一种带镍篮清洗功能的腐蚀炉的制作方法

文档序号:38064412发布日期:2024-05-20 11:52阅读:46来源:国知局
一种带镍篮清洗功能的腐蚀炉的制作方法

本技术涉及半导体材料,具体涉及一种带镍篮清洗功能的腐蚀炉。


背景技术:

1、晶圆片是半导体集成和封装的基础材料,在晶圆片生产后需要进行腐蚀试验,晶圆片koh腐蚀试验适用于晶圆片的生产研究和使用。

2、目前市场上的关于koh腐蚀设备,大多只能满足简单试验,存在诸多缺陷,腐蚀试验完成后镍篮需手动进行拆洗,耽误时间,而且操作十分不便。


技术实现思路

1、针对现有技术中的缺陷,本实用新型提供一种带镍篮清洗功能的腐蚀炉。

2、本实用新型是通过以下技术方案实现的:

3、一种带镍篮清洗功能的腐蚀炉,包括外壳、坩埚和加热炉,坩埚安装于加热炉上,加热炉置于外壳内,所述外壳顶部设置有第一滑台,第一滑台的滑动件上安装有第二滑台,第二滑台的滑动件上安装有第一电机架,第一电机架上安装有第一电机,第一电机与第一转轴相连,第一转轴的底部伸入外壳内并连接有镍篮,镍篮上方的第一转轴上设置有顶盖;所述外壳内设置有隔板,隔板的一侧为腐蚀仓,另一侧为清洗仓,坩埚和加热炉置于腐蚀仓内;所述清洗仓内设置有清洗池,清洗池的顶部设置有开口,清洗池内壁设置有喷头;所述隔板处设置有与镍篮、顶盖和转轴相配合的缺口,缺口处滑动安装有挡板。

4、优选地,所述外壳顶部设置有第三滑台,第三滑台的滑动件上安装有第二电机架,第二电机架上安装有第二电机,第二电机上连接有第二转轴,第二转轴的底部连接有连接杆,连接杆上连接有坩埚盖。

5、优选地,所述隔板上设置有第四滑台,第四滑台的滑动件上安装有挡板。

6、优选地,所述外壳的顶部设置有与第一转轴相配合的槽口。

7、优选地,所述喷头上连接有进水管。

8、优选地,所述清洗池的底部设置有出水口,出水口出连接有出水管,出水管上设置有阀门。

9、本实用新型的有益效果体现在:本实用新型可在实验完成后,将镍篮移动至清洗池内进行自动清洗,解放了人力,节约了时间,同时也保证了实验人员的安全;本实用新型通过隔板和挡板可避免清洗产生的废气或水汽进入腐蚀仓内影响实验效果。



技术特征:

1.一种带镍篮清洗功能的腐蚀炉,包括外壳(1)、坩埚(18)和加热炉(19),坩埚(18)安装于加热炉(19)上,加热炉(19)置于外壳(1)内,其特征在于:所述外壳(1)顶部设置有第一滑台(4),第一滑台(4)的滑动件上安装有第二滑台(5),第二滑台(5)的滑动件上安装有第一电机架(6),第一电机架(6)上安装有第一电机(7),第一电机(7)与第一转轴(8)相连,第一转轴(8)的底部伸入外壳(1)内并连接有镍篮(9),镍篮(9)上方的第一转轴(8)上设置有顶盖(10);所述外壳(1)内设置有隔板(28),隔板(28)的一侧为腐蚀仓(2),另一侧为清洗仓(3),坩埚(18)和加热炉(19)置于腐蚀仓(2)内;所述清洗仓(3)内设置有清洗池(20),清洗池(20)的顶部设置有开口,清洗池(20)内壁设置有喷头(21);所述隔板(28)处设置有与镍篮(9)、顶盖(10)和转轴(8)相配合的缺口(25),缺口(25)处滑动安装有挡板(27)。

2.如权利要求1所述的带镍篮清洗功能的腐蚀炉,其特征在于:所述外壳(1)顶部设置有第三滑台(12),第三滑台(12)的滑动件上安装有第二电机架(13),第二电机架(13)上安装有第二电机(14),第二电机(14)上连接有第二转轴(15),第二转轴(15)的底部连接有连接杆(16),连接杆(16)上连接有坩埚盖(17)。

3.如权利要求1所述的带镍篮清洗功能的腐蚀炉,其特征在于:所述隔板(28)上设置有第四滑台(26),第四滑台(26)的滑动件上安装有挡板(27)。

4.如权利要求1所述的带镍篮清洗功能的腐蚀炉,其特征在于:所述外壳(1)的顶部设置有与第一转轴(8)相配合的槽口(11)。

5.如权利要求1所述的带镍篮清洗功能的腐蚀炉,其特征在于:所述喷头(21)上连接有进水管(22)。

6.如权利要求1所述的带镍篮清洗功能的腐蚀炉,其特征在于:所述清洗池(20)的底部设置有出水口,出水口出连接有出水管(23),出水管(23)上设置有阀门(24)。


技术总结
本技术公开了一种带镍篮清洗功能的腐蚀炉,包括外壳、坩埚和加热炉,坩埚安装于加热炉上;所述外壳顶部设置有第一滑台,第一滑台的滑动件上安装有第二滑台,第二滑台的滑动件上安装有第一电机架,第一电机架上安装有第一电机,第一电机与第一转轴相连,第一转轴的底部伸入外壳内并连接有镍篮,镍篮上方的第一转轴上设置有顶盖;所述外壳内设置有隔板,隔板的一侧为腐蚀仓,另一侧为清洗仓,坩埚和加热炉置于腐蚀仓内;所述清洗仓内设置有清洗池;所述隔板处设置有缺口,缺口处滑动安装有挡板;本技术在实验完成后可对镍篮自动清洗。

技术研发人员:乔晓杰,金超群
受保护的技术使用者:山东晶升电子科技有限公司
技术研发日:20231025
技术公布日:2024/5/19
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