【】本技术涉及治具,具体涉及一种测试治具。
背景技术
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背景技术:
1、工业时代前治具就已被广泛应用,主要包括机械治具、建筑治具、焊接治具、冶炼治具、以及其他制造领域。某些类型治具也称为“模具”或“辅具”,其主要目的是为重复性和准确性的再生复制。生产制造方面为提高生产力、重复特定动作、或使工作更加精确,客制化许多治具,以此被各行各业广泛应用生产制作。
2、测试是用来检测半成品/成品或生产环节中的必要部分,以此标准来判断被测对象是否达到了初始设计者的功能要求,而测试治具是机械辅助设备,也是保证待测对象在精确标准位置条件下对其功能、功率校准、寿命、性能等进行测试、试验的一种治具;因其主要在生产线上用于产品的各项指标的测试,所以叫测试治具。
3、现有测试治具在对手表等电子产品进行测试时,存在手表等电子产品的屏幕表面不平而影响测试结果的问题,造成有较高的误测率,提高了生产成本。
技术实现思路
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技术实现要素:
1、本实用新型的目的是为了解决现有测试治具在对手表等电子产品进行测试时,存在手表等电子产品的屏幕表面不平而影响测试结果的问题。
2、本实用新型解决上述问题的技术方案如下:
3、一种测试治具,包括限制底座和设置在所述限制底座上的多个限制顶座,所述限制底座和多个所述限制顶座之间连接并构成容置空间,所述容置空间用于放置待测试件;
4、所述限制顶座靠近所述容置空间的一侧设置有弧形抵接部,所述弧形抵接部用于限制并固定待测试件的位置;
5、所述限制底座上设置有限制通槽,所述限制通槽与所述容置空间连通,放置在所述容置空间中的待测试件能够部分延伸至所述限制通槽内部。
6、进一步的,所述限制底座为矩型结构。
7、进一步的,所述限制顶座的数量为两个,两个所述限制顶座位于所述限制底座顶部端面的两侧,所述限制顶座与所述限制底座一体设置。
8、进一步的,两个所述限制顶座相对远离的一侧为平面,且两个所述限制顶座相对远离的一侧设置与所述限制底座的侧面对齐。
9、进一步的,相邻的所述限制顶座之间设置有限制开口,所述限制开口的中部设置有限制凸块,所述限制凸块与所述限制底座一体设置。
10、进一步的,还包括弧形限制部,所述弧形限制部位于所述限制通槽靠近所述限制顶座的一侧,并设置在所述限制通槽与所述弧形抵接部之间,所述弧形限制部环绕所述限制通槽开口周边设置,所述弧形限制部面向所述容置空间的一侧为凹弧面结构。
11、进一步的,所述弧形限制部上均匀设置有多个定位凸点。
12、进一步的,还包括多个限制通孔,所述限制通孔设置穿过所述限制顶座、所述限制底座,所述限制通孔内设置有用于固定该测试治具的固定件。
13、在本方案中,一种测试治具包括限制底座和设置在限制底座上的多个限制顶座,限制底座和多个限制顶座构成了容置空间,容置空间用于放置待测试的待测试件,限制顶座靠近容置空间的一侧设置有弧形抵接部,弧形抵接部与待测试件接触并限制待测试件的位置,限制底座上设置有限制通槽,限制通槽与容置空间连通,限制通槽用于使放置在容置空间中的待测试件部分延伸至限制通槽内部,通过限制通槽可以调整待测试件在容置空间上的位置,使待测试件的表面四角处于同一水平,避免待测试件表面不平而影响待测试件的测试,降低测试的误测率,从而降低生产成本。
1.一种测试治具,其特征在于:包括限制底座和设置在所述限制底座上的多个限制顶座,所述限制底座和多个所述限制顶座之间连接并构成容置空间,所述容置空间用于放置待测试件;
2.根据权利要求1所述的测试治具,其特征在于:所述限制底座为矩型结构。
3.根据权利要求2所述的测试治具,其特征在于:所述限制顶座的数量为两个,两个所述限制顶座位于所述限制底座顶部端面的两侧,所述限制顶座与所述限制底座一体设置。
4.根据权利要求3所述的测试治具,其特征在于:两个所述限制顶座相对远离的一侧为平面,且两个所述限制顶座相对远离的一侧设置与所述限制底座的侧面对齐。
5.根据权利要求1所述的测试治具,其特征在于:相邻的所述限制顶座之间设置有限制开口,所述限制开口的中部设置有限制凸块,所述限制凸块与所述限制底座一体设置。
6.根据权利要求1所述的测试治具,其特征在于:还包括弧形限制部,所述弧形限制部位于所述限制通槽靠近所述限制顶座的一侧,并设置在所述限制通槽与所述弧形抵接部之间,所述弧形限制部环绕所述限制通槽开口周边设置,所述弧形限制部面向所述容置空间的一侧为凹弧面结构。
7.根据权利要求6所述的测试治具,其特征在于:所述弧形限制部上均匀设置有多个定位凸点。
8.根据权利要求1所述的测试治具,其特征在于:还包括多个限制通孔,所述限制通孔设置穿过所述限制顶座、所述限制底座,所述限制通孔内设置有用于固定该测试治具的固定件。