一种半导体发光二极管的表面缺陷检测方法及系统与流程

文档序号:35489899发布日期:2023-09-17 00:51阅读:23来源:国知局
一种半导体发光二极管的表面缺陷检测方法及系统与流程

本申请涉及表面缺陷检测,特别是涉及一种半导体发光二极管的表面缺陷检测方法及系统。


背景技术:

1、半导体发光二极管是新型发光体,效率高、体积小、寿命长、电压低,节能、环保,是应用广泛的照明器件,被广泛应用于指示灯、信号灯、仪表显示、车载光源等场合,因此为保证二极管应用质量,需对其表面缺陷检测进行严格把控。然而,现有技术存在表面缺陷检测精确性低,且检测处理效率较低的技术问题。


技术实现思路

1、基于此,有必要针对上述技术问题,提供一种能够保证表面缺陷检测全面性和精确性,同时提高缺陷检测识别处理效率的一种半导体发光二极管的表面缺陷检测方法及系统。

2、一种半导体发光二极管的表面缺陷检测方法,所述方法包括:通过视觉检测模块多角度采集获取半导体发光二极管的表面检测图像信息集合;对所述表面检测图像信息集合进行图像预处理,获得标准表面检测图像信息集合;构建注意力机制约束模块,通过所述注意力机制约束模块对所述标准表面检测图像信息集合进行处理,获得表面检测前景特征图像集合;基于所述表面检测前景特征图像集合分别进行语义分割,并根据语义分割结果获得表面结构分布检测因素;对所述表面检测前景特征图像集合进行边缘轮廓识别,获得表面检测图像轮廓识别结果;按照所述表面检测图像轮廓识别结果与所述语义分割结果进行匹配,根据匹配结果生成表面瑕疵检测因素;基于所述表面结构分布检测因素和所述表面瑕疵检测因素,确定二极管表面缺陷检测结果。

3、一种半导体发光二极管的表面缺陷检测系统,所述系统包括:视觉检测模块,用于通过视觉检测模块多角度采集获取半导体发光二极管的表面检测图像信息集合;图像预处理模块,用于对所述表面检测图像信息集合进行图像预处理,获得标准表面检测图像信息集合;前景特征图像获得模块,用于构建注意力机制约束模块,通过所述注意力机制约束模块对所述标准表面检测图像信息集合进行处理,获得表面检测前景特征图像集合;语义分割模块,用于基于所述表面检测前景特征图像集合分别进行语义分割,并根据语义分割结果获得表面结构分布检测因素;边缘轮廓识别模块,用于对所述表面检测前景特征图像集合进行边缘轮廓识别,获得表面检测图像轮廓识别结果;表面瑕疵检测模块,用于按照所述表面检测图像轮廓识别结果与所述语义分割结果进行匹配,根据匹配结果生成表面瑕疵检测因素;表面缺陷检测结果获得模块,用于基于所述表面结构分布检测因素和所述表面瑕疵检测因素,确定二极管表面缺陷检测结果。

4、上述一种半导体发光二极管的表面缺陷检测方法及系统,解决了现有技术表面缺陷检测精确性低,且检测处理效率较低的技术问题,达到了通过对检测图像进行多步分割识别处理,保证表面缺陷检测全面性和精确性,同时提高缺陷检测识别处理效率的技术效果。

5、上述说明仅是本申请技术方案的概述,为了能够更清楚了解本申请的技术手段,而可依照说明书的内容予以实施,并且为了让本申请的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂,以下特举本申请的具体实施方式。



技术特征:

1.一种半导体发光二极管的表面缺陷检测方法,其特征在于,所述方法包括:

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述获得标准表面检测图像信息集合,包括:

3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,所述获得标准表面检测图像信息集合,包括:

4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述构建注意力机制约束模块,包括:

5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述获得表面检测图像轮廓识别结果,包括:

6.如权利要求5所述的方法,其特征在于,所述获得表面检测边缘优化图像,包括:

7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述确定二极管表面缺陷检测结果,包括:

8.一种半导体发光二极管的表面缺陷检测系统,其特征在于,所述系统包括:


技术总结
本申请涉及表面缺陷检测技术领域,提供一种半导体发光二极管的表面缺陷检测方法及系统。所述方法包括:对表面检测图像信息集合进行图像预处理,并通过注意力机制约束模块对预处理后的标准表面检测图像信息集合进行处理,获得表面检测前景特征图像集合,进一步对其进行语义分割,并根据语义分割结果获得表面结构分布检测因素;对表面检测前景特征图像集合进行边缘轮廓识别,按照表面检测图像轮廓识别结果与语义分割结果进行匹配,根据匹配结果生成表面瑕疵检测因素;基于表面结构分布检测因素和表面瑕疵检测因素,确定二极管表面缺陷检测结果。采用本方法能够达到保证表面缺陷检测全面性和精确性,同时提高缺陷检测识别处理效率的技术效果。

技术研发人员:朱礼贵,陈维伟
受保护的技术使用者:日照鲁光电子科技有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/15
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