贴图处理方法、装置、存储介质与电子设备与流程

本公开涉及计算机，尤其涉及一种贴图处理方法、贴图处理装置、计算机可读存储介质与电子设备。

背景技术：

1、光照贴图uv通常用于游戏开发、虚拟现实、建筑可视化等场景，在渲染时能够将光照信息应用于模型表面，从而生成逼真的光照和阴影效果。在模型制作过程中，采用光照贴图uv可增强场景的真实感和美观度。

2、相关技术中，通常在模型烘焙结束后，通过人力检查烘焙出来的模型在呈现效果上所存在的质量缺陷，例如黑斑，进而对模型出现质量缺陷的位置进行修复，并通过再次烘焙，验证模型出现质量缺陷的位置修复情况。但是在该过程中，检测人员经验不足时，可能会导致缺陷误判，且反复烘焙会产生较高的时间成本。

3、需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

技术实现思路

1、本公开提供了一种贴图处理方法、贴图处理装置、计算机可读存储介质与电子设备，进而至少在一定程度上克服相关技术中模型制作过程中人力和时间成本较高的问题。

2、本公开的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然，或部分地通过本公开的实践而习得。

3、根据本公开的第一方面，提供一种贴图处理方法，所述方法包括：获取目标虚拟模型的第一光照贴图uv，所述第一光照贴图uv是通过将光照信息存储到uv通道中生成的uv信息；响应于检测到所述第一光照贴图uv存在缺陷，生成缺陷检测信息，获取基于所述缺陷检测信息对所述第一光照贴图uv进行调整后的第二光照贴图uv；根据所述第二光照贴图uv，对所述目标虚拟模型进行光照烘焙。

4、根据本公开的第二方面，提供一种贴图处理装置，所述装置包括：第一获取模块，用于获取目标虚拟模型的第一光照贴图uv，所述第一光照贴图uv是通过将光照信息存储到uv通道中生成的uv信息；第二获取模块，用于响应于检测到所述第一光照贴图uv存在缺陷，生成缺陷检测信息，获取基于所述缺陷检测信息对所述第一光照贴图uv进行调整后的第二光照贴图uv；烘焙模块，用于根据所述第二光照贴图uv，对所述目标虚拟模型进行光照烘焙。

5、根据本公开的第三方面，提供一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现上述贴图处理方法及其可能的实现方式。

6、根据本公开的第四方面，提供一种电子设备，包括：一个或多个处理器；存储装置，用于存储一个或多个程序，当所述一个或多个程序被所述一个或多个处理器执行时，使得所述一个或多个处理器实现上述贴图处理方法及其可能的实现方式。

7、本公开的技术方案具有以下有益效果：

8、上述贴图处理过程中，获取目标虚拟模型的第一光照贴图uv，第一光照贴图uv是通过将光照信息存储到uv通道中生成的uv信息；响应于检测到第一光照贴图uv存在缺陷，生成缺陷检测信息，获取基于缺陷检测信息对第一光照贴图uv进行调整后的第二光照贴图uv；根据第二光照贴图uv，对目标虚拟模型进行光照烘焙。本公开预先对模型的光照贴图uv进行缺陷检测，并利用针对所检测到的缺陷进行调整后的光照贴图uv进行烘焙，不仅能够避免由于光照贴图uv所存在的潜在缺陷影响最终烘焙出来的模型的呈现效果，提升了烘焙出来的模型质量，减少了模型反复烘焙情况的发生，还可以避免针对所烘焙出来的模型进行人力检测所导致的误检，减轻了人力检测的负担和难度，在一定程度上节省了人力和时间成本。

9、应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。

技术特征：

1.一种贴图处理方法，其特征在于，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述确定所述第一光照贴图uv的重叠率，包括：

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述对各所述子模型展开面进行重叠检测，得到各所述子模型展开面对应的重叠检测结果，包括：

6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述基于各所述子模型展开面对应的重叠检测结果，确定所述第一光照贴图uv的重叠率，包括：

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述第二光照贴图uv，对所述目标虚拟模型进行光照烘焙，包括：

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

10.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

11.一种贴图处理装置，其特征在于，所述装置包括：

12.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1至10任一项所述的方法。

13.一种电子设备，其特征在于，包括：

技术总结
本公开提供一种贴图处理方法、装置、存储介质与电子设备，涉及计算机技术领域。其中，贴图处理方法，包括：获取目标虚拟模型的第一光照贴图UV，第一光照贴图UV是通过将光照信息存储到UV通道中生成的UV信息；响应于检测到第一光照贴图UV存在缺陷，生成缺陷检测信息，获取基于缺陷检测信息对第一光照贴图UV进行调整后的第二光照贴图UV；根据第二光照贴图UV，对目标虚拟模型进行光照烘焙。本公开预先针对模型的光照贴图UV进行缺陷检测，并利用针对所检测到的缺陷进行调整后的光照贴图UV进行烘焙，可避免所烘焙出来的模型在呈现效果上存在缺陷需要进行人力检测和反复烘焙，在一定程度上节省了人力和时间成本。

技术研发人员：申珺喆,朱思聪,王嘉康
受保护的技术使用者：网易（杭州）网络有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/3/5