使用传感器的有源表面的方法和结构与流程

背景技术：

1、目前，与用于片上检测的传感器一起使用的流通池的盖在传感器的有源表面上方由位于有源表面上的柱支撑。将盖放置在传感器之上的原因是有效区域的平整度和平滑度(亚微米粗糙度)经常需要使流体交换干净地进行，而不夹带或捕获试剂。当前的结构导致可用于感测的有源表面的面积的减少。在某些情况下，仅有传感器的有源表面的三分之一(或更少)能够被使用。

2、因此，需要一种方式，来使用传感器的有源表面中的更多有源表面。

技术实现思路

1、通过在一个方面中的装置的提供可以克服现有方法的缺点并且来提供附加的优点。装置包括支撑结构、支撑结构上的传感器，该传感器包括有源表面、一对柱，每个柱位于传感器的相对侧处的支撑结构上，一对柱中的每个柱包括相对于支撑结构的顶面的柱高度，该柱高度高于传感器有源表面相对于支撑结构的顶面的高度。该装置还包括在该一对柱上和在传感器有源表面之上的盖层，该盖层在其相对端处由该一对柱支撑。传感器的有源表面、盖层和该一对柱在至少大于传感器的有源表面的一半的上方形成开口，并且支撑结构、传感器、盖层和该一对柱共同形成流通池。

2、根据另一个方面，提供了一种方法。该方法包括形成流通池，该形成包括将传感器放置在支撑结构上，该传感器包括有源表面，形成一对柱，每个柱在传感器的相对侧处，一对柱中的每个柱包括相对于支撑结构的顶面的柱高度，该柱高度高于传感器有源表面相对于支撑结构的顶面的高度，以及将盖层放置在该一对柱的顶面上，使得盖层和该一对柱在传感器的有源表面的至少大约一半的上方形成空间。

技术特征：

1.一种装置，包括：

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述第二层是有图案的。

3.根据权利要求2所述的装置，其中所述第二层以多个纳米孔为图案。

4.根据权利要求3所述的装置，其中所述纳米孔形成所述通道中的每个通道的至少一部分。

5.根据权利要求3所述的装置，其中所述第二层的每个通道具有入口和出口。

6.根据权利要求1所述的装置，其中所述传感器包括互补金属氧化物半导体(cmos)传感器、电荷耦合器件(ccd)或者n通道金属氧化物半导体(nmos)传感器。

7.根据权利要求1所述的装置，其中所述侧部不位于所述有源表面上。

8.根据权利要求1所述的装置，其中所述第二层具有与所述传感器的所述有源表面的粗糙度大约相等的粗糙度。

9.一种用于生物分析和化学分析中的至少一项的装置，所述装置包括：

10.根据权利要求9所述的装置，其中所述支撑结构包括一个或多个电介质层，所述一个或多个电介质层各自在其中包括一个或多个导电通路。

11.根据权利要求9所述的装置，其中所述侧部包括柱。

12.根据权利要求9所述的装置，其中所述侧部包括环氧树脂或模塑化合物，并且所述层包括玻璃。

13.一种方法，包括：

14.根据权利要求13所述的方法，进一步包括将所述层附接在所述侧部上。

15.根据权利要求14所述的方法，其中将所述层附接在所述侧部上包括使用环氧树脂。

16.根据权利要求14所述的方法，进一步包括：在形成所述开口和所述侧部时，将膜放置在所述传感器上。

17.根据权利要求14所述的方法，其中形成所述传感器包括：形成互补金属氧化物半导体(cmos)传感器、电荷耦合器件(ccd)或者n通道金属氧化物半导体(nmos)传感器。

18.根据权利要求14所述的方法，其中将所述传感器放置在所述支撑表面上包括使用光刻和电镀过程来准备所述传感器，并且将所述传感器放置在所述支撑表面上包括使用取放机器。

19.根据权利要求14所述的方法，其中所述填充材料包括粘合剂、环氧树脂或模塑化合物。

20.根据权利要求14所述的方法，进一步包括将所述流通池和用于生物分析和化学分析中的至少一项的盒耦合。

技术总结
公开了一种装置和形成方法，该装置包括支撑结构、支撑结构上的传感器、传感器的相对侧处的支撑结构上的一对柱，该一对柱具有相对于支撑结构的顶面的柱高度，该柱高度高于传感器有源表面相对于支撑结构顶面的高度，以及在该一对柱上和有源表面之上的盖层，该盖层在其相对端处由该一对柱支撑。传感器的有源表面、盖层和该一对柱在至少大于传感器的有源表面的一半的上方形成开口，并且支撑结构、传感器、盖层和该一对柱共同形成流通池。

技术研发人员：吕东来,蔡秀雨,冯文毅,陈光海
受保护的技术使用者：伊鲁米纳公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/13