本发明涉及图像数据处理,具体涉及一种晶圆对准控制方法及系统。
背景技术:
1、半导体元件用于各种电子应用,例如个人计算机、手机、数字相机和其他电子设备。半导体元件通常通过在半导体机板上方依序地沉积绝缘层或介电层、导电层和半导体材料层,并使用光刻对各种材料层进行图案化以在其上形成电路部件和元件来制造。
2、而现有技术中存在机器视觉对准不良导致对晶圆对准位置的控制不佳,使得最终晶圆对准位置不准确的技术问题。
技术实现思路
1、本申请提供了一种晶圆对准控制方法及系统,用于针对解决现有技术中存在机器视觉对准不良导致对晶圆对准位置的控制不佳,使得最终晶圆对准位置不准确的技术问题。
2、鉴于上述问题,本申请提供了一种晶圆对准控制方法及系统。
3、第一方面,本申请提供了一种晶圆对准控制方法,所述方法包括:通过机器视觉对待对准目标晶圆进行视频采集,获得待对准晶圆视频;对所述待对准晶圆视频进行关键帧分析,获取n个图像关键帧,其中,n为大于1的正整数;基于所述n个图像关键帧进行特征提取,确定待对准晶圆特征信息;根据所述待对准晶圆特征信息,确定m个晶圆对准位置信息,其中m为大于等于2的正整数;基于历史晶圆对准位置信息,遍历所述m个晶圆对准位置信息,获得偏离位置信息;根据所述偏离位置信息,将所述m个晶圆对准位置信息进行数据清洗对所述目标晶圆的对准位置进行控制。
4、第二方面,本申请提供了一种晶圆对准控制系统,所述系统包括:视频采集模块,所述视频采集模块用于通过机器视觉对待对准目标晶圆进行视频采集,获得待对准晶圆视频;关键帧分析模块,所述关键帧分析模块用于对所述待对准晶圆视频进行关键帧分析,获取n个图像关键帧,其中,n为大于1的正整数;特征提取模块,所述特征提取模块用于基于所述n个图像关键帧进行特征提取,确定待对准晶圆特征信息;位置确定模块,所述位置确定模块用于根据所述待对准晶圆特征信息,确定m个晶圆对准位置信息,其中m为大于等于2的正整数;遍历模块,所述遍历模块用于基于历史晶圆对准位置信息,遍历所述m个晶圆对准位置信息,获得偏离位置信息;控制模块,所述控制模块用于根据所述偏离位置信息,将所述m个晶圆对准位置信息进行数据清洗对所述目标晶圆的对准位置进行控制。
5、本申请中提供的一个或多个技术方案,至少具有如下技术效果或优点:
6、本申请提供的一种晶圆对准控制方法及系统,涉及图像数据处理技术领域,解决了现有技术中存在机器视觉对准不良导致对晶圆对准位置的控制不佳,使得最终晶圆对准位置不准确的技术问题,实现了在晶圆对准位置的合理化精准控制,进而提高晶圆对准位置的准确率。
1.一种晶圆对准控制方法,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,获取所述n个图像关键帧,包括:
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,确定所述待对准晶圆特征信息,包括:
4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,确定所述晶圆对准位置信息,包括:
5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,根据所述偏离位置信息,对所述m个晶圆对准位置信息进行数据清洗,包括:
6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括:
7.一种晶圆对准控制系统,其特征在于,包括: