轴(16)一侧均设有第二电机(17)。

4.根据权利要求3所述的一种用于二氧化硅的高温煅烧实验装置,其特征在于:所述第二电机(17)下方均设有电机固定座(18),所述电机固定座(18)下方均设有第二支撑座(19)。

5.根据权利要求1所述的一种用于二氧化硅的高温煅烧实验装置,其特征在于:所述进料段(6)和所述出料段(8)均往倾斜向下的方向上进行设置。

6.根据权利要求2所述的一种用于二氧化硅的高温煅烧实验装置,其特征在于:所述冷却箱(9)和所述第一支撑座(12)外侧均设有仓门(20),所述仓门(20)上均设有把手(21)。

7.根据权利要求1所述的一种用于二氧化硅的高温煅烧实验装置,其特征在于:所述研磨仓(2)侧壁上设有进料出尘口(22),所述冷却箱(9)侧壁上设有出料出尘口(23)。

8.根据权利要求1所述的一种用于二氧化硅的高温煅烧实验装置,其特征在于:所述研磨仓(2)靠近下方的位置开设有开口(24),所述开口(24)内设有抽拉板(25)。


技术总结
本技术公开了一种用于二氧化硅的高温煅烧实验装置,包括进料斗,进料斗下方设有研磨仓,研磨仓内设有若干搅拌轴,搅拌轴外径面均设有若干研磨叶片,研磨仓外部侧壁且与搅拌轴对应的位置均设有第一电机,研磨仓一侧设有进料段,进料段一侧设有煅烧段,煅烧段包括防护壳,防护壳内径面设有煅烧仓,防护壳与煅烧仓之间紧贴煅烧仓的位置设有若干加热丝,煅烧仓内径面螺旋设有料道,煅烧段一侧设有出料段,出料段一侧设有冷却箱,冷却箱内部设有出料通道;可在研磨仓内可将未完全粉碎的二氧化硅颗粒进行进一步研磨粉碎,这样避免了后续对二氧化硅颗粒进行高温煅烧时存在一些大颗粒的二氧化硅煅烧不彻底的问题。

技术研发人员:李晨,李洪亮,崔云,范霄霄
受保护的技术使用者:盛唐光电(宿迁)有限公司
技术研发日:20221121
技术公布日:2024/1/15
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