一种半导体真空系统气体控制用质量流量器的制作方法

文档序号:39516207发布日期:2024-09-27 16:50阅读:21来源:国知局
一种半导体真空系统气体控制用质量流量器的制作方法

本发明涉及质量流量器,具体为一种半导体真空系统气体控制用质量流量器。


背景技术:

1、质量流量器在半导体真空系统的气体控制中起着至关重要的作用,它能够精确测量和控制气体的流量,确保半导体制造过程中的工艺稳定性和一致性,质量流量器具有高度的准确性和重复性,能够在极小的流量范围内实现精确测量,例如,在半导体蚀刻工艺中,需要精确控制蚀刻气体的流量,以达到理想的蚀刻效果,质量流量器就能够满足这样的高精度要求。

2、半导体真空系统气体控制用质量流量器,将气体流量进行控制,在芯片的蚀刻工艺中,精确控制蚀刻气体的流量对于蚀刻深度和线条精度至关重要,现有半导体真空系统气体控制用质量流量器,自身不携带空气过滤装置,进入质量流量器的气体,不能进行过滤,并且普通的过滤装置,不能及时进行清理,过滤的杂质可能会堵塞到过滤装置上,造成质量流量器堵塞,当杂质堆积后,细小杂质可能会因气体流速压力通过过滤装置,进入质量流量器,而杂质可能会干扰设备的测量,并且杂质可能会损坏质量流量器的敏感部件,如传感器、阀芯等,可能会划伤阀芯表面的可能,影响其密封性能和流量控制精度,从而会降低半导体制造的高质量和高效率。

3、而我们结合上述的问题就会发现,半导体真空系统气体控制用质量流量器,在进行使用的时候,很难同时去规避上述提出的问题,并且即便是能够解决,也需要通过外部工具配合进行解决,从而无法达到我们所期望的效果,故而,我们提出一种半导体真空系统气体控制用质量流量器。


技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种半导体真空系统气体控制用质量流量器,以解决上述背景技术中提出的问题。

2、为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种半导体真空系统气体控制用质量流量器,包括气体控制机构,所述气体控制机构包括质量流量器,所述质量流量器的正面固定连通有进气管,所述质量流量器的背面分别固定连通有接线管和出气管,所述质量流量器的正面设置有自动过滤清理机构;

3、所述自动过滤清理机构包括过滤单元,所述过滤单元位于质量流量器的正面,所述过滤单元用于过滤气体;

4、所述自动过滤清理机构还包括过滤清理辅助单元,所述过滤清理辅助单元位于质量流量器的正面,所述过滤清理辅助单元用于自动清理;

5、所述自动过滤清理机构包括收集机构,所述收集机构与过滤清理辅助单元配合使用,所述收集机构用于收集杂质;

6、所述过滤单元包括过滤壳,所述过滤壳的背面与进气管远离质量流量器的一端固定连通,所述过滤壳的上方设置有抱闸电机,所述抱闸电机的输出端贯穿过滤壳并延伸至过滤壳的内部,所述抱闸电机的输出端分别固定连接有两个过滤架和两个阻挡架,每个所述过滤架和阻挡架的外表面均固定连接有三个密封胶条,所述过滤壳的内壁固定连接有辅助胶条,其中三组所述密封胶条的外表面均与过滤壳的内壁和辅助胶条的外表面相接触,每个所述过滤架的内壁均固定连接有过滤板。

7、优选的,所述抱闸电机的右侧面固定连接有固定座,所述固定座的底面与过滤壳的上表面固定连接。

8、优选的,所述抱闸电机输出端的外表面转动连接有密封环,所述密封环的底面与过滤壳的上表面固定连接。

9、优选的,所述过滤清理辅助单元包括连接壳,所述连接壳的右侧面与过滤壳的左侧面固定连接,所述连接壳的左侧设置有旋转电机,所述旋转电机的输出端贯穿连接壳并延伸至连接壳的内部,所述旋转电机输出端的外表面固定连接有第一传动轮,所述第一传动轮的内壁套设有传动带,所述连接壳的内部分别设置有第一锥形齿轮和第二锥形齿轮,所述第一锥形齿轮与第二锥形齿轮相啮合,所述第一锥形齿轮的左侧面与旋转电机的输出端固定连接,所述第一锥形齿轮的右侧面固定连接有第一转动杆,所述第二锥形齿轮的上表面固定连接有第二转动杆,所述第一转动杆和第二转动杆的外表面均固定连接有两组伸缩弹簧,每组所述伸缩弹簧相互远离的一端均固定连接有敲击块,其中两组所述敲击块相互靠近的一侧面分别与过滤架的正面与背面相接触,所述第二转动杆的外表面固定连接有两个转动轴承,所述连接壳的正面固定连通有两个过滤管。

10、优选的,所述旋转电机的上表面固定连接有连接座,所述连接座的右侧面与连接壳的左侧面固定连接。

11、优选的,每个所述转动轴承外圈的外表面均固定连接有连接板,每个所述连接板的左侧面均与连接壳的内壁固定连接。

12、优选的,所述收集机构包括收集箱,所述收集箱的上表面固定连通有四通管,所述连接壳的内底壁固定连接有三个收集架,所述四通管的顶端贯穿连接壳并延伸至收集架的内部,所述收集箱的内壁固定连接有两个滑动槽架,两个所述滑动槽架的内部共同滑动连接有阻挡板,所述收集箱的底面固定连通有导风管,所述导风管的内壁转动连接有传动杆,所述传动杆的外表面固定连接有扇叶,所述导风管套设在扇叶的外部,所述传动杆的左端固定连接有第二传动轮,所述第二传动轮的内壁与传动带的外表面相接触,所述四通管的外表面固定连通有两个传递管,两个所述传递管相互靠近的一端分别与连接壳的正面与背面固定连通,所述收集箱的背面固定连接有收集壳,所述收集壳的内壁固定连接有电动伸缩杆,所述电动伸缩杆的伸缩端固定连接有刮板,所述刮板的底面和两侧面分别与阻挡板的上表面与收集箱的内壁相接触。

13、优选的,所述收集箱的正面转动连接有密封门,所述密封门的正面固定连接有把手。

14、优选的,所述传动杆的外表面转动连接有支撑管,所述支撑管的右端与导风管的外表面固定连接。

15、与现有技术相比,本发明的有益效果是:

16、1、本发明通过设置过滤单元能够将气体进行过滤,同时在过滤时,能够自动更换过滤装置,可提高气体的过滤效果,并可以无需人工频繁干预更换过滤装置,节省了操作时间,使生产过程能够持续不间断进行,同时避免了人工在危险的真空环境中进行过滤装置更换操作,降低了操作人员暴露于潜在危险中的风险,并能够始终保持良好的过滤效果,避免了因过滤装置老化或堵塞导致的气体杂质残留,从而可减少杂质堵塞质量流量器,保障质量流量器的使用效果。

17、2、本发明通过设置过滤清理辅助单元能够辅助过滤单元,自动将过滤装置进行清理,从而延长了过滤装置的使用寿命,降低了更换过滤装置的频率,并通过过滤装置能够进行清理,可使两个过滤板能够循环使用,进而减少杂质堆积堵塞的情况,进一步可提高过滤单元的使用效果,为质量流量器和半导体制造提供纯净的气体环境,保证产品的质量稳定和质量流量器的稳定性。

18、3、本发明通过设置收集机构能够配合过滤清理辅助单元,将清理下的杂质进行收集,防止杂质再次污染过滤板,可有效防止杂质在系统内的扩散,保持真空系统的清洁,避免杂质对关键部件的污染和损害,从而延长设备整体的使用寿命,并能够维持过滤装置的良好性能,保障了气体流量的稳定和均匀,进一步可提高质量流量器的使用效果。



技术特征:

1.一种半导体真空系统气体控制用质量流量器,包括气体控制机构(1),其特征在于:所述气体控制机构(1)包括质量流量器(11),所述质量流量器(11)的正面固定连通有进气管(12),所述质量流量器(11)的背面分别固定连通有接线管(13)和出气管(14),所述质量流量器(11)的正面设置有自动过滤清理机构(2);

2.根据权利要求1所述的一种半导体真空系统气体控制用质量流量器,其特征在于:所述抱闸电机(2102)的右侧面固定连接有固定座(2109),所述固定座(2109)的底面与过滤壳(2101)的上表面固定连接。

3.根据权利要求1所述的一种半导体真空系统气体控制用质量流量器,其特征在于:所述抱闸电机(2102)输出端的外表面转动连接有密封环(2105),所述密封环(2105)的底面与过滤壳(2101)的上表面固定连接。

4.根据权利要求1所述的一种半导体真空系统气体控制用质量流量器,其特征在于:所述过滤清理辅助单元(22)包括连接壳(2201),所述连接壳(2201)的右侧面与过滤壳(2101)的左侧面固定连接,所述连接壳(2201)的左侧设置有旋转电机(2203),所述旋转电机(2203)的输出端贯穿连接壳(2201)并延伸至连接壳(2201)的内部,所述旋转电机(2203)输出端的外表面固定连接有第一传动轮(2204),所述第一传动轮(2204)的内壁套设有传动带(2213),所述连接壳(2201)的内部分别设置有第一锥形齿轮(2209)和第二锥形齿轮(2208),所述第一锥形齿轮(2209)与第二锥形齿轮(2208)相啮合,所述第一锥形齿轮(2209)的左侧面与旋转电机(2203)的输出端固定连接,所述第一锥形齿轮(2209)的右侧面固定连接有第一转动杆(2205),所述第二锥形齿轮(2208)的上表面固定连接有第二转动杆(2211),所述第一转动杆(2205)和第二转动杆(2211)的外表面均固定连接有两组伸缩弹簧(2206),每组所述伸缩弹簧(2206)相互远离的一端均固定连接有敲击块(2207),其中两组所述敲击块(2207)相互靠近的一侧面分别与过滤架(2108)的正面与背面相接触,所述第二转动杆(2211)的外表面固定连接有两个转动轴承(2210),所述连接壳(2201)的正面固定连通有两个过滤管(2214)。

5.根据权利要求4所述的一种半导体真空系统气体控制用质量流量器,其特征在于:所述旋转电机(2203)的上表面固定连接有连接座(2202),所述连接座(2202)的右侧面与连接壳(2201)的左侧面固定连接。

6.根据权利要求4所述的一种半导体真空系统气体控制用质量流量器,其特征在于:每个所述转动轴承(2210)外圈的外表面均固定连接有连接板(2212),每个所述连接板(2212)的左侧面均与连接壳(2201)的内壁固定连接。

7.根据权利要求4所述的一种半导体真空系统气体控制用质量流量器,其特征在于:所述收集机构(3)包括收集箱(301),所述收集箱(301)的上表面固定连通有四通管(309),所述连接壳(2201)的内底壁固定连接有三个收集架(306),所述四通管(309)的顶端贯穿连接壳(2201)并延伸至收集架(306)的内部,所述收集箱(301)的内壁固定连接有两个滑动槽架(310),两个所述滑动槽架(310)的内部共同滑动连接有阻挡板(311),所述收集箱(301)的底面固定连通有导风管(302),所述导风管(302)的内壁转动连接有传动杆(304),所述传动杆(304)的外表面固定连接有扇叶(312),所述导风管(302)套设在扇叶(312)的外部,所述传动杆(304)的左端固定连接有第二传动轮(305),所述第二传动轮(305)的内壁与传动带(2213)的外表面相接触,所述四通管(309)的外表面固定连通有两个传递管(313),两个所述传递管(313)相互靠近的一端分别与连接壳(2201)的正面与背面固定连通,所述收集箱(301)的背面固定连接有收集壳(314),所述收集壳(314)的内壁固定连接有电动伸缩杆(315),所述电动伸缩杆(315)的伸缩端固定连接有刮板(316),所述刮板(316)的底面和两侧面分别与阻挡板(311)的上表面与收集箱(301)的内壁相接触。

8.根据权利要求7所述的一种半导体真空系统气体控制用质量流量器,其特征在于:所述收集箱(301)的正面转动连接有密封门(307),所述密封门(307)的正面固定连接有把手(308)。

9.根据权利要求7所述的一种半导体真空系统气体控制用质量流量器,其特征在于:所述传动杆(304)的外表面转动连接有支撑管(303),所述支撑管(303)的右端与导风管(302)的外表面固定连接。


技术总结
本发明公开了一种半导体真空系统气体控制用质量流量器,涉及质量流量器技术领域,包括气体控制机构,气体控制机构包括质量流量器,质量流量器的正面固定连通有进气管,质量流量器的背面分别固定连通有接线管和出气管,此一种半导体真空系统气体控制用质量流量器,通过设置过滤单元能够将气体进行过滤,同时能够自动更换过滤装置,可提高气体的过滤效果,并可以无需人工频繁干预更换过滤装置,同时避免了人工在危险的真空环境中进行过滤装置更换操作,降低了操作人员暴露于潜在危险中的风险,并能够始终保持良好的过滤效果,避免了因过滤装置老化或堵塞导致的气体杂质残留,从而可减少杂质堵塞质量流量器,保障质量流量器的使用效果。

技术研发人员:刘丹,沈永兵
受保护的技术使用者:无锡邑文微电子科技股份有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/9/26
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