一种测力可调的滑架结构的制作方法

本技术属于测高仪，具体涉及一种测力可调的滑架结构。

背景技术：

1、测高仪是放置于平台上进行单轴测量的仪器，功能全面的测高仪主要用于在线或批量检测，一台或一群机床上直接进行测量，特别是对于一些尺寸要求严格的工件在生产过程中的调试和抽样检测非常有用；但是现有的测高仪由于没有测力结构，就无法了解在测量时，测针与被测物体之间的相互作用力，致使测量达不到更为精确的标准。

技术实现思路

1、本实用新型旨在提供一种测力可调的滑架结构，解决现有的测高仪由于没有精确的测力结构、导致不能精准测量的技术问题。

2、为解决上述技术问题，本实用新型采用以下技术方案：

3、一种测力可调的滑架结构，所述的滑架结构安装在测高仪的立柱上，包括主滑架和副滑架，主滑架与副滑架均可沿测高仪的立柱上下滑动，且副滑架位于主滑架的外侧，副滑架上设置有缺口，主滑架上设置有v型导槽；

4、在副滑架的下端右侧设置有测力调节杆，测力调节杆为l型结构，测力调节杆的拐角处通过第一回转轴承转动安装在副滑架上，测力调节杆的上端安装有滚动轴承，滚动轴承位于v型导槽内，且滚动轴承的外圈与v型导槽的内壁相接触，测力调节杆的下端安装有测力弹簧悬挂柱，副滑架的下端左侧设置有测力弹簧安装件，测力弹簧安装件与测力弹簧悬挂柱之间连接有测力弹簧；在测力调节杆的上部设置有第一磁性吸条，副滑架上固定有第二磁性吸条，第一磁性吸条与第二磁性吸条相互吸引；

5、主滑架上安装有容栅测量系统，测力调节杆的上端还安装有位移传感器，位移传感器与容栅测量系统连接。

6、进一步的，主滑架的左右两侧、副滑架的左右两侧均设置有滚珠轴承，测高仪的立柱的左右两侧均设置有滑轨槽，主滑架左右两侧的滚珠轴承、副滑架左右两侧的滚珠轴承均滚动连接在滑轨槽内。

7、进一步的，主滑架的侧壁设置有限位孔，在副滑架上固定有限位螺栓，限位螺栓位于限位孔。

8、进一步的，测力弹簧安装件包括调节块和调节螺栓，副滑架的下部左侧开设有矩形槽，所述调节块可在矩形槽内移动，矩形槽的侧壁开设有穿孔，调节块上开设有螺纹孔，所述调节螺栓穿设在穿孔中，且调节螺栓螺纹连接在调节块上，测力弹簧的端部连接在调节块上。

9、进一步的，在副滑架上还安装有平衡调节杆，平衡调节杆为l型结构，平衡调节杆的拐角处通过第二回转轴承转动安装在副滑架的上部右侧，在主滑架的下端左侧设置有平衡弹簧悬挂柱，平衡调节杆的左端与平衡弹簧悬挂柱之间连接有平衡弹簧，在副滑架的上部螺纹安装有平衡调节顶丝，平衡调节杆的右端固定有挡柱，平衡调节顶丝的端部与挡柱顶压接触。

10、与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型采用主滑架与副滑架相对运动，通过调节螺栓调节测力弹簧拉绳长度，改变测力调节杆的拉紧力，相继的，滚动轴承在v型导槽中滚动到指定位置的测力大小就会发生改变，通过高精度的容栅测量系统采集滚动轴承移动的坐标位置，反馈给计算机控制系统，按照相应的算法进行数据分析；并且通过磁力吸引将滚动轴承保持在初始位置，直至外力施加，通过平衡调节杆可以调节主滑架与副滑架之间的平衡调节，使滚动轴承可以始终保持在v型导槽内初始位置；本实用新型够简单快速的调节移动单元的测力，同时能够调节主滑架与副滑架之间的距离，兼容多种测头配件。

技术特征：

1.一种测力可调的滑架结构，所述的滑架结构安装在测高仪的立柱上，其特征在于：包括主滑架和副滑架，主滑架与副滑架均可沿测高仪的立柱上下滑动，且副滑架位于主滑架的外侧，副滑架上设置有缺口，主滑架上设置有v型导槽；

2.根据权利要求1所述的一种测力可调的滑架结构，其特征在于：主滑架的左右两侧、副滑架的左右两侧均设置有滚珠轴承，测高仪的立柱的左右两侧均设置有滑轨槽，主滑架左右两侧的滚珠轴承、副滑架左右两侧的滚珠轴承均滚动连接在滑轨槽内。

3.根据权利要求1所述的一种测力可调的滑架结构，其特征在于：主滑架的侧壁设置有限位孔，在副滑架上固定有限位螺栓，限位螺栓位于限位孔。

4.根据权利要求1所述的一种测力可调的滑架结构，其特征在于：测力弹簧安装件包括调节块和调节螺栓，副滑架的下部左侧开设有矩形槽，所述调节块可在矩形槽内移动，矩形槽的侧壁开设有穿孔，调节块上开设有螺纹孔，所述调节螺栓穿设在穿孔中，且调节螺栓螺纹连接在调节块上，测力弹簧的端部连接在调节块上。

5.根据权利要求1所述的一种测力可调的滑架结构，其特征在于：在副滑架上还安装有平衡调节杆，平衡调节杆为l型结构，平衡调节杆的拐角处通过第二回转轴承转动安装在副滑架的上部右侧，在主滑架的下端左侧设置有平衡弹簧悬挂柱，平衡调节杆的左端与平衡弹簧悬挂柱之间连接有平衡弹簧，在副滑架的上部螺纹安装有平衡调节顶丝，平衡调节杆的右端固定有挡柱，平衡调节顶丝的端部与挡柱顶压接触。

技术总结
一种测力可调的滑架结构，所述的滑架结构安装在测高仪的立柱上，包括主滑架和副滑架，主滑架与副滑架均可沿测高仪的立柱上下滑动，且副滑架位于主滑架的外侧，副滑架上设置有缺口，主滑架上设置有V型导槽；综上所述，本技术够简单快速的调节移动单元的测力，同时能够调节主滑架与副滑架之间的距离，兼容多种测头配件。

技术研发人员：王远航,魏华
受保护的技术使用者：苏州惟刻测量技术有限公司
技术研发日：20230703
技术公布日：2024/2/29