专利名称：指纹成像系统的制作方法
技术领域：
本发明涉及被配置为以电子方式捕获个人的摩擦嵴(frictionridge)图案的图 像的指纹成像系统内的环境光的减少。
背景技术：
以电子方式捕获人的摩擦嵴图案的图像的指纹成像系统是已知的。然而，常规系 统的性能可能会由于在操作过程中引入的环境光而减退。例如，常规系统中环境光会使摩 擦嵴的图像饱和。通常，为解决此问题，指纹成像系统可以包括相对高能的光源以克服饱和 度问题，和/或用于在环境光进入系统之前阻止它的外部遮光板或罩。这些解决方案中的 每一个解决方案都存在其自己的缺点。例如，高能光源可能对系统的能源预算产生负面影 响。外部遮光板或罩会增大系统的尺寸和/或重量，并可能需要必须和系统一起携带的额 外部件。
发明内容
本发明的一个方面涉及指纹成像系统。指纹成像系统可以被配置为捕获主体的摩 擦嵴图案(例如，指纹、掌纹、手印、脚印等等)的图像。系统可以包括减小环境光对系统的 性能的影响的一个或多个组件。在某些实现方式中，不需要额外的能源(例如，为产生更大 的辐射量)，不需包括被设计为在环境光进入系统之前阻止环境光的"外部"遮光板和/或 罩，系统就可以减小环境光的影响。而是，系统可以通过沿着用于以电子方式捕获摩擦嵴图 案的图像的辐射的光路在系统内内部地阻止环境光，来减小环境光对性能的影响。
在某些实施例中，系统包括压板、辐射发射模块、图像捕获设备和/或其他组件。 压板可以被配置为啮合主体的摩擦嵴图案。辐射发射模块可以被配置为在压板和摩擦嵴图 案之间的啮合处或附近向压板提供辐射。辐射可以在压板上被完全内部反射，压板上的摩 擦嵴图案与压板啮合的位置除外，因为在这些位置全内反射会被破坏。图像捕获设备可以 被配置为接收在压板处被完全内部反射的辐射，以及以电子方式捕获与压板啮合的摩擦嵴 图案的图像。 系统还可以进一步包括用于在环境光到达图像捕获设备之前阻止进入系统的环 境光的一个或多个元件。例如，系统可以包括偏振器和光学分析器。偏振器可以包括一个 或多个光学元件，被配置为提供以均匀的偏振入射到其上的辐射。这可以包括基本上只透 射以均匀的偏振入射到其上的辐射，而基本上阻止(例如，吸收、反射等等)以不同于均匀 偏振的偏振入射到其上的全部辐射。偏振器可以置于系统内，介于压板和图像捕获设备之 间，以基本上接收从压板发出的任何辐射(例如，通过反射、透射等等)。这可以包括由辐射 发射模块发射发出的辐射和通过压板进入系统的环境光。 光学分析器可以包括被配置为只透射具有需要的偏振的辐射的一个或多个光学 元件。光学分析器可以置于系统内，介于压板和图像捕获设备之间，以使图像捕获设备基本 上屏蔽系统内的没有需要的偏振的全部辐射。光学分析器可以形成以使得需要的偏振不同于偏振器32给予辐射的均匀偏振。这可以有效地使图像捕获设备屏蔽通过压板进入系统 的至少某些环境光。例如，进入系统入射到偏振器上，然后入射到光学分析器上的一束环境 光，将被偏振器偏振，并被光学分析器阻止到达图像捕获设备，因为偏振器给予该束环境光 的偏振将不同于需要的偏振。 在某些实施例中，该系统可以包括偏振部件和一个或多个光束折叠部件。偏振部 件可以被配置为改变入射到其上的辐射的偏振。在某些情况下，偏振部件可以将入射在其 上的偏振从由偏振器提供给辐射的均匀偏振改变为将由光学分析器透射的需要的偏振。这 可以使从压板发出的某些辐射(例如，由辐射发射模块所提供的辐射)能穿过偏振器和光 学分析器两者，入射到图像捕获设备上。折叠部件可以被配置为定义从偏振器到偏振部件 并且到光学分析器上的光路，以便沿着由折叠部件所定义的光路行进的辐射可以透射过光 学分析器。例如，折叠部件可以置于系统内，以引导从摩擦嵴图案和压板之间的啮合处或附 近的压板反射的辐射。这可以确保，从压板反射以在压板上形成摩擦嵴图案的图像的来自 辐射发射模块的辐射，将透射过偏振器和分析器两者到达图像捕获设备。在系统内也可以 使用其他部件阻止环境光。 系统内的可以由系统引导穿过图像捕获设备的一个环境光光源包括通过压板进 入系统并入射到辐射发射模块上的一束环境光。该光束可以被与辐射发射模块关联的反射 器反射回压板。然后，此光束可以被压板完全内部反射，并且沿着类似于由辐射发射模块发 射的辐射的路径的路径前进，入射到图像捕获设备上。换句话说，由于此光束的路径与由辐 射发射模块发射的辐射邻近(或者甚至并置)，偏振器、分析器，以及偏振部件的布局，可能 不能有效地阻止此束反射的环境光。相应地，在某些实施例中，辐射发射模块可以包括一些 组件，被设计用于防止环境光通过压板进入系统，入射到与辐射发射模块关联的反射器上， 并从基本上与由辐射发射模块发射的辐射相同的方向朝压板返回。 例如，在某些实施例中，辐射发射模块可以包括光源和全内反射镜("TIR镜")。 光源可以发射被引导向压板的辐射。TIR镜可以包括一表面，该表面被配置为通过全内反 射将从光源发出的辐射导向压板。相比之下，通过压板进入系统的一束环境光可以以小于 TIR镜的临界角的入射到TIR镜的入射角传播到TIR镜。相应地，该束环境光可以透射过 TIR镜，而不会被完全内部反射。通过此机制，本来会影响系统性能的环境光可以通过TIR 镜从系统除去。 在某些其他实施例中，辐射发射模块可以包括光源、线性偏振器，以及四分之一波
长延迟器，偏振器和四分之一波长延迟器置于压板和光源之间。线性偏振器可以向入射在
其上的辐射提供线性偏振。四分之一波长延迟器可以改变入射到其上的辐射的偏振。例如，
四分之一波长延迟器可以将线性偏振的辐射改变圆偏振辐射，反之亦然。 在辐射发射模块中配置线性偏振器和四分之一波长延迟器可以减少通过压板进
入系统并从光源反射回到压板的环境光的影响。例如，随着一束环境光通过压板进入系统
并向光源前进，该束环境光会入射到线性偏振器上，线性偏振器在第一朝向使环境光线性
地偏振。然后，线性偏振的环境光可以入射到四分之一波长延迟器上，该四分之一波长延迟
器改变环境光的偏振状态，使环境光圆偏振。在被光源反射之后，环境光会再次入射到四分
之一波长延迟器上，该四分之一波长延迟器会再次将环境光的偏振状态改变为线性的。然
而，在第二次穿过四分之一波长延迟器之后，环境光的偏振的朝向可以正交于由线性偏振器提供给环境光的线性偏振的朝向。如此，随着环境光再次入射到线性偏振器上，环境光 的偏振可以正交于线性偏振器的偏振，从而，由于这种正交性，该线性偏振器可以阻止环境 光。 本发明的这些及其他目标、特点，以及特征，以及结构的相关元件以及部件的组合 的操作方法和功能，以及制造成本的节约，通过下面的参考附图对所附的权利要求进行的 详细描述，将变得更加显而易见，所有的这些附图构成了此说明书的一部分，其中，相似的 引用编号表示各个图中的对应的部分。然而，应该明确地理解，附图只用于说明和描述，不 作为对本发明的限制。如在说明书和权利要求中所使用的，单数形式也包括多个涉及的对 象，除非上下文明确地特别指出。
图1显示了根据本发明的-
图2显示了根据本发明的 模块。 图3显示了根据本发明的 模块。
具体实施例方式
图1显示了根据本发明的一个或多个实施例的指纹成像系统10。系统10可以被 配置为捕获主体的摩擦嵴图案(例如，指纹、掌纹、手印、脚印等等)的图像。系统10可以 包括縮小环境光对系统10的性能的影响的一个或多个组件。如下面进一步讨论的，不需要 额外的能源(例如，为产生更大的辐射量)，不包括被设计为在环境光进入系统10之前阻止 环境光的"外部"遮光板和/或罩，系统10就可以减小环境光的影响。在某些实施例中，系 统10包括压板12、辐射发射模块14、图像捕获设备16和/或其他组件。
压板12可以被配置为啮合该主体的摩擦嵴图案。在某些实施例中，压板12可以 通过棱镜18来提供。棱镜18可以如此构成，以便辐射从棱镜18内被内部地导向压板12。 例如，棱镜18可以包括光接收表面20，通过该表面，辐射可以接收到棱镜18中。在光接收 表面接收到棱镜18中的辐射可以从棱镜18内入射到压板12上。此辐射可以被压板12在 内部完全反射，被导向光退出表面22，从该表面，反射辐射退出棱镜18。虽然在图1中，显 示的压板12位于棱镜18的外表面24，但是，应该了解，可以向外表面24施加一个或多个涂 层。在这些情况下，可以在最外面的涂层的外表面形成压板12。可以向外表面24施加的涂 层的示例可以包括二氧化硅、石英和/或其他涂层。 辐射发射模块14可以被配置为向系统IO提供辐射。如图1所示，由辐射发射模 块14所提供的辐射26可以被导向压板12。例如，在系统IO内可以如此安置辐射发射模块 14，以便由辐射发射模块14向棱镜18的光接收表面20发射的辐射26被导向压板12，并在 压板12上向光退出表面22完全内部反射。辐射发射模块14可以包括一个或多个发射器， 用于发射被导向压板12的辐射。该一个或多个发射器可以包括一个或多个有机发光二极 管("OLED")、激光器(例如，二极管激光器或其他激光发射器)、发光二极管("LED")， 热阴极荧光灯("HCFL")、冷阴极荧光灯("CCFL")、白炽灯、卤素灯泡、接收到的环境光，
个或多个实施例的指纹成像系统。 -个或多个实施例的用于指纹成像系统中的辐射发射
-个或多个实施例的用于指纹成像系统中的辐射发射和/或其他电磁辐射发射器。辐射发射模块14可以包括将从一个或多个发射器发出的辐 射导向压板12的反射器。反射器可以包括镜面表面，该镜面表面被形成为以基本上经过校 准的光束定向引导所发出的辐射，或者，反射器可以包括扩散并引导辐射的另一个反射表 面(例如，白色表面)。如上文所提及的，由辐射发射模块14向压板12提供的辐射的至少 一部分可以以某一入射角度入射到压板12上，以便辐射在压板12内部完全反射，全内反射 被摩擦嵴图案和压板12之间的接触破坏的位置除外。在某些实现方式中(例如，如图2和 3所示，下面进一步地讨论的)，辐射发射模块14可以包括一些组件，被设计用于防止环境 光通过压板12进入系统10，入射到辐射发射模块14的反射器上，并从基本上与由辐射发射 模块14的发射器发射的辐射相同的方向朝压板12返回。 图像捕获设备16可以被配置为以电子方式捕获与压板12啮合的摩擦嵴图案的图 像。图像捕获设备16可以包括，例如，成像芯片28，被配置为产生一个或多个输出信号，可 以从这些信号重新创建在成像芯片28上形成的图像。例如，图像捕获设备16可以包括一 个或多个CCD芯片、 一个或多个CMOS芯片，和/或其他成像芯片。图像捕获设备16可以置 于系统10内，在其上形成有压板12的图像的图像平面上。 在某些实施例中，系统10可以包括成像光学装置30。成像光学装置30可以包括 一个或多个光学元件，其中有光学元件被配置为在图像捕获设备16上形成压板12的图像。 成像光学装置30可以包括被设计用于减小环境光对系统10的性能的影响的一个或多个光 学元件。这些组件可以通过例如减少到达图像捕获设备16的环境光的量来减小环境光的 影响。例如，成像光学装置可以包括偏振器32和光学分析器34。 偏振器32可以包括一个或多个光学元件，被配置为提供以均匀的偏振入射到其 上的辐射。这可以包括基本上只透射以均匀的偏振入射到其上的辐射，而基本上阻止(例 如，吸收、反射等等)以不同于均匀偏振的偏振入射到其上的全部辐射。偏振器32可以置 于系统10内，介于压板12和图像捕获设备16之间，以基本上接收从压板12向图像捕获设 备16发出的任何辐射(例如，通过反射、透射等等)。在图l所显示的实现方式中，可以布 置偏振器32基本上接收从光退出表面22退出棱镜18的全部辐射。在某些实施例中，偏振 器32可以作为单独的光学元件形成。在某些其他实施例中，偏振器32可以作为置于另一 个光学元件上的偏振膜而形成。例如，偏振器32可以作为置于棱镜18的光退出表面22上 的偏振膜而形成。作为另一个示例，偏振器32可以作为棱镜18的外表面24上的涂层而形 成。作为再一个实例，偏振器32可以作为压板12外部的光学元件而形成(例如，作为包括 偏振器32的遮光板)。 光学分析器34可以包括被配置为只透射具有需要的偏振的辐射的一个或多个光 学元件。光学分析器34可以置于系统10内，介于压板12和图像捕获设备16之间，以使图 像捕获设备16基本上屏蔽系统10的没有需要的偏振的全部辐射。光学分析器34可以如 此构成，以便需要的偏振不同于偏振器32给予辐射的均匀偏振。这可以有效地使图像捕获 设备16屏蔽通过棱镜18的外表面24进入系统10的至少某些环境光。例如，通过外表面 24进入棱镜18并在光退出表面22退出棱镜18的一束环境光，入射在偏振器32上，然后， 入射在光学分析器34上，该束环境光将被偏振器32偏振，被光学分析器34阻止到达图像 捕获设备16，因为由偏振器32给予光束36的偏振将不同于需要的偏振。光学分析器34可 以作为单独的光学元件而形成。在某些其他情况下，光学分析器34可以作为置于另一个光学元件(例如，下面讨论的成像透镜42)上的膜。 在某些实施例中，成像光学装置30可以包括偏振部件38和一个或多个光束折叠 部件40。偏振部件38可以被配置为改变入射到其上的辐射的偏振。在某些情况下，偏振部 件38可以将入射在其上的偏振从由偏振器32提供给辐射的均匀偏振改变为将由光学分析 器34透射的需要的偏振。这可以使从压板12发出的某些辐射(例如，光束26)能穿过偏 振器32和光学分析器34两者，入射到图像捕获设备16上。例如，在某些实施例中，偏振器 32向透射过它的辐射提供线性偏振，而光学分析器34只透射带有线性偏振的辐射，其线性 偏振的朝向正交于由偏振器32给予辐射的线性偏振。在这样的实施例中，偏振部件38可 以包括四分之一波长延迟器(例如，四分之一波片、四分之一波长膜等)和反射面(例如， 反光镜)，四分之一波长延迟器位于反射面上，或其附近，以便线性偏振的辐射的朝向被偏 振部件38移动90。。 如图l所示，折叠部件40可以被配置为限定从偏振器32到偏振部件38以及到光 学分析器34的光路，以便沿着由折叠部件40所定义的光路行进的辐射(例如，光束26)可 以透射过光学分析器34。折叠部件40可以置于系统10内，沿着类似于由辐射发射模块14 发射的并在压板12上反射的辐射26的路径引导从压板12发出的辐射。这可以确保，在压 板12上形成摩擦嵴图案的图像的来自辐射发射模块14的辐射26将透射过偏振器32和分 析器34，到达图像捕获设备16。折叠部件40可以包括用于反射辐射的一个或多个镜面表 面。在某些其他情况下，折叠部件40可以包括能够弯曲或折叠辐射的光路的一个或多个其 他光学元件。 在某些实施例中，成像光学装置30可以包括成像透镜42。成像透镜42可以位于 系统10内以在图像捕获设备16上形成压板12的图像。成像透镜42可以相对于由成像光 学装置30所限定的光路是偏轴并且倾斜的。这可以将在类似于由成像光学装置30所限定 的光路的路径上传播的环境光聚焦到图像捕获设备16的与摩擦嵴图案和压板12之间的啮 合的图像在空间分开的位置上。例如，在某些情况下，一束环境光44可以通过压板12沿着 类似于在摩擦嵴图案和压板12之间的啮合处附近被压板12反射的辐射26的光路的光路， 进入系统10。从图1可以了解，由于光束44的路径和辐射26的光路之间的相似，光束44 可以透射过偏振器32和分析器34两者，入射到图像捕获设备16上。然而，如果成像透镜 42是倾斜并且偏轴的，则光束44可以由镜头42导向图像捕获设备16上在空间上与由摩擦 嵴图案构成的图像分开的位置。 应该了解，在某些情况下，成像透镜42可以既不是倾斜的，也不是偏轴的，(因为 这些可能影响图像的视角)。此外，系统10的其他组件的各种属性可以被设计用于减少由 成像光学装置30引导的环境光的量，以便它被偏振器32和分析器34两者透射。例如，偏 振部件38和/或折叠部件40可以被配置为减少通过偏振部件38无意地从偏振器32导向 分析器(例如，由于它们的尺寸、朝向等等)的环境光的量。在某些情况下，可以在系统IO 内提供一个或多个挡板46。挡板46可以被配置为阻止系统10内的环境光(例如，一束环 境光48)。 如上文所提及的， 一个环境光源包括通过压板12进入系统10并入射到辐射发射 模块14的一束环境光50。光束50可以被与辐射发射模块14关联的反射器反射回压板12。 从图1应该了解，光束50可以被压板12反射，并沿着类似于辐射26的路径前进，入射到图
8像捕获设备16上。换句话说，由于光束50的路径与由辐射发射模块14发射的辐射26邻 近(或者甚至并置)，偏振器32、分析器34，以及偏振部件38的布局，可能不能有效地阻止 光束50。相应地，在某些实施例中，辐射发射模块14可以包括一些组件被设计用于防止环 境光通过压板12进入系统10，入射到与辐射发射模块14关联的反射器上，并从基本上与由 辐射发射模块14的发射器发射的辐射相同的方向朝压板12返回。 例如，图2显示了根据一个或多个实施例的辐射发射模块14。如图2所示，辐射 发射模块14被设计用于减少从辐射发射模块14向压板12反射回的环境光(例如，如图1 所示以及上文所描述的光束50)的影响。辐射发射模块14可以包括光源52和TIR镜54。 光源52可以包括发射辐射的发射器和将由发射器发射的辐射导向压板12的反射器，如上 文所讨论的。TIR镜54可以包括被配置为通过全内反射将从光源52发出的辐射导向压板 12的表面。在如图2所示的实现方式中，TIR镜54由棱镜18的边界构成，但是，这不是限 制性的。在其他实现方式中，可以使用与棱镜18分开的波导构成TIR镜54。
如此形成TIR镜54，以便如果辐射以小于TIR镜54的临界角56的入射角入射到 其上，则辐射将穿过TIR镜54。如果辐射以大于临界角56的入射角度入射到TIR镜54上， 则辐射将被由TIR镜54产生的全内反射的光学现象反射。应该了解，临界角56是在TIR 镜54上聚集的两种光学介质(例如，棱镜18和空气)的折射率的函数。
可以在系统10内如此安置光源52，以便通过光接收表面20进入棱镜18的从光源 52发出的辐射58以大于临界角56的入射角度60入射到TIR镜54。相应地，由光源52发 射到棱镜18的基本上全部辐射将在TIR镜54处反射，入射到压板12上。相比之下，可以 减少通过棱镜18引导进入光源52的环境光的量。例如，一束环境光62可以通过外表面24 进入棱镜18，并以小于临界角56的入射角64传播到TIR镜54。光束62可以透射过TIR 镜54，而不会被完全内部反射。通过此机制，本来会影响系统10的性能的环境光，可以通过 TIR镜54从系统10上除去。 图3显示了根据一个或多个实施例的辐射发射模块14的另一个示例。在如图3 所示的实现方式中，辐射发射模块14可以包括光源52、线性偏振器64，以及四分之一波长 延迟器66。线性偏振器64向入射在其上的辐射提供线性偏振。线性偏振器64可以作为不 同的光学元件而形成，或者，线性偏振器64可以包括置于系统10内的另一个光学元件(例 如，棱镜18的光接收表面20)上的线性偏振器膜。在某些实施例中，(如图l所示和如上 文所描述的)偏振器32包括线性偏振器，而由线性偏振器64给予辐射的偏振的朝向对应 于由偏振器32给予辐射的偏振的朝向。如此，穿过线性偏振器64的由光源52发射的辐射 68在被压板12反射之后也可以穿过偏振器32。 四分之一波长延迟器66改变入射到其上的辐射的偏振。例如，四分之一波长延迟 器66可以将线性偏振的辐射改变圆偏振辐射，反之亦然。四分之一波长延迟器66可以作 为单独的光学元件(例如，波片)而形成，或者，四分之一波长延迟器66可以包括置于另一 个光学元件(例如，光源52的反射器，线性偏振器64等等)上的四分之一波长膜。
线性偏振器64和四分之一波长延迟器66的设置可以减少通过压板12进入系统 10并从光源52反射的环境光的影响。例如，随着一束环境光70通过压板12进入系统10 并向光源52前进，光束70会入射到线性偏振器64上，并且从而会被在第一朝向线性偏振。 然后，线性偏振光束70会入射到四分之一波长延迟器66上，而四分之一波长延迟器66会改变光束70的偏振状态，使光束70圆偏振。在光源52反射之后，光束70会再次入射到四 分之一波长延迟器66上，四分之一波长延迟器66会再次将光束70的偏振状态改变为线性 的。然而，在第二次穿过四分之一波长延迟器66之后，光束70的偏振的朝向会垂直于由线 性偏振器64提供给辐射的线性偏振的朝向。如此，随着光束70再次入射在线性偏振器64 上，光束70的光的偏振会垂直线性偏振器64的偏振，从而，由于这种正交性，阻止了光束 70。 虽然为了说明基于了当前被认为是最实用和优选的实施例来详细描述本发明的， 但是，应该理解，这样的细节仅仅用于该目的，本发明不仅限于所说明的实施例，相反，可以 涵盖在所附的权利要求的精神和范围内的修改和等效的方案。例如，还应该理解，本发明预 期，在可能的程度上，任何实施例的一个或多个特点可以与任何其他实施例的一个或多个 特点相结合起来。
权利要求
一种被配置为捕获主体的摩擦嵴图案的图像的指纹成像系统，所述系统包括被配置为啮合主体的摩擦嵴图案的压板；被配置为以电子方式捕获与所述压板啮合的摩擦嵴图案的图像的图像捕获设备；光学分析器，被配置为，除非入射辐射具有需要的偏振，否则阻止入射在其上的辐射，所述光学分析器位于所述系统内，遮蔽所述图像捕获设备以阻止其接收没有所述需要的偏振的辐射，从而，所述光学分析器阻止通过所述压板进入所述系统并且本来会入射到所述图像捕获设备上的没有需要的偏振的环境光。
2. 根据权利要求1所述的系统，进一步包括如此安置的偏振器，以便从所述压板向所述分析器发出的全部辐射，或基本上全部辐射，在入射到所述分析器之前入射到所述偏振器上，所述偏振器被配置为向入射在其上的辐射提供的偏振不同于所述需要的偏振。
3. 根据权利要求2所述的系统，其中，所述偏振器置于所述压板和所述分析器之间。
4. 根据权利要求3所述的系统，进一步包括偏振部件，被配置为将入射在其上的辐射的偏振从由所述偏振器提供给辐射的偏振改变为需要的偏振。
5. 根据权利要求4所述的系统，进一步包括被配置为向所述压板发射辐射的辐射源，以便如果所述摩擦嵴与所述压板啮合，则所发射的辐射的一部分，(i)从所述压板上所述摩擦嵴和所述压板之间的交界面处或附近的区域反射，(ii)被所述偏振器偏振，(iii)入射到所述偏振部件上，(iv)穿过所述分析器，以及(v)入射到所述图像捕获设备上。
6. 根据权利要求4所述的系统，其中，所述偏振部件包括延迟器和/或波片。
7. 根据权利要求6所述的系统，其中，所述偏振部件包括四分之一波片。
8. 根据权利要求6所述的系统，其中，所述需要的偏振是圆偏振或者线性偏振。
9. 根据权利要求1所述的系统，进一步包括聚焦透镜，被配置为将压板和与压板啮合的指纹嵴图案的图像聚焦到图像捕获设备上，其中，所述聚焦透镜相对于所述图像捕获设备是偏轴的，并且其中，所述聚焦透镜相对于所述图像捕获设备是倾斜的。
10. —种被配置为捕获主体的摩擦嵴图案的图像的指纹成像系统，所述系统包括被配置为啮合主体的摩擦嵴图案的压板；被配置为以电子方式捕获与所述压板啮合的摩擦嵴图案的图像的图像捕获设备；以及辐射发射模块，被配置为向所述压板提供辐射，以便由所述辐射发射模块所提供的辐射的至少一部分在摩擦嵴图案和压板之间的啮合处或附近被所述压板反射，并构成了将被所述图像捕获设备捕获的所述摩擦嵴图案的图像，所述辐射发射模块包括光源，被配置为发射导向所述压板的辐射；置于所述光源和所述压板之间的线性偏振器；以及置于所述光源和所述压板之间的四分之一波长延迟器。
11. 根据权利要求io所述的系统，其中，所述光源包括被配置为向所述压板发射辐射的背光单元。
12. 根据权利要求10所述的系统，其中，四分之一波长延迟器包括延迟器膜，并且其中，所述线性偏振器包括背靠所述延迟器膜的线性偏振器膜。
13. 根据权利要求IO所述的系统，进一步包括光学分析器，被配置为，除非入射辐射具有需要的偏振，否则阻止入射在其上的辐射，所述光学分析器位于系统内，遮蔽所述图像捕获设备以阻止其接收没有所述需要的偏振的辐射，从而，所述光学分析器阻止通过所述压板进入所述系统并且本来会入射到所述图像捕获设备上的没有需要的偏振的环境光。
14. 根据权利要求IO所述的系统，其中，所述四分之一波长延迟器位于与所述光源关 联的反射器上。
15. 根据权利要求IO所述的系统，其中，所述偏振器位于所述四分之一波长延迟器和 所述压板之间。
16. —种被配置为捕获主体的摩擦嵴图案的图像的指纹成像系统，所述系统包括 被配置为啮合主体的摩擦嵴图案的压板；被配置为以电子方式捕获与所述压板啮合的摩擦嵴图案的图像的图像捕获设备；以及 辐射发射模块，被配置为向所述压板提供辐射，以便由所述辐射发射模块所提供的辐 射的至少一部分在摩擦嵴图案和压板之间的啮合处或附近被所述压板反射，并形成将被所 述图像捕获设备捕获的所述摩擦嵴图案的图像，所述辐射发射模块包括 被配置为发射导向所述压板的辐射的光源；以及 被配置为通过全内反射将辐射从光源引导到所述压板的TIR镜。
17. 根据权利要求16所述的系统，进一步包括构成所述压板和所述TIR镜的棱镜。
18. 根据权利要求16所述的系统，其中，所述光源包括被配置为向所述压板发射辐射 的背光单元。
19. 根据权利要求16所述的系统，进一步包括光学分析器，被配置为，除非入射辐射具 有需要的偏振，否则阻止入射在其上的辐射，所述光学分析器位于系统内，遮蔽所述图像捕 获设备以阻止其接收没有所述需要的偏振的辐射，从而，所述光学分析器阻止通过所述压 板进入所述系统并且本来会入射到所述图像捕获设备上的没有需要的偏振的环境光。
全文摘要
被配置为捕获主体的摩擦嵴图案(例如，指纹、掌纹、手印、脚印等等)的图像的指纹成像系统。该系统可以包括减小环境光对系统的性能的影响的一个或多个组件。在某些实现方式中，不需要额外的能源(例如，为产生更大的辐射量)，不包括被设计为在环境光进入系统之前阻止环境光的“外部”遮光板和/或罩，系统就可以减小环境光的影响。相反，系统可以通过沿着用于以电子方式捕获摩擦嵴图案的图像的辐射的光路内部地阻止系统内的环境光，减小环境光对性能的影响。
文档编号G06K9/00GK101765402SQ200880018548
公开日2010年6月30日 申请日期2008年4月9日 优先权日2007年4月9日
发明者L·李, R·K·芬里奇 申请人:鉴定国际公司