柔性触摸屏显示器的制作方法

专利名称：柔性触摸屏显示器的制作方法
技术领域：
本发明总体涉及例如釆用电阻式触摸屏技术结合柔性触摸屏元件和柔性显 示器，以制造柔性组合设备。
背景技术：
现有技术中已知几种提供用于触摸垫或触摸屏的传感器的技术。这种已知的技术包括电容技术、表面声波技术、压敏技术例如量子隧道复合(QTC)材 料和电阻技术。我们以前描述了制造柔性显示器的技术(例如参见WO 2004/070466、 WO 2006/059162、 WO 2006/056808、 WO 2006/061658，所有这些 通过引用合并在本文中)。这里特别关注电阻式触摸屏元件与显示器介质和包 括柔性村底的背板结合，以形成新颖的柔性电阻式触摸屏显示结构。从US 2004/121599摘取的附图1示出了已知电阻式触摸屏显示器(10)的 一个例子。其具有基底(12)、第一导电层(14)、盖板(16)、第二导电层 (18)和背衬表面(15)。盖板包括整体可压缩隔离点(50)从而当手指(13) 按压触摸屏时，在第一和第二导电层之间形成电阻连接。在显示器例如OLED (有机发光二极管)柔性平板显示器上提供触摸屏。该配置的主要缺点在于在显示介质上设置触摸屏元件造成清晰度下降一一 显示器必须通过触摸屏元件观看从而大大降低了显示器的光学清晰度。WO 2005/01735描述了该问题的一种解决方案，其中在手持电子设备的罩 壳的前表面上提供显示器模块，在显示器的后表面上提供访问路径，并在其上 设置触摸垫。在柔性导电铂基底上制造显示器，所述基底暴露于显示器背部用 于检测用户手指和基底之间的耦合能力。但是该结构的主要缺陷在于必须安装 显示器以提供在其上安装触摸屏元件的显示器后部访问路径。多篇文献描述了 一种触敏设备，其中基底下面的LCD屏幕提供触敏显示器。 例如参考US5， 623, 280、 US2001/0022632、 US5, 907, 375和WO2005/078566 (其中还提到了有机发光二极管显示器)。但是在这些文献中，显示器在常规 意义上不具有柔性；其仅仅足够薄以允许整体触摸传感器功能所需要的轻微变 形。其它背景材料可在US2003/0026971、 WO2004/066136中找到。一般地，认为硬基底对触摸屏的合适运行是必要的，但是需要真正柔性的 组合设备。以前没有描述如何实现这种设备。但是发明人设计了一种制造组合 显示器设备和触敏传感器的技术，该显示器设备和触敏传感器作为整体是真正 具有柔性的。发明概述根据本发明，因此提供了一种触敏有源矩阵显示器设备，该设备包括在 第一柔性基底上制造的显示器，所述显示器具有视面；以及位于所述显示器下 面的具有第二柔性基底的触敏传感器；其中通过触摸所述显示器的所述视面运行所述触敏传感器；以及所述组合的显示器和触敏传感器是柔性的。优选包括柔性电阻式传感器的触敏传感器安装在柔性基底的后部，该后部在显示器的与视面相反的一侧。但是，此外还可釆用触摸屏技术，例如非压敏电阻投射电容和电感型传感器。在本发明的实施例中，因为触摸屏元件位于该设备结构之下，所以对显示器的光学清晰度基本没有损害。而且用户可从上面的观看侧操作柔性电阻式触摸屏显示器设备，从而使得该设备比显示器后表面被用作触摸垫的显示器更易操作，使得该设备的应用范围更宽。在实施例中，触敏传感器和显示器都具有层状结构并共享柔性基底。因此可在显示器的柔性基底背板上制造传感器，或者可在传感器的柔性基底上制造通常包括薄膜晶体管阵列的显示器背板，或者可在传感器导电层上制造显示器的柔性基底背板。在后一种情况中，导电层用作柔性基底，并物理支承显示器背板。通常电阻式触摸屏结构包括被隔离结构隔开的第一和第二导电层，例如由粘性基质中的微珠构成的隔离点、通过印刷或者光刻形成的点、或者沿US2004/212599中所描述的线整体形成为传感器柔性层一部分的可压缩隔离点。 但是，因为传感器位于显示器后面，所以一个或两个传感器导电层不必是光学 透明的，并且在实施例中可采用基本上非透明的导体。如前所述，通常该显示器包括具有晶体管阵列的背板，并且在优选实施例 中结构配置为背板位于该设备的中性(neutral)轴或者表面(平面)上(在内部 或者基本上邻近) 一一即该设备的中性轴邻近或者位于包括薄膜晶体管(TFT) 阵列的层内。这一点减小了使用触敏显示器设备时晶体管上的机械应变。可选 择地，触敏传感器可位于中性轴或表面上(在内部或者基本上邻近)。在一些优选实施例中，该显示器设备包括任何具有反射显示器介质例如电 泳显示器介质如电子纸的平板显示器介质，因为其有利于在触摸屏元件中使用 非透明导电材料。但是在其它实施例中，可采用发射显示器介质例如OLED显 示器介质，或者可选择地采用透射显示器介质例如液晶介质。如前所述，触敏传感器优选包括具有响应于机械压力电连接在一起的第一 和第二导体层的机械传感器，广义的电阻触摸屏传感器。在一些优选的实施例 中，该显示器包括具有适合于溶液沉积(solution deposition)在柔性基底上的多 层电子结构的有源矩阵显示器。通常，该显示器包括以行和列电极寻址的两维分布的电连接点，对应两个不同导电层的成对边沿相互垂直。这样流入每个边沿的电流相对幅值可用于以常规方式确定该两层之间的接触点的X和Y坐标。例如可采用通常的4、 5、 8或者9-线技术。另一个方面，本发明提供了一种触敏有源矩阵显示器设备，所述设备包括在柔性基底上制造的显示器，所述显示器具有视面；以及所述显示器下面的触敏传感器；其中通过触摸所述显示器的所述视面运行所述触敏传感器；以及所述有源矩阵显示器包括适合于溶液沉积的多层电子结构。在实施例中，多层电子结构包括显示器的有源矩阵背板。根据本发明的优选实施例，柔性触敏有源矩阵显示器设备包括有机场效应晶体管(FESs)的有源矩阵。有机FET包括共轭聚合物或者小共轭分子的有源半导体层。优选地，有机FET还包括溶液处理聚合物电介质或者通过化学汽相 沉积所沉积的有机栅极电介质形式的有机栅极电介质层，溶液处理聚合物电介 质例如但不限于聚曱基丙烯酸曱酯(PMMA)或者聚苯乙烯(PS)，化学汽相 沉积所沉积的有机栅极电介质例如但不限于聚对二曱苯(parylene)。优选地， 有机电介质的厚度选择为200nrn至lpm的范围。如果电介质层比200nm薄，则 设备产出较低，并且设备更易受到操作触摸传感器时施加于有源矩阵的机械压 力所造成的机械破坏和短路。如果电介质比lpm厚，则栅极电容太低而不能获 得显示器操作所需要的必须ON- OFF电流比。有机场效应晶体管特别是包括共 轭聚合物半导体和有机栅极电介质的有机PET具有良好的机械特性，从而在实 施例中，当柔性触敏有源矩阵显示器设备在操作中被重复弯曲时不会明显退化。 而且，在实施例中当以铁笔或者另一种尖细、锐利的物体施加机械压力以操作 触摸屏时，有机FET性能不会退化。相反，当在操作和弯曲柔性触敏有源矩阵 显示器中对层施加机械应力时，许多无机FET例如常失见无定形或者 多晶体FET 容易受到机械破坏并形成微裂紋。相反，所描述的柔性触敏有源矩阵显示器设 备的实施例可被重复弯曲至小于5cm的曲率半径。为获得触敏有源矩阵显示器的期望柔性，任何用于触摸传感器和有源矩阵 显示器的基底厚度优选在从10|im至250fxm的范围内，更优选在从20|_mi至 200[im的范围内。如果任何基底的厚度比此范围更厚，则设备的柔性受到破坏。 如果触摸传感器的视面和底部基底之间的任何基底比250pm厚，则因为需要较 高的机械力将机械压力从显示器的视面传递至设在其下的触摸传感器，所以触 摸屏的分辨率降低。触摸传感器底部基底的厚度原则上可以比设备的任何其它 基底更厚，而不会明显影响触摸屏的操作。但是，设备的整体弯曲要求可能限 制触摸传感器底部基底的厚度。FET的有源矩阵阵列优选地位于设备的中性轴附近，并且为实现这一点， 底部基底的厚度不应明显大于设备的其它基底的厚度。假定d,为显示器介质/有 源矩阵和设备视面之间的柔性基底的厚度，d2为其上形成有源矩阵的柔性基底 的厚度，d3和(14分别为触敏传感器上部和下部柔性基底的厚度。在本发明的一 个实施例中，以压敏粘合剂将有源矩阵的基底和触摸传感器的上部柔性基底粘结在一起。假定有源矩阵、显示器介质和触敏传感器的各有源层的厚度和任何 基底的厚度相比较小，则在一些实施例中d2 + d3 + d^山。可选择地，设备的中性轴选择为处于触敏传感器元件的平面中。在电阻触 敏传感器的情况下，因为在没有机械输入的情况下弯曲会导致两个检测电极接 触，所以弯曲引起的大应力会导致触敏传感器产生错误信号。通过将触敏传感 器元件设置在中性轴上可尽量减小这一点。因此在一些实施例中，d4 d,+d2+ d3。另一方面，本发明提供一种触敏显示器设备，所述设备包括在柔性基底 上制造的显示器，所述显示器具有视面；位于所述显示器下的触敏传感器；其 中通过触摸所述显示器的所述视面操作所述触敏传感器；并且所述触敏传感器 被像素化(pixellated)。本领域技术人员将理解，可以任意排列或置换方式组合本发明上述方面的 特征和本发明上述方面的实施例。另一方面，本发明提供如上所述的触敏显示器设备的用途，该用途包括 在显示器设备上显示图像，检测显示器的视面触摸并提供触摸检测信号。因此，本发明的一个实施例提供了一种用于电阻触摸屏结构的设备配置， 其中包括与柔性背板接触的柔性显示器介质。该背板包括有源晶体管矩阵阵列 并形成在柔性基底上。该柔性显示器介质通过显示器有源层(例如有机发光二 极管或者液晶显示器单元)的直接沉积或者通过在柔性反基底上叠层显示器介 质(例如但不限于的电泳、电致变色或者电子纸显示器介质)与柔性背板接触。 包括柔性背板和柔性显示器介质的显示器被层叠在电阻触摸屏传感器的顶部， 所述电阻触摸屏传感器通过对显示器介质施加压力从顶部运行。通过将触摸屏 传感器设置在柔性显示器后面，触摸屏传感器的金属和电介质层的有限光吸收 和反射不会破坏显示器的光学质量。在实施例中，不需要光学设计折中、显示 器或触摸屏的光学工程以集成触摸屏功能和显示器。实施例允许在电阻触摸屏元件内组合非透明导体材料。这样的材料可以为 薄金属层，其替换了导电层的常规透明材料例如ITO。将I丁O或者其它同样易 碎的材料组合进柔性显示器不是优选的，这样的材料在弯曲时易破裂。在当前的触摸屏技术中采用ITO的主要优点为ITO导电性高，而且透明度高，因此其 对用户而言是保证可能的光学清晰度最高的有用材料。在现有技术中透明材料 的需要被描述为特别重要。但是，ITO涂层的成本高，将来由于原材料特别是铟 的稀有天然资源，预计成本更高。在本发明的实施例中，不需要采用实现触摸 屏功能的透明导体，可采用任何适合于柔性基底集成的金属，例如导电聚合物 或者低成本、薄膜真空或者溶液沉积无机金属例如铜或者铝。在另 一个实施例中，可通过去除对上聚合物薄膜的需要减小该设备结构的 整个触摸屏结构厚度。在该结构中，触摸屏的上导电层直接沉积在柔性背板底 面上。另一个实施例中，背板直接在电阻触摸屏元件的上导电层处理。该设备设 计排除了单独的衬底用于背板的需要，相反，晶体管在触摸屏元件的上导电层上制造。


为帮助理解本发明，将通过实例并参考附图描述其特别实施例，其中 图l描述了现有技术已知的触摸屏结构配置；图2描述了根据本发明一个实施例将触摸屏元件组合在柔性显示器下面的 电阻触摸屏结构的设备结构；图3示出了被组合在电阻触摸屏设备结构下面的电阻触摸屏元件的部件；图4示出了被组合在柔性显示器下面的电阻触摸屏元件的部件，其中触4莫 屏传感器的上电极根据本发明沉积在柔性显示器基底的背部；图5示出了被组合在柔性显示器下面的电阻触摸屏元件的部件，直接在触 摸屏元件上处理柔性显示器背板；图6描述了薄膜晶体管和柔性基底；以及适合于溶液沉积的有源矩阵显示 器设备的横截面和平面图。
具体实施方式
一般而言，我们将描述具有集成触摸传感器的柔性显示器设备，其中将电阻触摸屏元件置于柔性显示器下面而不会破坏显示器的光学清晰度，因此产生 100%的光学清晰度。柔性显示器将与柔性背板接触的柔性显示器介质结合在柔 性基底上，允许通过对显示器介质施加压力从上面操作设备。柔性显示器介质 和显示器背板层叠在电阻触摸屏元件上。参考附图，图2描述了包括叠放在柔性背板102上的显示器介质101的电 阻触摸屏结构的设备结构。显示器介质优选具有如下文所述的超薄尺寸。优选 地，电泳显示器介质组合在设备结构中并且位于背板上。如图2所示，背板包 括柔性基底102b。柔性基底102b可为薄层玻璃、聚酰亚胺(PI)或者柔性金属 箔，但柔性基底优选由聚合物膜组成，例如聚对苯二曱酸乙二醇酯 (polyethyleneterephtalate ) ( PET ) 或者聚萘二曱酸乙二醇酯 (polyethylenenaphtalene ) (PEN)。然后采用压敏粘合剂(PSA)将显示器介质 101和显示器背板102叠放在电阻触摸屏103上。通过将触摸屏元件结合在柔性显示器的背侧获得光学清晰度。图3描述了 位于设备底侧的电阻触摸屏元件103的部件。导电底层107位于底部基底108 上。底部基底108也优选为柔性基底，例如聚对苯二曱酸乙二醇酯(PET)或者 聚萘二曱酸乙二醇酯(PEN)。 一般地，选择底部基底108对触摸屏的操作而言 比下面的其它基底较不关键(参见下文)。绝缘隔离点层106位于下导体层上面，紧接着是另一个上导电材料层105, 该层可以和下层导体材料的材料相同。隔离点位于导电层之间以隔开所述下导 体层和上导体层105、 107。例如但不限于塑料基底(例如PET或者PEN)、薄 金属箔基底(如钢)或者薄玻璃基底通过形成所述元件的上基底完成电阻触摸 屏元件。上基底材料的优选厚度为25pm - 50jimi以获得触摸屏对从上部施加的 局部压力的最佳灵敏度。在本发明的实施例中，触摸屏的导电层105、 107可由透明导体例如ITO或 者非透明导体材料例如薄金属层制成。和电阻触摸屏位于显示器上部即用户和 显示器介质之间的设备结构相反，这里描述的触摸屏隐藏于使用者位于显示器 后面的结构不要求触摸屏透明。因此，廉价、非透明金属例如铜或者铝可用于 触摸屏的电极。在该新颖设备结构中，因为延展性金属薄膜常常比采用易碎陶资例如ITO更有柔性，所以采用非透明导电材^F的能力可用于提高电阻触摸屏设备的柔性。另外，因为薄金属材料膜通常为比ITO廉价的材料，所以将金属 材料用于导电层还具有降低成本的效果。此外，由于采用金属材料比采用ITO 可获得较高的导电性，因此采用金属层还可提高触摸屏元件内的总体性能。为获得触摸屏对从上面施加压力的良好敏感性，触摸屏104的上基底和柔 性背板102b的基底以及显示器介质101应当尽可能薄，同时保持制造和操作中 足够的机械完整性和硬度。该基底的厚度优选为10-250|Lim的量级，更优选为 20-200pm的量级。特别优选的厚度大约为175pm。电阻触摸屏设备的本结构允许改变整个设备堆积体中各层的厚度、特别是 基底108、 104、 120b的厚度，以及显示器介质及其支承件的厚度，以保证包括 设备薄膜晶体管阵列的显示器背板位于设备中性轴中。通过将晶体管设置在中 性轴上，保证了在弯曲电阻触摸屏设备时对背板施加最小的应力。可选择地， 设备中性轴可设计为位于该结构的在弯曲时最易受到机械破坏、破裂或者分层 的另一层中。在本发明的实施例中，可通过消除对触摸屏上基底104的需要减小新颖设 备结构整体触摸屏结构的厚度。在该结构中，将电阻触摸屏的上导电层105沉 积在柔性背板102b的底面上(参见图4)。这可通过以下过程实现作为柔性 背板制造步骤的一部分在基底102b底部上形成一组导电电极和互联装置图案， 然后采用和现在使用的使常规触摸屏的上基底和下基底108、 104相接触的过程 相似的叠层过程，层叠柔性背板和触摸屏的底部基底108。可选择地，可在有源 矩阵晶体管阵列的制造过程中以完成的触摸屏叠层为基底直接在触摸屏上基底 104的顶部上制造柔性背板。为进一步减小该设备的总厚度，如图5所示，可直接在电阻触摸屏元件的 上导电层上处理包括设备晶体管的柔性背板102。为提供电绝缘，在触摸屏的上 导电层105和柔性背板电活性(electroactive)层之间沉积薄介电隔离层109。该 隔离层的厚度优选为1-20pm的量级。其还可用于为触摸屏表面提供平面化。 这样不需要用于支承背板的单独基底，进一步改进了触摸屏对通过显示器元件 所施加的压力的灵敏度。在本发明的优选实施例中，在电阻触摸屏元件103的顶侧形成电阻触摸屏显示器设备的背板102。采用有源矩阵驱动结构制造该完整显示器。所述背板包括晶体管阵列。图6中示出了示例晶体管。在本发明的一些优 选实施例中，可通过下述方法制造形成结合至背板上的晶体管阵列的每个晶体 管在基底110上沉积导电材料并形成图案以形成源极和漏极111、 112。优选 地，可采用由玻璃或聚合物膜制成的柔性基底，但是优选采用例如聚对苯二曱 酸乙二醇酯(PET)或者聚萘二曱酸乙二醇酯(PEN)的塑料基底102b。图案化 的导电层lll、 112包括导电聚合物例如PEDOT、或者金属材料例如金或者银。 其可通过以下技术来沉积和形成图案溶液处理(solution processing)技术(例 如但不限于旋涂、浸涂、刮涂、棒(bar)涂、缝模(slot-die)涂或者喷涂)、 喷墨、凹版印刷、平版印刷或者丝网印刷。可选择地，可采用真空沉积技术， 例如蒸发和溅射以及光刻才支术。一旦形成导电层图案以形成源极和漏极，则在基底和图案化电极上沉积一 层半导体材料113。半导体层可包括真空或溶液可处理的有机或无机半导体材 料，例如但不限于半导体聚合物如多芳胺(polyarylamine )、聚芴(poyfluorene) 或者聚漆吩(polythiophene derivatives )衍生物、小分子有机半导体如并五苯， 或者溶液可处理无机材料例如CdSe、 ZnO、或者硅基纳米线(nanowire)。可 采用宽范围的印刷技术以沉积半导体材料，包括但不限于喷墨印刷、软光刻印 刷(J.A. Rogers等人，Appl. Phys. Lett. 75, 1010 ( 1999 ); S. Brittain等人，Physics World May 1998， p. 31 )、丝网印刷(Z. Bao等人，Chem. Mat. 9, 12999( 1997 ))、 平版印刷、刮涂或者浸涂、帘式淋涂、弯月面涂敷、喷射涂敷、或者挤压涂敷。 可选择地，可通过例如光刻(参见WO99/10939)或者激光烧蚀的技术将半导体 层沉积为连续薄膜以及相减地图案化。然后将栅极电介质材料114层沉积在分层基底上。可将例如聚异丁烯或者 聚乙烯基笨酚(polyvinylphenol)的材料用作电介质材料，但是优选采用聚曱基 丙烯酸曱酯(PMMA)和聚苯乙烯。可以通过例如但不限于喷涂或者刮涂的技 术以连续层形式沉积电介质材料。但是优选采用喷涂技术。沉积电介质层之后沉积栅极电极115和互联线。4册极电极材料可以为无机金属薄膜例如金或者廉价金属例如铜或者铝。采用例如溅射或者蒸发技术或者 溶液处理技术如旋涂、浸涂、刮涂、棒涂、缝模涂、凹版印刷、平版印刷或者 丝网印刷沉积栅极电极。可选择地，可采用无电淀积技术或者激光烧蚀。晶体管可以制造为具有数据、栅极寻址以及公共电极的有源矩阵阵列的形 式。每个阵列像素可包括一个或多个晶体管。晶体管电极的至少其中一个电极 被耦合至电活化显示器元件，例如但不限于电泳、电致变色或者电子纸显示器 像素、液晶显示器像素、或者有机发光二极管，以通过对显示器元件施加电压 或电流控制显示器元件的状态。显示器介质优选为反射型显示器介质，以便使 用非透明金属用于触摸屏元件。然而，显示器介质也可以是透射型介质，在这 种情况下，触摸屏由例如ITO的透明导体制造。最后，显示器介质元件1被连接至完成的背板以及底层触摸屏结构。显示 器介质或者直接沉积在柔性背板基底上。例如，对顶部发光聚合物发光显示器 介质而言，可将旋光聚合物喷墨印刷至有源矩阵的像素位置，接下来沉积透明 顶部阴极和透明封装层。对电泳显示器介质而言，沉积在具有透明导体电极的 上部基底上的电泳墨薄膜与柔性背板叠合。从申请人的WO2004/070466摘取的图7a和7b示出了有源矩阵像素的横截 面和顶部视图，其中电压控制显示器介质例如液晶或者电子纸。图7a示出了包 括像素电容器的晶体管控制显示器设备的侧视图。其具有基底701、可以为连续 层或者可被图案化的半导体702 (在该图中半导体被形成图案以覆盖晶体管通 道)、数据线703、像素电极704、晶体管电介质705、栅电极/栅极互联线706 和显示器介质707 (例如液晶或者电子纸)和显示器介质的反电极708。在该例 子中，跨过介质的电场决定显示器介质的状态，并且可通过像素704和顶部电 极708之间的电压差切换设备的可切换区域709。尽管WO2004/070466描述了采用溶液沉积技术(例如喷墨印刷、丝网印刷 和平版印刷)在硬基底上制造显示器，但是如上所述还可采用溶液沉积技术在 柔性基底例如塑料基底上制造相似显示器。在申请人的共同未结UK专利申请 0570173.8、 0506613.9和0511117.4中描述了在柔性基底上进行沉积的溶液沉积 技术的其它优选方面，其内容通过引用合并在此。当柔性显示器与触摸屏接触时，该两个元件应当相互对准以保证对显示器 设备的限定区域施加压力、激励触摸屏的正确区域。这可以通过在层叠两个元 件之前光学对准来实现。对柔性背板和触摸屏的至少一层被沉积在相同的基底 上的制造过程而言，可在图案化这些层时相互对准触摸屏层和柔性背板层。本发明不限于上述例子。例如，尽管描述了采用电阻触敏传感器，但是还 可采用其它触敏技术例如在引言中所提到的技术。本发明的方面包括这里所描述构思的所有新颖和/或创造性方面以及这里所 描述的特征的所有新颖和/或创造性组合。申请人在此孤立公开了这里所描述的每个单独特征和两个或多个这种特征的任意组合，达到这样的程度根据本领 域技术人员的一般知识，基于本说明书的整体，这些特征或者能够被执行，而 不论这些特征或特征组合能否解决这里所公开的任何问题，并且不限制权利要 求的范围。本发明的方面可包括任何这种单独特征或者特征组合。考虑到上述 描述，本领域技术人员显然可在本发明的范围内进行各种更改。
权利要求
1.一种触敏有源矩阵显示器设备，该设备包括在第一柔性基底上制造的显示器，所述显示器具有视面；以及位于所述显示器下面的包括第二柔性基底的触敏传感器；以及其中通过触摸所述显示器的所述视面运行所述触摸传感器；以及所述组合显示器和触敏传感器是柔性的。
2. 如权利要求1所述的触敏显示器设备，其中所述第一和第二柔性基底包 括共用柔性基底。
3. 如权利要求2所述的触敏显示器设备，其中所述共用柔性基底包括所述 显示器的背板。
4. 如权利要求3所述的触敏显示器设备，其中在所述背板上制造所述触摸 传感器的导电层。
5. 如权利要求2所述的触敏显示器设备，其中所述共用柔性基底包括触摸 屏叠层，并且其中在所述叠层上制造所述显示器的背板。
6. 如权利要求1所述的触敏显示器设备，其中所述触敏传感器和所述显示 器每个都具有分层结构，其中所述显示器包括所述触敏传感器的至少一层，从 而所述显示器和所述传感器具有至少一个共用的所述层。
7. 如权利要求6所述的触敏显示器设备，其中所述显示器的所述第一柔性 基底包括所述触敏传感器的所述第二柔性基底。
8. 如权利要求6所述的触敏显示器设备，其中所述第一柔性基底直接位于 所述触敏传感器的导电层上。
9. 如权利要求6所述的触敏显示器设备，其中所述显示器的所述第一柔性 基底包括在所述触敏传感器的导电层上制造的背板。
10. 如前述权利要求中任一项所述的触敏显示器设备，其中所述触^:传感 器包括具有基本上不透明导体的层。
11. 如前述权利要求中任一项所述的触敏显示器设备，其中所述显示器包 括具有薄膜晶体管阵列的背板，并且其中所述背板基本上位于所述设备的中性表面上。
12. 如前述权利要求中任一项所述的触敏显示器设备，其中所述显示器包括像素化显示器。
13. 如前述权利要求中任一项所述的触敏显示器设备，其中所述触敏显示 器设备被像素化。
14. 如前述权利要求中任一项所述的触敏显示器设备，其中所述显示器设 备包括反射显示器介质。
15. 如权利要求14所述的触敏显示器设备，其中所述反射显示器介质包 括电泳显示器介质。
16. 如前述权利要求中任一项所述的触敏显示器设备，其中所述触敏传感 器包括机械传感器，所述机械传感器包括被绝缘隔离层隔开的第一和第二导电 层，并且配置为使所述第一和第二导电层相互接触，以响应于机械压力电连接 导体的所述第一和第二导电层。
17. 如前述权利要求中任一项所述的触敏显示器设备，其中所述显示器包 括适合于溶液沉积的多层电子结构。
18. 如权利要求17所述的触敏显示器设备，其中所述多层电子结构包括 所述显示器的有源矩阵背板。
19. 如前述权利要求中任一项所述的触敏有源矩阵显示器设备，其中所述 有源矩阵包括具有有机半导体的场效应晶体管阵列。
20. 如权利要求19所述的触敏有源矩阵显示器设备，其中所述有机半导 体为溶液处理的聚合物半导体。
21. 如权利要求19或20所述的触敏有源矩阵显示器设备，其中所述场效 应晶体管包括有机栅极电介质。
22. 如权利要求21所述的触敏有源矩阵显示器设备，其中所述有机栅极 电介质为溶液处理聚合物电介质。
23. 如权利要求21所述的触敏有源矩阵显示器设备，其中通过化学汽相 沉积来沉积所述有机栅极电介质。
24. 如权利要求23所述的触敏有源矩阵显示器设备，其中所述有机栅极电介质为聚对二曱苯。
25. 如权利要求21至24中任一项所述的触敏有源矩阵显示器设备，其中 所述有机栅极电介质的厚度处于200nrn和lpm之间。
26. 如前述权利要求中任一项所述的触敏显示器设备，其中所述触敏传感 器为电阻式触敏传感器。
27. 如前述权利要求中任一项所述的触敏显示器设备，其中所述第一和第 二柔性基底中的一个或两个的厚度处于1(Vm至250pi1的范围。
28. 如前述权利要求中任一项所述的触敏显示器设备，其中所述第一和第 二柔性基底的一个或两个的厚度处于20pm至200pm的范围。
29. —种触敏有源矩阵显示器设备，所述设备包括 在柔性基底上制造的显示器，所述显示器具有视面；以及 位于所述显示器下面的触敏传感器；并且其中 通过触摸所述显示器的所述视面运行所述触敏传感器；以及 所述有源矩阵显示器包括适合于溶液沉积的多层电子结构。
30. 如权利要求29所述的触敏有源矩阵显示器设备，其中所述有源矩阵 包括具有有机半导体的场效应晶体管阵列。
31. 如权利要求30所述的触敏有源矩阵显示器设备，其中所述有机半导 体为溶液处理的聚合物半导体。
32. 如权利要求29至31中任一项所述的触敏有源矩阵显示器设备，其中 所述场效应晶体管包括有机栅极电介质。
33. 如权利要求32所述的触敏有源矩阵显示器设备，其中所述有机栅极 电介质为溶液处理聚合物电介质。
34. 如权利要求32所述的触敏有源矩阵显示器设备，其中通过化学汽相 沉积来沉积所述有机栅极电介质。
35. 如权利要求34所述的触敏有源矩阵显示器设备，其中所述有机栅极 电介质为聚对二曱苯。
36. 如权利要求32至35中任一项所述的触敏有源矩阵显示器设备，其中 所述有机栅极电介质的厚度处于200nm和1 pm之间。
37. 如权利要求29所述的触敏有源矩阵显示器设备，其中所述触敏传感 器为电阻式触敏传感器。
38. —种触敏显示器设备，所述设备包括 在柔性基底上制造的显示器，所述显示器具有视面；以及 位于所述显示器下的触敏传感器；以及其中 通过触摸所述显示器的所述视面操作所述触敏传感器；并且 所述触敏传感器被像素化。
全文摘要
本发明总体涉及例如采用电阻式触摸屏技术结合柔性触摸屏元件和柔性显示器，以制造柔性组合设备。触敏有源矩阵显示器设备包括在第一柔性基底上制造的显示器，所述显示器具有视面；以及位于所述显示器下面的具有第二柔性基底的触敏传感器；其中通过触摸所述显示器的所述视面运行所述触敏传感器；以及所述组合的显示器和触敏传感器是柔性的。
文档编号G06F3/045GK101223494SQ200680025851
公开日2008年7月16日 申请日期2006年7月24日 优先权日2005年7月25日
发明者沙吉尔·西迪基, 西蒙·约翰斯, 谢默斯·伯恩斯 申请人:造型逻辑有限公司