一种偏光感应组件及触控显示设备的制作方法
【专利摘要】为克服现有技术中触摸屏厚度大、生产良率低的问题，本实用新型提供了一种偏光感应组件，包括偏光片以及位于偏光片表面的导电层，所述导电层图案为单端出线的单层多点导电图案或双感应图案。同时，本实用新型还公开了采用上述偏光感应组件的触控显示设备。本实用新型提供的上述偏光感应组件厚度小，利于降低采用上述偏光感应组件的触控显示设备的整体厚度。同时，根据本实用新型提供的方法制备上述偏光感应组件时的良率高。
【专利说明】一种偏光感应组件及触控显示设备
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种偏光感应组件，以及采用该偏光感应组件的触摸屏。
【背景技术】
[0002]触摸屏是一种可接收触摸的输入信号的感应式装置。触摸屏赋予了信息交互崭新的面貌，是极富吸引力的全新信息交互设备。触摸屏技术的发展引起了国内外信息传媒界的普遍关注，已成为光电行业异军突起的朝阳高新技术产业。
[0003]传统的显示/触控模组结构为LCM(液晶显示模组)+TP (触摸屏)的组合。随着手机、平板电脑等便携电子产品向轻薄化的趋势发展，传统的显示/触控模组结构显得臃肿、厚重。并且，传统的显示/触控模组在生产过程中需对保护玻璃、触摸屏、显示屏进行两次贴合。过多的贴合制作程序大大降低了产品的良品率。
[0004]并且，传统的on-cell触控显示屏中，通常采用OGS的diamond图案，如图1和图2所示，导电层包括相互交错的横轴2和列轴I。列轴I为串联的diamond，横轴2为通过绝缘跳线连接的diamond,或反之。在横轴2和列轴I的相交处通过制作绝缘层3实现横轴2和列轴I的绝缘。在上述结构的导电层的制作工艺复杂，且良率低。
实用新型内容
[0005]本实用新型所要解决的技术问题是针对现有技术中触摸屏厚度大、生产良率低的问题，提供一种偏光感应组件。
[0006]本实用新型解决上述技术问题所采用的技术方案如下:
[0007]提供一种偏光感应组件，包括偏光片以及位于偏光片表面的导电层，所述导电层图案为单端出线的单层多点导电图案。
[0008]本实用新型提供的偏光感应组件将作为触控感应部件的具有单端出线的单层多点导电图案的导电层直接设置于偏光片上，以偏光片作为导电层的载体一方面可降低厚度，同时可减少制作触控显示设备时的贴合次数，利于提高良率。
[0009]进一步的，所述导电层为氧化铟锡膜、纳米银膜、碳纳米管膜中的一种。
[0010]进一步的，所述导电层的厚度为10-50nm。
[0011]进一步的，所述导电层中，导电线路的宽度为30-400 μ m。
[0012]进一步的，所述偏光感应组件还包括柔性线路板，所述柔性线路板固定电连接至所述导电层。
[0013]进一步的，所述偏光感应组件还包括导电热熔胶层；所述柔性线路板通过所述导电热熔胶层与所述导电层固定电连接。
[0014]进一步的，所述偏光片厚度为50-300 μ m。
[0015]另外，本实用新型还提供了一种触控显示设备，包括上述的偏光感应组件和液晶显示模组；所述偏光感应组件设置于所述液晶显示模组表面。
【专利附图】
【附图说明】
[0016]图1是现有的on-cell触控显示屏中的导电层图案；
[0017]图2是图1中A处局部放大图；
[0018]图3是本实用新型优选实施方式提供的偏光感应组件中，导电层的单端出线的单层多点导电图案不意图；
[0019]图4是本实用新型优选实施方式提供的触控显示设备的结构示意图。
[0020]说明书附图中的附图标记如下:
[0021]1、列轴；2、横轴；3、绝缘层；4、驱动通道；5、接收通道；6、地线；7、按键；81、上偏光片；82、导电层；83、导电热熔胶层；84、柔性线路板；85、光学胶层；86、公共电极玻璃；87、液晶模块；88、TFT电极；89、下偏光片。
【具体实施方式】
[0022]为了使本实用新型所解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
[0023]本实用新型提供的偏光感应组件包括偏光片以及位于偏光片表面的导电层，所述导电层图案为单端出线的单层多点导电图案。
[0024]如本领域技术人员所知晓的，偏光片是液晶显示设备的重要组成部分，用于将不具有偏极性的自然光转化为偏极光，使与电场呈垂直方向的光线通过，让液晶显示面板能正常显不影像。
[0025]本实用新型中，上述偏光片可采用现有技术中常用的各种偏光片。本实用新型中对偏光片没有限制，优选情况下，所采用的偏光片的厚度为50-300 μ m。
[0026]在上述偏光片表面还具有导电层，用于实现触控的感应。具体的，上述导电层直接设置于偏光片表面。通过将导电层直接设置于偏光片表面，可大大降低厚度，利于实现器件的薄型化。
[0027]根据本实用新型，重要的是，上述导电层的图案为单端出线的单层多点导电图案或双感应图案。单端出线的单层多点导电图案或双感应图案均为现有的导电层图案，例如，参见图3，单端出线的单层多点导电图案具体包括驱动通道4和接收通道5。驱动通道4和接收通道5相互分离，不产生交错。同时，驱动通道4和接收通道5均各自弯曲形成具有多个平行齿部的梳状，并且驱动通道4的多个齿部位于接收通道5的多个齿部之间，并间隔设置。另外，地线6设置于导电图案整体的侧边缘。按键7沿导电图案整体的侧边缘延伸至导电图案的一端。
[0028]如本领域技术人员所知晓的，参见图3，单端出线的单层多点导电图案内，不存在导电线路的相交，从而无需在不同线路的相交处制作绝缘层，简化了制作工艺。
[0029]上述导电层可为常规的各种方法制备而成的导电线路，例如，本实用新型中上述导电层可以为氧化铟锡膜、纳米银膜、碳纳米管膜中的一种。
[0030]同时，对于上述导电层的厚度和导电线路的宽度，本领域技术人员可根据实际情况进行调整，例如，优选情况下，所述导电层的厚度可以为10-50nm。导电线路的宽度可以为30-400 μ mD
[0031]如本领域上技术人员所公知的，触控线路需经柔性线路板(FPC)连接，所以，本实用新型中，所述偏光感应组件还包括柔性线路板，所述柔性线路板固定电连接至所述导电层。
[0032]本实用新型还提供了上述偏光感应组件的制备方法，其特征在于，包括:
[0033]S1、常温下,在偏光片表面形成导电膜；
[0034]S2、30_50°C下,在导电膜表面形成光敏胶层；
[0035]S3、米用波长为365_385nm的紫外光经光罩对光敏胶层进行曝光处理,将光敏胶层的部分区域固化，形成固化区和非固化区，所述固化区图案为单端出线的单层多点导电线路图案或双感应图案；所述曝光处理的能量为20-50mj/cm2，曝光处理时间为10_30s ；
[0036]S4、采用浓度为0.05-0.15%的碳酸钠溶液对曝光处理后的光敏胶层进行处理，将光敏胶层的非固化区去除，露出所述非固化区下方的导电膜；
[0037]S5、采用浓度为5-7mol/L的混合酸液对所述非固化区下方的导电膜进行处理，将所述非固化区下方的导电膜去除；
[0038]S6、采用浓度为0.2-0.5mol/L的氢氧化钠溶液对所述光敏胶层的固化区进行处理，将光敏胶层的固化区去除，形成导电层，所述导电层图案为单端出线的单层多点导电图案或双感应图案。
[0039]根据本实用新型，首先，如步骤SI，在偏光片表面形成导电膜，使导电膜覆盖偏光片表面。由于偏光片是液晶显示组件实现显示功能的重要部件，偏光片的劣化和变形会直接影响显示效果。而通常，偏光片耐热性能较差。常规的制作导电膜的方法(例如高温镀ITO透明导电层)以及过桥连接时制备绝缘层(固化)均需在较高温度下进行，极易导致偏光片的劣化和变形。
[0040]本实用新型中，制备上述导电膜时，需在常温下制作。具体的，上述常温下制作导电膜的方法可以采用现有的各种方法，例如，可以为常温镀氧化铟锡、涂布纳米银浆并常温固化、涂布碳纳米管浆料并常温固化。上述各种制作导电膜的具体工艺步骤本身可采用现有的，本实用新型中不再赘述。通过上述各种方法可在偏光片表面形成导电膜，上述形成的导电膜的材质具体可以为氧化铟锡膜、纳米银膜、碳纳米管膜中的一种。
[0041]根据本实用新型，为保证最终形成的导电层的稳定，同时避免制作过程对偏光片的损伤，优选情况下，在偏光片表面制备得到的导电层的厚度为10-50nm。
[0042]为降低最终形成的导电层的电阻，优选情况下，通过上述方法在偏光片表面形成的导电膜的方阻为5-150欧。
[0043]根据本实用新型，制备得到上述导电膜后，如步骤S2所述，需在30-50°C下，在导电膜表面形成光敏胶层。上述形成光敏胶层的方法为现有的，例如，可在导电膜表面涂覆一层光敏胶即可。
[0044]然后，如步骤S3，采用波长为365_385nm的紫外光经光罩对光敏胶层进行曝光处理，将光敏胶层的部分区域固化，形成固化区和非固化区，所述固化区图案为单端出线的单层多点导电线路图案或双感应图案。
[0045]具体的，上述所述曝光处理的能量为20-50mj/cm2，曝光处理时间为10_30s。
[0046]通过紫外光固化处理，被光罩遮挡的部分的光敏胶未能固化，形成非固化区，未被光罩遮挡的光敏胶被固化，形成固化区。固化区的图案与最终需得到的导电层图案相同，具体为单端出线的单层多点导电线路图案或双感应图案。
[0047]当需要对最终得到的导电线路的宽度进行调整时，可根据需要，对光罩进行调整。优选情况下，采用的光罩需使制备得到的导电线路的宽度为30-400 μ m。
[0048]如步骤S4所述，采用浓度为0.05-0.15%的碳酸钠溶液对曝光处理后的光敏胶层进行处理，将光敏胶层的非固化区去除，露出所述非固化区下方的导电膜。
[0049]通过上述处理，导电膜表面的光敏胶层中未被固化的非固化区被清洗除去。
[0050]然后，如步骤S5，采用浓度为5_7mol/L的混合酸液对所述非固化区下方的导电膜进行处理，将所述非固化区下方的导电膜去除。
[0051]此时，偏光片表面形成导电层，导电层的图案为单端出线的单层多点导电线路图案或双感应图案。但导电层表面仍覆盖有上述固化后的光敏胶层。
[0052]如步骤S6所述的，采用浓度为0.2-0.5mol/L的氢氧化钠溶液对所述光敏胶层的固化区进行处理，将光敏胶层的固化区去除，形成导电层，所述导电层图案为单端出线的单层多点导电图案或双感应图案。
[0053]制备上述导电层后，本领域技术人员可将柔性线路板固定电连接至该导电层。具体方法可采用现有的，例如通过导电热熔胶将柔性线路板绑定至导电层。
[0054]通过上述方法即可得到本实用新型提供的偏光感应组件。通过上述方法，通过制备具有单端出线的单层多点导电图案或双感应图案的导电层，无需制作绝缘层进行过桥连接，可简化制备工艺，同时可避免进行过桥连接时对偏光片的损伤；另一方面，上述方法均在常温下进行，不会对偏光片产生损伤，利于保证良率。最后，通过上述方法可有效的将触控线路与偏光片结合，简化工艺的同时，可降低原料成本，提高生产良率。
[0055]并且，在经过长时间使用后，绝缘层易被氧化而老化，或者在较为恶劣环境(下雨，高温等)的长时间侵蚀下，绝缘性能下降而出现绝缘不足导致的触控功能不良。
[0056]本实用新型可有效避免因绝缘层而导致的各种不良情形，大大提高了触控显示设备的品质。
[0057]另外，本实用新型还提供了一种触控显示设备，包括上述结构的偏光感应组件和液晶显示模组；所述偏光感应组件设置于所述液晶显示模组表面。
[0058]具体的,如图4所示,该液晶显示模组包括偏光感应组件和液晶显示模组。
[0059]其中，偏光感应组件包括上偏光片81，上偏光片81下表面通过本实用新型提供的方法形成有导电层82。导电层82图案为单端出线的单层多点导电图案。
[0060]导电层82通过导电热熔胶层与柔性线路板84固定连接。
[0061]光学胶层85覆盖上偏光片81下表面，将导电层82、导电热熔胶层83和柔性线路板84与导电热熔胶层83的连接部密封。
[0062]根据本实用新型，液晶显示模组为现有结构，从上到下依次包括公共电极玻璃86、液晶模块87、TFT电极88以及下偏光片89。
[0063]偏光感应组件设置于液晶显不模组上，光学胶层85位于公共电极玻璃86上表面。
[0064]以下通过实施例对本实用新型进行进一步的说明。
[0065]实施例1
[0066]本实施例用于说明本实用新型公开的偏光感应组件及其制备方法。
[0067]在20-25°C下，在偏光片表面低温镀ΙΤ0，形成10_15nm厚、方阻为150欧的ITO导电膜。
[0068]在30°C下，在导电膜表面涂覆光敏胶，形成光敏胶层。
[0069]米用波长为365_385nm的紫外光经光罩对光敏胶层进行曝光处理,将光敏胶层的部分区域固化，形成固化区和非固化区，所述固化区图案为单端出线的单层多点导电线路图案；所述曝光处理的能量为20mj/cm2，曝光处理时间为30s。
[0070]采用浓度为0.05%的碳酸钠溶液对曝光处理后的光敏胶层进行处理，将光敏胶层的非固化区去除，露出所述非固化区下方的导电膜。
[0071]采用浓度为5mol/L的混合酸液对所述非固化区下方的导电膜进行处理，将所述非固化区下方的导电膜去除。
[0072]采用浓度为0.2mol/L的氢氧化钠溶液对所述光敏胶层的固化区进行处理，将光敏胶层的固化区去除，形成单端出线的单层多点导电层。
[0073]上述导电层中，导电线路的宽度为100-250 μ m。
[0074]上述制备得到的偏光感应组件中，偏光片未出现劣化和变形。对上述偏光感应组件进行功能检测，检测合格。
[0075]实施例2
[0076]本实施例用于说明本实用新型公开的偏光感应组件及其制备方法。
[0077]在20_25°C下，在偏光片表面涂覆纳米银并固化，形成20_30nm厚、方阻为80欧的ITO导电膜。
[0078]在50°C下，在导电膜表面涂覆光敏胶，形成光敏胶层。
[0079]米用波长为365_385nm的紫外光经光罩对光敏胶层进行曝光处理,将光敏胶层的部分区域固化，形成固化区和非固化区，所述固化区图案为单端出线的单层多点导电线路图案；所述曝光处理的能量为50mj/cm2，曝光处理时间为10s。
[0080]采用浓度为0.15%的碳酸钠溶液对曝光处理后的光敏胶层进行处理，将光敏胶层的非固化区去除，露出所述非固化区下方的导电膜。
[0081]采用浓度为7mol/L的混合酸液对所述非固化区下方的导电膜进行处理，将所述非固化区下方的导电膜去除。
[0082]采用浓度为0.5mol/L的氢氧化钠溶液对所述光敏胶层的固化区进行处理，将光敏胶层的固化区去除，形成单端出线的单层多点导电层。
[0083]上述导电层中，导电线路的宽度为50-100 μ m。
[0084]上述制备得到的偏光感应组件中，偏光片未出现劣化和变形。对上述偏光感应组件进行功能检测，检测合格。
[0085]实施例3
[0086]本实施例用于说明本实用新型公开的偏光感应组件及其制备方法。
[0087]在20_25°C下，在偏光片表面涂覆奈米碳管并固化，形成15_25nm厚、方阻为100欧的ITO导电膜。
[0088]在40°C下，在导电膜表面涂覆光敏胶，形成光敏胶层。
[0089]米用波长为365_385nm的紫外光经光罩对光敏胶层进行曝光处理,将光敏胶层的部分区域固化，形成固化区和非固化区，所述固化区图案为单端出线的单层多点导电线路图案；所述曝光处理的能量为30mj/cm2，曝光处理时间为20s。
[0090]采用浓度为0.1 %的碳酸钠溶液对曝光处理后的光敏胶层进行处理，将光敏胶层的非固化区去除，露出所述非固化区下方的导电膜。
[0091]采用浓度为6mol/L的混合酸液对所述非固化区下方的导电膜进行处理，将所述非固化区下方的导电膜去除。
[0092]采用浓度为0.3mol/L的氢氧化钠溶液对所述光敏胶层的固化区进行处理，将光敏胶层的固化区去除，形成单端出线的单层多点导电层。
[0093]上述导电层中，导电线路的宽度为100-300 μ m。
[0094]上述制备得到的偏光感应组件中，偏光片未出现劣化和变形。对上述偏光感应组件进行功能检测，检测合格。
[0095]以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【权利要求】
1.一种偏光感应组件,其特征在于，包括偏光片以及位于偏光片表面的导电层，所述导电层图案为单端出线的单层多点导电图案或双感应图案。
2.根据权利要求1所述的偏光感应组件，其特征在于，所述导电层为氧化铟锡膜、纳米银膜、碳纳米管膜中的一种。
3.根据权利要求1或2所述的偏光感应组件，其特征在于，所述导电层的厚度为10_50nm。
4.根据权利要求3所述的偏光感应组件，其特征在于，所述导电层中，导电线路的宽度为 30-400 μ m。
5.根据权利要求1或2所述的偏光感应组件，其特征在于，所述偏光感应组件还包括柔性线路板，所述柔性线路板固定电连接至所述导电层。
6.根据权利要求5所述的偏光感应组件，其特征在于，所述偏光感应组件还包括导电热熔胶层；所述柔性线路板通过所述导电热熔胶层与所述导电层固定电连接。
7.根据权利要求1或2所述的偏光感应组件，其特征在于，所述偏光片厚度为50-300 μm。
8.一种触控显不设备,其特征在于,包括权利要求1-7中任意一项的偏光感应组件和液晶显示模组；所述偏光感应组件设置于所述液晶显示模组表面。
【文档编号】G06F3/041GK204044778SQ201420373659
【公开日】2014年12月24日 申请日期:2014年7月8日 优先权日:2014年7月8日
【发明者】温文超, 谢仰彬, 梁家和 申请人:深圳市骏达光电股份有限公司