自适应临摹控制预警方法及系统与流程

本发明涉及临摹控制预警，具体涉及一种自适应临摹控制预警方法及系统。

背景技术：

1、随着新技术的应用，临摹越来越智能化，可以利用屏幕进行临摹。然而，屏幕的控制参数是根据普遍数据进行设定的，而每个人的使用习惯不同，因此，需要一种根据使用情况进行自适应临摹控制，并对临摹控制参数进行预警的方法。目前，临摹控制预警主要通过对临摹完成的结果进行检测，从而根据检测结果进行预警，需要的时间较长。现有技术中临摹控制反馈周期长，控制预警准确度低的技术问题。

技术实现思路

1、本申请提供了一种自适应临摹控制预警方法及系统，用于针对解决现有技术中临摹控制反馈周期长，控制预警准确度低的技术问题。

2、鉴于上述问题，本申请提供了一种自适应临摹控制预警方法及系统。

3、本申请的第一个方面，提供了一种自适应临摹控制预警方法，其中，应用于临摹控制预警系统，所述临摹控制预警系统与压力传感装置、图像采集装置通信连接，所述方法包括：

4、获取目标屏幕在预设时间窗口内的临摹任务，并对临摹任务进行特征采集，获得n个临摹特征；

5、将n个临摹特征输入临摹控制数据库中进行状态匹配，获得目标临摹控制方案；

6、通过压力传感装置对目标屏幕在预设时间窗口内受到的压力进行采集，获得压力数据集，其中，所述压力数据集包括压力大小数据集和压力持续时间集合；

7、通过图像采集装置对目标屏幕在预设时间窗口内临摹轨迹进行图像采集，获得临摹图像集；

8、将所述临摹图像集输入临摹特征提取模型中，获得实时临摹特征，其中，实时临摹特征包括实时临摹节奏特征和实时临摹字形特征；

9、根据所述压力大小数据集、压力持续时间集合、实时临摹节奏特征和实时临摹字形特征，生成待分析临摹特征集；

10、将所述待分析临摹特征集、目标临摹控制方案输入临摹状态评估模型中获得临摹状态评估结果；

11、根据所述临摹状态评估结果生成异常预警信息，对目标屏幕进行控制预警。

12、本申请的第二个方面，提供了一种自适应临摹控制预警系统，所述系统包括：

13、特征采集模块，所述特征采集模块用于获取目标屏幕在预设时间窗口内的临摹任务，并对临摹任务进行特征采集，获得n个临摹特征；

14、控制方案获得模块，所述控制方案获得模块用于将n个临摹特征输入临摹控制数据库中进行状态匹配，获得目标临摹控制方案；

15、压力数据集获得模块，所述压力数据集获得模块用于通过压力传感装置对目标屏幕在预设时间窗口内受到的压力进行采集，获得压力数据集，其中，所述压力数据集包括压力大小数据集和压力持续时间集合；

16、临摹图像集获得模块，所述临摹图像集获得模块用于通过图像采集装置对目标屏幕在预设时间窗口内临摹轨迹进行图像采集，获得临摹图像集；

17、实时临摹特征获得模块，所述实时临摹特征获得模块用于将所述临摹图像集输入临摹特征提取模型中，获得实时临摹特征，其中，实时临摹特征包括实时临摹节奏特征和实时临摹字形特征；

18、待分析临摹特征集生成模块，所述待分析临摹特征集生成模块用于根据所述压力大小数据集、压力持续时间集合、实时临摹节奏特征和实时临摹字形特征，生成待分析临摹特征集；

19、状态评估结果获得模块，所述状态评估结果获得模块用于将所述待分析临摹特征集、目标临摹控制方案输入临摹状态评估模型中获得临摹状态评估结果；

20、控制预警模块，所述控制预警模块用于根据所述临摹状态评估结果生成异常预警信息，对目标屏幕进行控制预警。

21、本申请中提供的一个或多个技术方案，至少具有如下技术效果或优点：

22、本申请通过获取目标屏幕在预设时间窗口内的临摹任务，并对临摹任务进行特征采集，获得n个临摹特征，然后将n个临摹特征输入临摹控制数据库中进行状态匹配，获得目标临摹控制方案，进而通过压力传感装置对目标屏幕在预设时间窗口内受到的压力进行采集，获得压力数据集，其中，压力数据集包括压力大小数据集和压力持续时间集合，然后通过图像采集装置对目标屏幕在预设时间窗口内临摹轨迹进行图像采集，获得临摹图像集，通过将临摹图像集输入临摹特征提取模型中，获得实时临摹特征，其中，实时临摹特征包括实时临摹节奏特征和实时临摹字形特征，然后根据压力大小数据集、压力持续时间集合、实时临摹节奏特征和实时临摹字形特征，生成待分析临摹特征集将待分析临摹特征集、目标临摹控制方案输入临摹状态评估模型中获得临摹状态评估结果，进而根据临摹状态评估结果生成异常预警信息，对目标屏幕进行控制预警。达到了提升临摹控制的自适应程度，提高预警质量的技术效果。

技术特征：

1.一种自适应临摹控制预警方法，其特征在于，应用于临摹控制预警系统，所述临摹控制预警系统与压力传感装置、图像采集装置通信连接，所述方法包括：

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，包括：

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，包括：

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述获得第二划分结果之后，包括：

5.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述遍历所述多个样本临摹任务与第一内部节点中的第一样本临摹任务进行相似度匹配，包括：

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，包括：

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，包括：

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述获得综合偏离度之后，包括：

9.一种自适应临摹控制预警系统，其特征在于，所述系统包括：

技术总结
本发明公开了一种自适应临摹控制预警方法及系统，涉及临摹控制预警技术领域，该方法包括：获取目标屏幕在预设时间窗口内的临摹任务；将N个临摹特征输入临摹控制数据库中进行状态匹配，获得目标临摹控制方案；获得压力数据集和临摹图像集；将临摹图像集输入临摹特征提取模型中，获得实时临摹特征；根据压力大小数据集、压力持续时间集合、实时临摹节奏特征和实时临摹字形特征，生成待分析临摹特征集，输入临摹状态评估模型中获得临摹状态评估结果，生成异常预警信息，对目标屏幕进行控制预警。本发明解决了现有技术中临摹控制反馈周期长，控制预警准确度低的技术问题，达到了提升临摹控制的自适应程度，提高预警质量的技术效果。

技术研发人员：金佳玮,阳柳,姜杰
受保护的技术使用者：东莞市尺度电子科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15