掩膜图像生成方法、模型训练方法、装置及电子设备与流程

本发明涉及图像处理，具体地，涉及一种掩膜图像生成方法、模型训练方法、掩膜图像生成装置、模型训练装置、存储介质及电子设备。

背景技术：

1、随着图像处理技术的精进，掩膜图像越来越多地应用于各种应用场景。例如，利用掩膜图像来生成训练样本，以对人工智能模型进行训练。

2、现有技术中，在模型训练时采用离线的方式确定掩膜图像，即在模型训练加载训练图像时需要本地读取存储的mask图像，而目前开源的掩膜图像数量较少且多样性差。由此，造成后续应用效果一般。例如，在上述模型训练的应用场景中，会导致模型的训练效果较差。

技术实现思路

1、考虑到上述问题而提出了本发明。

2、根据本发明一个方面，提供了一种掩膜图像生成方法。所述方法包括：随机生成掩膜图像，其中，掩膜图像中包括目标掩膜；获取目标掩膜的预设占比；对掩膜图像上的目标掩膜进行图像处理，以改变目标掩膜；根据改变后的目标掩膜在掩膜图像中的当前占比以及预设占比，对目标掩膜进行图像处理，以使目标掩膜在掩膜图像中的占比符合预设占比的要求。

3、示例性地，对掩膜图像上的目标掩膜进行图像处理，具体包括：对掩膜图像上的目标掩膜进行仿射变换；对经仿射变换的目标掩膜进行平滑处理。

4、示例性地，对掩膜图像上的目标掩膜进行仿射变换，具体包括：确定掩膜图像中的目标掩膜的外接矩形；在外接矩形的顶点中选择多个第一点；在掩膜图像中任意确定与第一点的数目相同的第二点；根据第一点和第二点，对掩膜图像上的目标掩膜进行仿射变换。

5、示例性地，随机生成掩膜图像，具体包括：随机生成掩膜图像，目标掩膜位于掩膜图像中的预设中心区域。

6、示例性地，在对经仿射变换的目标掩膜进行平滑处理之前，方法还包括：根据预设占比，确定进行平滑处理所利用的结构元素的尺寸。

7、示例性地，随机生成掩膜图像，包括：随机生成多个掩膜图像；对掩膜图像上的目标掩膜进行图像处理，具体包括：将多个掩膜图像进行合成，以生成经合成的掩膜图像，其中，在经合成的掩膜图像中的目标掩膜的像素位置是多个掩膜图像中的所有的目标掩膜的像素位置的并集。

8、示例性地，随机生成掩膜图像，具体包括：随机选择数字、字母和特殊字符中的任意一个或多个字符；基于所选择的字符，生成掩膜图像，其中，目标掩膜包括所选择的字符。

9、示例性地，基于所选择的字符，生成掩膜图像，包括：获取关于字符的字体尺寸和笔画粗度的预设信息；根据预设信息，随机生成掩膜图像，其中，目标掩膜中的字符的字体尺寸和笔画粗度与预设信息相符。

10、根据本发明又一个方面，还提供了一种模型训练方法，包括：加载背景图像，在加载背景图像时利用上述的掩膜图像生成方法生成掩膜图像；将掩膜图像与背景图像进行融合，以得到训练样本；利用训练样本对模型进行训练。

11、根据本发明又一个方面，还提供了一种掩膜图像生成装置，包括：

12、图像生成模块，用于随机生成掩膜图像，其中，掩膜图像中包括至少一个目标掩膜；

13、占比获取模块，用于获取目标掩膜的预设占比；

14、变换模块，用于对掩膜图像上的目标掩膜进行图像处理，以改变目标掩膜；

15、处理模块，用于根据改变后的目标掩膜在掩膜图像中的当前占比以及预设占比，对目标掩膜进行图像处理，以使目标掩膜在掩膜图像中的占比符合预设占比的要求。

16、根据本发明又一个方面，还提供了一种模型训练装置，包括：

17、加载模块，用于加载背景图像，在加载背景图像时利用上述的掩膜图像生成方法生成掩膜图像，并将掩膜图像与背景图像进行融合，以得到训练样本；

18、训练模块，用于利用训练样本对模型进行训练。

19、根据本发明又一个方面，还提供了一种存储介质，在存储介质上存储了程序指令，程序指令在运行时用于执行上述的掩膜图像生成方法和/或模型训练方法。

20、根据本发明再一个方面，还提供了一种电子设备，包括处理器和存储器，存储器中存储有计算机程序指令，计算机程序指令被处理器运行时用于执行上述的掩膜图像生成方法和/或模型训练方法。

21、上述技术方案中，通过对随机生成的掩膜图像进行图像变换，改变掩膜图像中的目标掩膜的形状，并且通过预设占比使得目标掩膜的形状的改变在一定的范围内。由此，不仅使得所生成的掩膜图像更加多样化，而且所生成的掩膜图像更符合需求，更能满足后续应用。

22、上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举本发明的具体实施方式。

技术特征：

1.一种掩膜图像生成方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对所述掩膜图像上的所述目标掩膜进行图像处理，具体包括：

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述对所述掩膜图像上的所述目标掩膜进行仿射变换，具体包括：

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述随机生成掩膜图像，具体包括：

5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，在所述对经所述仿射变换的目标掩膜进行平滑处理之前，所述方法还包括：

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述随机生成掩膜图像，包括：

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述随机生成掩膜图像，具体包括：

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述基于所选择的字符，生成所述掩膜图像，包括：

9.一种模型训练方法，其特征在于，包括：

10.一种掩膜图像生成装置，其特征在于，包括：

11.一种模型训练装置，其特征在于，包括：

12.一种存储介质，在所述存储介质上存储了程序指令，其特征在于，所述程序指令在运行时用于执行如权利要求1至8任一项所述的掩膜图像生成方法和/或权利要求9所述的模型训练方法。

13.一种电子设备，包括处理器和存储器，其特征在于，所述存储器中存储有计算机程序指令，所述计算机程序指令被所述处理器运行时用于执行如权利要求1至8任一项所述的掩膜图像生成方法和/或权利要求9所述的模型训练方法。

技术总结
本发明提供了一种掩膜图像生成方法、模型训练方法、装置及电子设备。该方法包括随机生成掩膜图像，其中，掩膜图像中包括目标掩膜；获取目标掩膜的预设占比；对掩膜图像上的目标掩膜进行图像处理，以改变目标掩膜；根据改变后的目标掩膜在掩膜图像中的当前占比以及预设占比，对目标掩膜进行图像处理，以使目标掩膜在掩膜图像中的占比符合预设占比的要求。本发明通过对随机生成的掩膜图像进行图像变换，改变掩膜图像中的目标掩膜的形状，并且通过预设占比使得目标掩膜的形状的改变在一定的范围内。由此，不仅使得所生成的掩膜图像更加多样化，而且所生成的掩膜图像更符合需求，更能满足后续应用。

技术研发人员：孙新,徐海俊
受保护的技术使用者：苏州镁伽科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/3/31