本发明涉及一种半导体工艺腔室的光学检查装置,更详细地说,涉及在工艺腔室的可视口与光学检查装置的光传感器之间,将通过可视口释放的光传递于光传感器的半导体工艺腔室的光学检查装置用夹具。
背景技术:
1、半导体芯片是在晶片实施氧化、光刻、蚀刻、沉积及注入离子、金属布线、测试、封装工艺等来制造而成。
2、在所述工艺中,蚀刻工艺与沉积工艺及离子注入工艺在可形成真空与等离子体的工艺腔室内实施。
3、在所述工艺腔室配置有一个以上的可视口(窗口),进而可观察腔室内部。另外,在可视口设置各种光传感器(红外线高温计、oes(发射光谱法)传感器、rgb传感器等),感应及分析通过可视口释放的光,进而可以更加准确地知道腔室内部的工艺进行状况与晶片的状态。以供参考,为了接收光传感器的输出信号并以工作人员可以看懂的形态显示信息,包括光传感器的光学检查装置包括控制部及显示部。
4、另一方面,所述光传感器以固定状态设置在可视口,以稳定地保持设置位置的同时可监控腔室内部。
5、因此,现有技术为,根据光传感器设置状态只可监控腔室内部的预定位置及预定范围,为了改变这种现象,存在需要将光传感器本身重新安装的不便。
6、现有的技术作为发明人为了导出本发明而所有的或者在本发明的导出过程中掌握的技术信息,不一定是在本发明申请前向普通大众公开的公知技术。
7、(现有技术文献)
8、(专利文献)
9、(专利文献1)韩国公开专利第10-2007-0035346号(2007.03.30.公开)
技术实现思路
1、要解决的问题
2、在解决上述的问题方面,本发明的目的在于,提供一种工艺腔室的光学检查装置用夹具,即使不改变光传感器的设置状态,也可监控工艺腔室内各种位置与范围。
3、本发明要解决的课题不限于在以上提及的,对于未提及的其他要解决的课题,在本发明所属技术领域中具有通常知识的相关人员可从以下的记载中明确理解。
4、解决问题的手段
5、根据本发明的实施例的工艺腔室的光学检查装置用夹具包括:外壳,前方端部形成入射孔,在后方下面形成射出管;透镜,设置在所述外壳的内部前方,并且配置有一个以上;及镜子,可调节角度地设置在所述外壳的内部后方,将通过所述透镜的光反射至所述射出管;其中,在所述射出管设置光传感器。
6、在该情况下,所述外壳包括第一外壳构件与第二外壳构件,所述第二外壳构件插入并结合至所述第一外壳构件的开口的一侧面,以与所述第一外壳构件重叠;所述外壳构成为贯通所述第一外壳构件与所述第二外壳构件的上面以紧固多个固定螺栓。
7、此时,在所述第一外壳构件与所述第二外壳构件的前方面分别形成所述入射孔,在所述第一外壳构件的后方下面向下方突出形成所述射出管,在所述第二外壳构件的后方下面可形成与所述射出管的入口连通的射出孔。
8、另外,在所述第二外壳构件的前方内侧形成插入设置所述透镜的一个以上的插入槽,在所述插入槽可设置所述透镜。
9、另外,在所述外壳配置有分别支撑所述镜子的前方下部与后方下部的位置调节螺栓;所述位置调节螺栓通过形成在所述第二外壳构件的狭槽可插入并紧固于形成在所述第一外壳构件的螺孔。
10、在该情况下,所述狭槽以上下方向延长形成,在所述狭槽的长度范围内可形成多个所述螺孔。
11、另一方面,在所述外壳配置有分别支撑所述镜子的前方下部与后方下部的位置调节螺栓;所述位置调节螺栓贯通在所述第一外壳构件与所述第二外壳构件的相同位置分别以上下方向延长形成并且相互对应的狭槽,在所述位置调节螺栓的端部紧固螺母,进而可固定所述位置调节螺栓的位置。
12、另一方面,在所述外壳的两侧面分别焊接l形状的安装支架的一侧部,所述安装支架各个的另一侧部通过螺栓可固定在所述工艺腔室的可视口。
13、发明的效果
14、如上所述,根据本发明的工艺腔室的光学检查装置用夹具为,包括一个以上的透镜与可调节角度的一个以上的镜子,改变透镜的组合来调整焦点距离,进而可调节监控对象部分的面积,并且调节镜子的角度,进而可调节监控对象部分的位置。
15、因此,根据本发明的工艺腔室的光学检查装置用夹具为,即使不改变光传感器的设置状态也可监控工艺腔室内的各种位置与范围。
16、本发明的效果不限于在以上提及的效果,对于未提及的其他效果,在本发明所属技术领域中具有通常知识的相关人员可通过以下的记载明确理解。
1.一种工艺腔室的光学检查装置用夹具,包括:
2.根据权利要求1所述的工艺腔室的光学检查装置用夹具,其特征在于,
3.根据权利要求2所述的工艺腔室的光学检查装置用夹具,其特征在于,
4.根据权利要求2所述的工艺腔室的光学检查装置用夹具,其特征在于,
5.根据权利要求2所述的工艺腔室的光学检查装置用夹具,其特征在于,
6.根据权利要求5所述的工艺腔室的光学检查装置用夹具,其特征在于,
7.根据权利要求2所述的工艺腔室的光学检查装置用夹具,其特征在于,
8.根据权利要求1所述的工艺腔室的光学检查装置用夹具,其特征在于,