专利名称：：可记录型信息记录介质的制作方法
技术领域：
：本发明的一个实施方案涉及通过使用短波长激光束(如蓝色激光束)能够记录并再现信息的可记录型信息记录介质。
背景技术：
：众所周知，最近个人电脑等的普及使得数字数据存储介质的重要性不断增加。例如，能够对(例如)长时间的视频信息和音频信息进行数字记录并再现的信息记录介质目前广泛流行。此外，用于数字记录和再现的信息记录介质开始用于诸如手机之类的移动装置中。这种类型的很多信息记录介质为盘形，.这是因为盘片具有大的信息记录容量和高的随机可访问性，这使得可以快速检索所需要的记录信息。此外，由于盘片紧凑并且重量轻，可易于存放和携带，而且它们价格低廉。目前，最常用的盘状信息记录介质是所谓的光盘，能够通过应用激光束该光盘以非接触方式记录和再现信息。这些光盘主要符合紧凑光盘(CD)或数字通用光盘(DVD)的标准，并且这两个标准具有兼容性。光盘分为三种类型不能够记录信息的只读型光盘，例如CD-DA(数字音频)、CD-ROM(只读存储)、DVD-V(视频)和DVD-ROM;只能够一次写入信息的记录型光盘，例如CD-R(记录型)和DVD-R;以及能够任意次数写入信息的可重写型光盘，例如CD-RW(可重写型)禾QDVD-RW。在能够记录的光盘中，由于在记录层中使用有机染料的可记录型光盘的制造成本低，所以最为普及。之所以如此，是因为当使用者使用信息记录容量超过700MB的光盘时，很少用新的信息来重写已记录的信息，因此，实际上只须记录信息一次就足够了。随着信息量的增大，人们开始需求增大光盘的容量和传输速率。目前市售的光盘是CD、DVD等。为了满足縮短记录型光盘的记录时间的市场需求，例如CD-R的传输速率已经增至48倍速，并且例如DVD-R的传输速率已经增至16倍速。为了进一步增加光盘的容量，已经开发了被称为HDDVD的光盘。HDDVD-ROM或HDDVD-R的单面的数据容量为15GB，该容量为传统的DVD的数据容量(即4.7GB)的3倍或更高。例如日本专利申请公开特开2003-308630所描述的那样，一种有机染料材料被用于该HDDVD-R的记录层中。不幸的是，该HDDVD只能以标准速度进行记录。当将有机染料用作光盘的记录膜时，无论盘是HDDVD-R或是BD-R，都难以以4倍速或更高的速度进行高速记录。此外，对于具有单层记录膜的光盘而言，难以实现记录功率范围(recordingpowermargin)为±15%或更高以及以4倍速记录和1倍速回放时再现光耐久次数为1,000,000次或更高，也难以在80。C和85%条件下的耐久性测试(耐湿和耐热测试)中达到100小时或更高。
发明内容本发明的目的是提供一种信息记录介质，即使在高的线性速度下，该信息记录介质也能够高质量地记录和再现信息。本发明的可记录型信息记录介质包括具有同心圆形或者螺旋形的沟槽和槽岸的基片，以及记录层，所述记录层包括形成于所述基片的沟槽和槽岸上的反射层以及形成于该反射层上的有机层染料层，其中所述有机染料层含有有机染料以及具有甲朥金属络合物的淬灭剂，其中所述有机染料包括具有单次甲基菁的阳离子部分以及具有偶氮金属络合物的阴离子部分，在该有机染料层上通过施加短波激光束而形成有记录标记，并且通过施加短波激光束而形成的所述记录标记部分的光反射率高于施加所述短波激光束之前的光反射率，并且沟槽在预定的振幅范围内抖动。本发明的其它目的和优点将在下面的描述中阐明，并且有一部分从该描述中可显而易见，或者可通过实施本发明而得知。本发明的目的和优点可借助于下文中特别指出的手段及其结合来实现和获得。附图简要说明并入且构成了说明书的一部分的附图示出了本发明的实施方案，并且与上面给出的概述以及下面给出的实施方案的详述一同用来说明本发明的原理。图1为示出本发明的可记录型信息记录介质的示例的剖视并且图2为解释本发明的可记录型信息记录介质的制备步骤的示意图。—具体实施例方式本发明的可记录型信息记录介质包括具有同心圆形或者螺旋形的沟槽和槽岸的基片，以及形成于所述基片的沟槽和槽岸上的记录层，其中所述记录层包括形成于所述沟槽和槽岸上的反射层以及形成于所述反射层上的有机染料层，通过施加短波激光束在该有机染料层上形成有记录标记，通过施加所述短波激光束而形成的所述记录标记部分的光反射率高于施加所述短波激光束之前的光反射率，并且所述沟槽在预定的振幅范围内抖动。所述可记录型信息记录介质的特征在于，所述有机染料层含有有机染料以及具有甲謄金属络合物的淬灭剂，其中所述有机染料包括具有单次甲基菁的阳离子部分以及具有偶氮金属络合物的阴离子部分。在本发明的可记录型信息记录介质中，所述记录层包括有机染料层，该有机染料层含有有机染料以及具有甲臜金属络合物的淬灭齐U，其中所述有机染料包括具有单次甲基菁的阳离子部分以及具有偶氮金属络合物的阴离子部分。这使得记录功率范围为±15%或更高、7以4倍速记录和1倍速回放时再现光耐久次数为1,000,000次或更高，并且在8(TC和85%条件下的耐久性测试(耐湿和耐热测试)中达到100小时或更高。下面将参照附图对本发明进行更为详细的说明。.图1为示出本发明的可记录型信息记录介质的示例的剖视图。如图1所示，可记录型信息记录介质IO包括透明基片l，该基片1具有同心圆形或螺旋形的沟槽和槽岸，并且由(例如)聚碳酸酯制成；记录层4，该记录层4包括形成于透明基片1的沟槽和槽岸上的反射层2和形成于所述反射层2上的有机染料层3;以及形成于记录层4上的保护层5。有机染料层3含有有机染料和具有甲臜金属络合物的淬灭剂，其中所述有机染料包括具有单次甲基菁的阳离子部分以及具有偶氮金属络合物的阴离子部分。在有机染料层3上通过施加短波激光束而形成有记录标记。通过施加所述短波激光束而形成的记录标记部分的光反射率高于施加短波激光束之前的光反射率。所述沟槽在预定的振幅范围内抖动。'作为基片材料，可以使用(例如)聚碳酸酯、环烯烃聚合物、环烯烃共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚丙烯、苯乙烯基聚合物合金、玻璃、人造石英、硅、碳、或纸。作为反射层，可以使用诸如铋银之类的银合金。可以任意地在有机染料层上形成阻挡层、保护层等。作为保护层的材料，可以使用紫外线固化型树脂材料，例如环氧丙烯酸酯系材料、氨基甲酸酯丙烯酸酯系材料、或硅丙烯酸酯系材料。也可以通过将(例如)聚碳酸酯膜、环烯烃聚合物膜或聚甲基丙烯酸甲酯膜粘附到所述紫外线固化型树脂材料上而形成所述保护层。形成阻挡层以防止产生这样的问题如果由紫外线固化型树脂等制成的所述保护层直接形成在有机染料层上，那么有机染料层中的有机染料与该紫外固化型树脂相互混合。作为所述阻挡层，可以使用(例如)Si02等氧化硅、Si3N4等氮化硅、银(Ag)、AgBi等银合金、铝(Al)、或氮化铝(A1N)。作为偶氮金属络合物，可以使用钴偶氮络合物等。化学式I、VI和VIII分别示出本发明中所用的菁阳离子-钴偶氮络合物阴离子染料的阳离子部分。'化学式n、ir和m分别表示化学式i、vn和vi的取代基。化合物C-l至C-55表示阳离子部分的实际结构。化学式A-l至A-8表示阴离子部分的偶氮络合物阴离子。化学式H-l至H-7表示本发明中所用的甲腭络合物。pAnq_其中环Ai表示苯环或萘环，环AS表示五元环或六元环，并且该五元环或六元环可以与另一个环稠合或被另一个环取代。W和R2各自独立地表示氢原子、具有1个至8个碳原子的烷基、具有6个至20个碳原子的芳基、具有7个至20个碳原子的芳垸基、或由下面的化学式n、n'、或m表示的取代基。W表示具有i个至s个碳原子的垸基、具有6个至20个碳原子的芳基、具有7个至20个碳原子的芳烷基、或由下面的化学式n或n'表示的取代基；1112表示由下面的化学式n或n'表示的取代基；R^表示氢原子、羟基、卤原子、硝基、氰基、具有l个至8个碳原子的烷基、具有6个至20个碳原子的芳基、具有7个至20个碳原子的芳烷基、或者具有2个至20个碳原子的杂环基或氨基。具有1个至8个碳原子的烷基中的亚甲基可以被-O-、-S-、-C0-、-COO-、-S02-、-NH-、-CONH-、-N=CH-、一C三C-或-CH^CH-取代。Anq-表示q价阴离子，q表示l或2，并且p表示保持电荷中性的系数。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage10</formula>在上面的化学式n中，L与T之间的键为双键、共轭双键、或三键，L表示碳原子，T表示碳原子、氧原子、硫原子或氮原子；x、y和z表示0或l;s表示0至4的.数字；1113表示氢原子、卤原子或可被卤原子取代的CI至C4烷氧基；R14、R"和R"各自独立地表示氢原子、卤原子、或可被卤原子取代的C6至C12芳基，并且R"和R"可结合而形成环状结构。在上面的化学式n'中，L'与T'之间的键为双键或共轭双键，L'表示碳原子，T'表示碳原子、氧原子或氮原子；s'表示0至4的数字；含有L'和T'的环表示可含有杂原子的六元环、或表示萘环、喹啉环、异喹啉环、蒽环或蒽醌环，并且含有L'和T'的环可被卤原子、硝基、氰基、烷基或垸氧基取代。i工r其中Ra至Ri各自独立地表示氢原子、羟基、或具有1个至4个碳原子的烷基，该烷基中的亚甲基可被-O-或-CO-取代，Z表示可直接键合或可具有取代基的Cl至C8亚烷基，该亚烷基中的亚甲基可被-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-S02-、-NH-、-CONH-、-NHCO-、-N:CH-或-CI^CH-取代，并且M表示金属原子。间其中环A表示苯环或萘环；X表示碳原子、氧原子、硫原子、硒原子、-R8R9-、-NH-或-NR'-;R、R21和R22各自独立地表示氢原子、具有].个至8个碳原子的烷基、具有6个至20个碳原子的芳基、具有7个至20个碳原子的芳烷基或由下面的化学式VII表示的取代基。R3、R4、RS和W各自独立地表示氢原子、卤原子、具有1个至8个碳原子的烷基或具有6个至12个碳原子的芳基；RS和R"可结合成环；R25以及作为X中基团的RS和W各自独立地表示具有1个至8个碳原子的烷基、具有6个至20个碳原子的芳基、具有7个至20个碳原子的芳烷基或由下面的化学式VII表示的取代基，并且W和W可结合成环。R"和R^各自独立地表示氢原子、羟基、具有1个至8个碳原子的烷基、具有1个至8个碳原子的烷氧基、具有6个至30个碳原子的芳基、卤原子、硝基、氰基或由上面的化学式III表示的取代基，并且R"和R^可结合成环状结构。具有1个至8个碳原子的烷基中的亚甲基可被-0-或-CH^CH-取代。Anq—表示q价阴离子，q表示1或2，并且p表示保持电荷中性的系数。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage11</formula>(VII)其中R3、R4、RS和W与上面的化学式VI中的那些相同。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>其中环A'表示苯环或萘环；R"表示氢原子、羟基、具有l个至8个碳原子的垸基、具有1个至8个碳原子的烷氧基、具有6个至30个碳原子的芳基、具有2个至20个碳原子的杂环基团、卤原子、硝基、或氰基；n为从1至5的数；并且A1、R21、R22、R25、X、Anq—、p和q与上面的化学式VI中的那些相同。在上面的化学式VIII中，由R"表示的C2至C20杂环基团的例子为吡啶基、嘧啶基、哒嗪基(t。U夕'-》)、哌嗪基、哌啶基(匕。〃u-^)、吡喃基、吡唑基、三噻唑基(hy了^/iO、吡咯烷基、喹啉基、异喹啉基、咪唑基、苯并咪唑基、三唑基、呋喃基(7U少)、呋喃基(7，二/P)、苯并呋喃基、噻吩基、苯硫基、苯并苯硫基、噻二唑基、噻唑基、苯并噻唑基、隨唑基、苯并嗯唑基、异噻唑基、吲哚基、久洛里定基(二口y-》)、吗啉基、硫代吗啉基、2-吡咯烷酮-1-基、2-哌啶酮-l-基、2,4-二氧咪唑烷-3-基和2,4-二氧聰唑垸-3-基。由R"所表示的Cl至C8烷基和卤原子为以上对化学式I进行说明时所示例的那些基团。由R"所表示的Cl至C8烷氧基以及C6至C30芳基为以上对化学式VI进行说明时所示例的那些基团。化合物No.1<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage14</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage15</formula>化合物No.12<formula>formulaseeoriginaldocumentpage15</formula>化合物No.13<formula>formulaseeoriginaldocumentpage16</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage17</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage18</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage19</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage20</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage21</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage22</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage23</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage24</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage25</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage26</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage27</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage28</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage29</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage30</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage31</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage32</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage33</formula>下面将通过实施例来对本发明进行更为详细地阐释。实施例首先，按照如下方法制备单层的BD-R盘。图2为示出本发明的单层BD-R盘的制备步骤的示意图。通过电子束刻版技术来制备用于BD-R的Ni模子11，并通过注塑成型法从该模子复制l.lmm厚的聚碳酸酯基片1。使用符合蓝光光盘记录格式版本1.2(BD-RLTH型标准)的格式。道间距为0.32pm，基片1的沟槽宽度为0.2pm，并且基片1的沟槽深度为50nm。然后，使用ShibauraMechatronics制造的Stella溅射装置，通过在注塑成型的光盘基片1上溅射，形成反射层2(AgBi(Bi为1atm.%)合金层)。AgBi膜的厚度为lOOrnn。随后，使用OriginElectric制造的旋转涂覆机，通过旋转涂覆有机染料溶液(通过将1.4g有机染料粉末溶解于100mlTFP(四氟丙醇)中而制得)形成有机染料层3。该有机染料层3和反射层2形成了记录层4。然后，将光盘基片在洁净的烘箱内在80。C下烘焙30分钟。然后，使用ShibauraMechatronics制造的RFSputteringModel溅射装置来形成阻挡层5(Si02层)。Si02膜5的厚度为50nm。随后，使用OriginElectric制造的旋转粘结装置，通过旋转涂覆来涂布丙烯酸酯系的紫外线固化型树脂材料(AddisonClearWaveLLC制造的MTUH614厚膜型)，以形成丙烯酸酯系的紫外线固化型树脂层6'，并将伪聚碳酸酯基片7(0.6mm.厚，.无图案)粘结到丙烯酸酯系的紫外线固化型树脂层6'上。紫外线固化'型树脂层6'的厚度为100pm。之后，通过紫外线照射使所述紫外线固化型树脂固化，并使用OriginElectric制造的基片移除装置将伪聚碳酸酯基片7除去，由此获得由固化后的紫外线固化型树脂层制得的覆盖层6。由此制得单层的BD-R光盘20。通过将具有前述结构的有机染料粉末溶解于TFP中，制备多种类型的有机染料溶液，由此制备具有不同的有机染料记录膜的BD-R光盘。在混合有淬灭剂时，通过将有机染料粉末和淬灭剂粉末均溶解于TFP中，使淬灭剂粉末的混合比为有机染料粉末和淬灭剂粉末总重量的5重量％，由此制备BD-R光盘。通过使用Pulstec制造的用于评价BD-R的ODU1000,来评价所制备的BD-R光盘的记录/回放特性。1倍速的线性速度为4.92米/秒。评价项目为抖动(在通过限制均衡器之后)、反射率、信号调制程度和回放耐久性。通过改变记录功率，还对其中抖动为8%或更低的记录功率范围进行评价。在使用驱动装置进行实际的记录和回放时，记录功率范围必须为±15%或更高。根据光盘在0.3mW的回放功率下以1倍速连续进行回放时的抖动劣化来评价回放耐久性。当回放次数为1,000,000次或更高时，在使用驱动装置进行实际的回放时，抖动必须为8%或更低。下面的表1至表8示出了将H-2作为淬灭剂添加并且这些表中所示的化合物作为阳离子和阴离子添加时的评价结果。作为对比例，下面的表9至16示出了不添加淬灭剂时的评价结果。此外，下面的表17示出了当淬灭剂的添加量为2%、3%、5%、10%以及11%时，记录功率范围和再现光耐久性次数的测量结果。记录功率范围和再现光耐久性在3%至10%的范围内是良好的。即使对于除了两种类型的染料之外的染利.，3%至]0%的范围也是最好的。<table>tableseeoriginaldocumentpage36</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage37</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage38</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage39</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage40</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage41</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage42</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage43</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage44</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage45</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage46</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage47</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage48</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage49</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage50</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage51</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage52</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage53</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage54</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage55</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage56</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage57</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage58</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage59</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage60</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage61</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage62</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage63</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage64</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage65</column></row><table>表样5<table>tableseeoriginaldocumentpage66</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage67</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage68</column></row><table>表7<table>tableseeoriginaldocumentpage69</column></row><table>以上结果显示，当添加本发明的淬灭剂时，再现光耐久性次数明显变优，为1,000,000次或更高。记录功率范围亦为15%或更高。因此，使用本发明，即使在高的线性速度下，也可以进行高质量的信息记录和再现。其他的优点和修改对于所属
技术领域：
的技术人员是显而易见的。因此，在更宽的方面，本发明不局限于本文示出和描述的具体细节和代表实施方案。因此，可在不脱离以所附权利要求及其等同物定义的总发明构思的精神和范围的情况下作出各种修改。权利要求1.一种可记录型信息记录介质，其包括基片，该基片具有同心圆形或者螺旋形的沟槽和槽岸；以及记录层，所述记录层包括形成于所述基片的沟槽和槽岸上的反射层以及形成于该反射层上的有机染料层，其特征在于，所述有机染料层含有有机染料以及具有甲id="icf0001"file="A2009101386590002C1.tif"wi="4"he="4"top="65"left="126"img-content="drawing"img-format="tif"orientation="portrait"inline="yes"/>金属络合物的淬灭剂，其中所述有机染料包括具有单次甲基菁的阳离子部分以及具有偶氮金属络合物的阴离子部分，通过施加短波激光束在该有机染料层上形成记录标记，并且通过施加所述短波激光束而形成的记录标记部分的光反射率高于施加所述短波激光束之前的光反射率，并且所述沟槽在预定的振幅范围内抖动。2.根据权利要求1所述的介质，其特征在于，所述甲臜金属络合物为选自由下列化学式H-l、化学式H_2、化学式H-3、化学式H-4、化学式H-5、以及化学式H-6所组成的组中的至少一种，<formula>formulaseeoriginaldocumentpage3</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage4</formula>全文摘要一种可记录型信息记录介质，其包含有机染料层(3)，所述有机染料层(3)含有有机染料以及具有甲金属络合物的淬灭剂，其中所述有机染料包括具有单次甲基菁的阳离子部分以及具有偶氮金属络合物的阴离子部分。文档编号G11B7/24GK101620869SQ200910138659公开日2010年1月6日申请日期2009年5月12日优先权日2008年6月30日发明者中村直正,梅泽和代,森下直树,森田成二,高泽孝次申请人:株式会社东芝