磁记录介质用双轴取向叠层聚酯薄膜的制作方法

文档序号:6758834阅读:295来源:国知局
专利名称:磁记录介质用双轴取向叠层聚酯薄膜的制作方法
技术领域
本发明涉及一种磁记录介质用双轴取向叠层聚酯薄膜,更具体地,涉及一种用于作为运行耐久性及电磁转换特征优异且噪声极少的磁记录介质基础薄膜的双轴取向叠层聚酯薄膜。本发明还涉及一种干热老化性及抑制异物析出性也优异的双轴取向叠层聚酯薄膜。
背景技术
近年来,以磁记录介质的高密度化为目标,正在进行,例如,通过真空蒸镀和溅射等物理沉积法或电镀法,在非磁性支持体(基础薄膜)上形成强磁性金属薄膜的金属薄膜型磁性记录介质、及将金属粉和氧化铁粉等针状磁粉涂敷2μm以下的薄层涂膜型磁记录介质的开发应用。
作为金属薄膜型磁记录介质的例子,特开昭54-147010号公报给出了一种磁记录介质,即在非磁性支持体上所附着的第1Co薄膜磁性层上,介于非磁性材料层,形成大于第1Co薄膜磁性层厚度的第2Co薄膜磁性层的磁记录介质,而特开昭52-134706号公报给出了由Co-Cr合金构成的垂直磁记录介质。
作为薄层涂膜型磁记录介质的例子,电子通信学会技术报告MR94-78(1995-02)给出了通过极薄层涂敷型磁记录介质所产生的高密度磁记录。
以往的涂敷型磁记录介质(将磁性粉末混入有机高分子胶粘剂中,涂敷在非磁性支持体上所形成的磁记录介质)的记录密度低,记录波长也长,磁性层的厚度达2μm以上,相反,通过真空蒸镀、溅射或离子镀等薄膜形成手段所形成的强磁性金属薄膜的厚度非常薄,在0.2μm以下,而且,极薄层涂敷型的情况下,尽管设置非磁性基底层,也可以提供0.13μm厚度的薄膜,是非常薄的。
因此,对于上述高密度磁记录介质,非磁性支持体(基础薄膜)的表面状态对磁性层的表面性能带来较大影响,特别是对于金属薄膜型的磁记录介质的情况下,以至非磁性支持体的表面状态原封不动地表现为磁性层(磁记录层)表面的凹凸状态。
进一步,对于金属薄膜型磁记录介质的场合,实际使用时的重大问题在于金属薄膜面的运行性。对于将磁性粉末混入到有机高分子胶粘剂中,涂敷在基础薄膜上所形成的涂敷型磁记录介质的场合,使润滑剂分散在该胶粘剂中,可以使磁性层面的运行性提高。
但是,对于金属薄膜型磁记录介质的场合,不能采取这样的对策,稳定保持运行性非常困难,特别是存在高温高温下的运行性差等缺点。进一步,在这种情况下,还存在反复使用时输出降低较涂敷型磁记录介质大的缺点。
另一方面,从非磁性支持体(基础薄膜)的制膜、加工过程中的搬运、卷绕、开卷之类操作的观点考虑,如果薄膜表面过于平滑,薄膜与薄膜相互的滑动性恶化,产生粘连现象、卷到辊上时的形状(辊成型)恶化、制品的合格率降低,进而导致制品的制造成本上升。因此,从制造成本的观点考虑,优选非磁性支持体(基础薄膜)的表面应尽可能粗糙。
这样,非磁性支持体的表面从电磁转换特性的观点考虑时要求平滑,相反,从其操作性、薄膜成本的观点考虑,要求粗糙。
因此,为制造品质优异的高密度磁记录介质,要求同时满足上述两种规律相反的性质。
特开平5-194772号公报给出了在聚酯薄膜的一个表面上涂敷设置有由连续薄膜构成的磁性层的底涂层,该底涂层的连续薄膜表面具有(A)以平均粒径小于0.06μm的粒子为核的高度13nm以下的小凸起、(B)以平均粒径为0.06μm以上的粒子为核的高度30nm以下的大凸起和(C)只由形成底涂层的树脂引起的微小凸起,这些凸起的数量满足下述式,AN≥1.0×106(个/mm2)BN≥1.05×104(个/mm2)AN≤-3.4×102×BN+13.6×106(个/mm2)CN≤4.0×106(个/mm2)(其中,AN是小凸起数(个/mm2)、BN是大凸起数(个/mm2)、CN是微小凸起数(个/mm2))且只由形成底涂层的树脂引起的连续薄膜部分的微小表面粗糙度RaS在1.10nm以下,而且前述连续薄膜的表面粗糙度Ra为1~10nm的磁记录介质用聚酯薄膜。
特开平5-298670号公报给出了在聚酯薄膜的一个表面上涂敷设置由连续薄膜构成的磁性层的底涂层,该底涂层的连续薄膜表面上形成(A)以平均粒径小于0.06μm的粒子为核的高度13nm以下的小凸起、(B)以平均粒径为0.06μm以上的粒子为核的高度30nm以下的大凸起和(C)只由形成底涂层的树脂引起的最大长径为0.30μm以下的微小凸起,这些凸起的数量满足下述式,AN≥1.0×106(个/mm2)BN≥1.05×104(个/mm2)AN≤-3.4×102×BN+13.6×106(个/mm2)1.0×10(个/mm2)≤CN≤1.0×104(个/mm2)(其中,AN是小凸起数(个/mm2)、BN是大凸起数(个/mm2)、CN是微小凸起数(个/mm2))且只由形成前述底涂层的树脂引起的连续薄膜部分的微小表面粗糙度RaS在1.10nm以下,进一步前述连续薄膜的表面粗糙度Ra为1~10nm,而且前述连续薄膜是将薄膜在160℃空气中连续加热5分钟时薄膜表面上的聚酯低聚物微结晶的析出率可以控制在0.8%以下的磁记录介质用聚酯薄膜。
通过如上所述的聚酯薄膜,尽管在某种程度上可以实现磁性层侧面基础薄膜的平滑化,但是,为了提高运行耐久性,磁性层侧面基础薄膜中所含的粒子分散性不充分,特大凸起多,这成为噪声的起因,引起磁头的偏磨损,存在输出降低等问题。
如前所述,对于高密度磁记录介质,由于非磁性支持体(基础薄膜)的表面状态给磁性层的表面性能带来较大影响,所以也从聚酯的制造观点出发研究控制基础薄膜的表面粗大凸起的对策。
薄膜表面上形成凸起的原因之一在于聚酯制造时添加的催化剂、特别是锑化合物从聚酯中析出所致。例如,锑化合物具有聚合速度快、所得的聚酯的热稳定性、末端羧基量、软化点等诸特性优异的优点,但具有如上述的在聚酯中产生析出物的缺点。
作为聚酯的聚合催化剂,除了上述锑化合物以外,例如,特公昭47-15703号公报、特公昭47-16193号公报、特公报47-42756号公报等给出了锗化合物,特开昭48-31293号公报、特开昭52-33996号公报给出了钛化合物的使用。可是,使用锗化合物时,不生成锑化合物那样的析出物,但由于聚合反应中的副反应变大,所得聚酯的软化点低,具有成膜之际薄膜机械强度降低的缺点。而使用钛化合物的场合,聚合速度极快,尽管不生成锑化合物那样的析出物,但存在所得聚酯的热稳定性变差的缺点。
另一方面,聚酯制造时通过添加磷化合物谋求热稳定性提高是通用技术。但是,磷化合物与大部分聚合催化剂反应,使催化剂的活性降低,使析出物产生。特别是钛化合物,由于磷化合物引起的失活程度更大。
而在蒸镀录像用基础薄膜的制造时,由于要求薄膜表面的超平坦化,使得难以确保薄膜的运行性、卷绕性。因此,通常进行薄膜表面的易滑处理(涂设易滑层等),由此,很多情况下必须把制膜时的热定型温度(230~240℃)设定在高于通常的温度(205~220℃)。此时,由于薄膜破裂等原因,在热定型装置(拉幅机)内薄膜停止运行时,在高温下成为薄膜的聚酯被干热处理,以惊人的短时间进行老化,薄膜变成微细的粉末状附着在拉幅机内,在之后的制膜时成为带入的异物,产生故障。这种情况,作为催化剂如果使用锑化合物就不能发生,而使用钛化合物或锗化合物时这种情况发生,特别是使用钛化合物时这种情况显著。
关于聚酯的制造方法,特开平6-340734号公报给出了将钙化合物、镁化合物、磷化合物、钛化合物作为催化剂或稳定剂使用,通过将其含量及比率设定在特定范围,制造薄膜表面平坦性优异的聚酯。
而特开平7-48439号公报给出了将钙化合物、镁化合物、磷化合物、锑化合物作为催化剂及稳定剂使用,通过将其含量及比率设定在特定范围,制造薄膜的干热老化性及表面平坦性优异的聚酯的方法。
进一步,特开平8-188704号公报给出了将钛化合物、锗化合物、锑化合物、磷化合物作为催化剂或稳定剂使用,通过将其含量及比率设定在特定范围,可以制造薄膜的干热老化性及锑析出抑制性优异的聚酯组合物。
使用如上所述的聚酯制造方法,进一步采用所得的聚酯,如果制造涂敷设置底涂层的聚酯薄膜,可以在某种程度上实现磁性层侧面的基础薄膜的平滑化。但是,这数年来由于记录密度进一步高度化的要求,出现了以往不成问题的薄膜表面凸起成为噪声的原因等问题。
发明所要解决的课题本发明的第1目的在于,提供一种用于作为运行耐久性及电磁转换特性优异,且噪声极少的高密度磁记录介质基础薄膜的双轴取向叠层聚酯薄膜。
本发明的第2目的在于,提供一种用于作为干热老化性及抑制异物析出性优异的高密度磁记录介质基础薄膜的双轴取向叠层聚酯薄膜。
解决课题的手段通过本发明者们的研究发现,前述本发明的目的可以通过一种由聚酯树脂所形成的基层(A)及在其一个表面上所形成的涂膜层(B)所组成的叠层薄膜,该基层(A)及该涂膜层(B)具备下述必要条件(1)~(3)的磁记录介质用双轴取向叠层聚酯薄膜达到。
一种磁记录介质用双轴取向叠层聚酯薄膜,其特征在于(1)该基层(A)实质上不含有添加微粒子或含有平均粒径0.005~0.3μm的添加微粒子0.001~0.1wt%,(2)该涂膜层(B)含有胶粘剂树脂、添加微粒子及表面活性剂,其添加微粒子平均粒径为10~50nm,含有0.5~30wt%,且涂膜层(B)具有3~40nm的厚度,(3)该涂膜层(B)的表面满足下述(a)~(d)的表面特性,(a)通过用扫描型电子显微镜放大5000倍的表面照片计测,其长径为0.05μm以上大小的凸起数在80000个/mm2以下,(b)通过用扫描型电子显微镜放大35000倍的表面照片所计测的凸起数为1~40个/μm2,(c)长径为10μm以上的特大凸起数在20个/cm2以下,(d)表面中心面平均粗糙度(SRa)在5nm以下。
下面进一步详细说明本发明的双轴取向叠层聚酯薄膜。
本发明的叠层聚酯薄膜中,形成基层(A)的聚酯树脂是作为基础薄膜通常所知的芳香族聚酯树脂,具体地,是由主要的酸成分是对苯二甲酸或萘二甲酸和主要的二醇成分是乙二醇构成的具有成膜能力的线型聚酯。这种聚酯既可以是均聚酯,也可以是共聚酯。作为聚酯优选全部重复单元中至少80mol%,更优选至少90mol%是对苯二甲酸乙二醇酯单元或2,6-萘二甲酸乙二醇酯单元。
共聚酯的场合作为共聚成分,可以列举二乙二醇、丙二醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇、新戊二醇、聚乙二醇、1,4-环己烷二甲醇、对苯二甲基二醇等其它二元醇成分,己二酸、癸二酸、邻苯二甲酸、间苯二甲酸、间苯二甲酸-5-磺酸钠等其它的二元羧酸成分、对羟基乙氧基苯甲酸等羟基羧酸成分等。这些共聚成分的量优选相当于全部羧酸成分的20mol%以下,更优选10mol%以下。
进一步,也可以共聚偏苯三酸、均苯四甲酸等三官能团以上的多官能团化合物。这种场合其量是以聚合物实质上保持线状的量,例如,可以在2mol%以下进行共聚。
本发明的叠层聚酯薄膜中,形成基层(A)的聚酯树脂可以是实质上不含有添加微粒子的树脂。在此,所谓“添加微粒子”意指在聚酯树脂或其制造时有意图地添加的微粒子。而所谓“实质上不含有”意指在树脂中不含有0.001wt%以上的微粒子。因此,在聚酯树脂制造过程中,由于催化剂或稳定剂起因而产生的粒子不包括在添加微粒子的范畴内。
在形成如前述的基层(A)的聚酯树脂中,希望实质上不含有添加粒子,但根据目的可以按一定的比例含有特定大小的微粒子。在基层(A)聚酯树脂中含有添加微粒子的场合,添加微粒子的平均粒径为0.005~0.3μm,优选0.01~0.2μm,特别优选0.02~0.2μm,其含量为0.001~0.1wt%,优选0.005~0.08wt%。如果基层(A)的聚酯中含有前述微粒子时,可以改善叠层聚酯的运行耐久性。如果添加微粒子的平均粒径超过0.3μm时,电磁转换特性差,因此是不希望的。
基层(A)的聚酯树脂中所含有的微粒子,其体积形状系数(f)宜在0.1~π/6,更优选在0.4~π/6的范围。在此,按下式定义体积形状系数(f)。
f=V/R3(在此,f是体积形状系数,V是粒子的体积(μm3),R是粒子的平均粒径(μm)。)此系数(f)为π/6的形状是球(真球)。而此系数(f)为0.4~π/6的形状实质上包括从球(真球)到如卵形的椭球。如果是体积形状系数(f)不到0.1的粒子,例如薄片状粒子,就难以得到充分的运行耐久性。
进一步,微粒子粒径用下式所示的相对标准偏差优选在0.5以下,更优选在0.3以下,特别优选在0.12以下。如果此相对标准偏差大于0.5,导致成膜之际的凸起均匀性不充分,所以不优选。
本发明的叠层聚酯薄膜,是在前述基层(A)的一个表面上形成涂膜层(B)。此涂膜层(B)含有胶粘剂树脂、添加微粒子及表面活性剂,具有3~40nm,优选4~30nm的厚度。此涂膜层(B)中的添加微粒子平均直径为10~50nm,优选15~45nm,特别优选18~40nm,其含量以涂膜层(B)的固态成分(胶粘剂树脂和表面活性剂的合计含量)为基准,在0.5~30wt%,优选2~20wt%,特别优选3~15wt%的范围。
作为涂膜层(B)中的胶粘剂树脂,可以列举水性聚酯树脂、水性丙烯酸树脂及水性聚氨酯树脂,特别优选的是水性聚酯树脂。下面对水性聚酯树脂具体说明。
作为此水性聚酯树脂,优选采用例如,由酸成分为间苯二甲酸、邻苯二甲酸、1,4-环己烷二甲酸、2,6-萘二甲酸、4,4’-二苯基二甲酸、己二酸、癸二酸、十二烷二酸、丁二酸、间苯二甲酸-5-磺酸钠、对苯二甲酸-2-磺酸钾、偏苯三酸、均苯三甲酸、偏苯三酸单钾盐、对羟基苯甲酸等多价羧酸的1种以上,和由二元醇成分例如,乙二醇、二甘醇、丙二醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇、1,4-环己烷二甲醇、对苯二甲基二醇,二羟甲基丙烷、双酚A的环氧乙烷加成物等多价羟基化合物的1种以上为主构成的聚酯树脂。而在聚酯链上使丙烯酸聚合物链结合的接枝聚合物或嵌段共聚物,或2种聚合物微分子内形成特定的物理结构(IPN、芯壳)的丙烯酸改性聚酯树脂也同样可以采用。
这种水性聚酯树脂,可以自由采用在水中溶解、乳化、微分散的形式,但是优选在水中乳化、微分散的形式。而为了赋予它们亲水性,也可以在它们的分子内引入例如,磺酸盐基、羧酸盐基、聚醚单元等。
前述涂膜(B)中的添加微粒子种类只要具有前述平均粒径的就行,并没有特殊的限定,优选在为形成涂膜的涂敷液中难以沉降,比重比较低的。例如,可以列举由耐热聚合物(例如,交联有机硅树脂、交联丙烯酸树脂、交联聚苯乙烯、三聚氰氨-甲醛树脂、芳香族聚酰胺树脂、聚酰胺-酰亚胺树脂、交联聚酯、全芳香族聚酯等)构成的粒子、二氧化硅、碳酸钾等是优选的。它们中特别优选的可以列举交联有机硅树脂粒子、二氧化硅、芯壳型有机粒子(例如,芯交联聚苯乙烯、壳聚甲基丙烯酸甲酯粒子等)。
作为前述涂膜层(B)中的表面活性剂,优选非离子型表面活性剂,特别优选在烷基醇、烷基苯基醇或高级脂肪酸等上面加成(聚)环氧乙烷的物质。
这些表面活性剂,作为聚氧乙烯烷基苯基醚类化合物,可以列举日本油脂株式会社制的商品名「ノニオン NS-230」、「ノニオン NS-240」、「ノニオン HS-220」、「ノニオン HS-240」、三洋化成株式会社制的商品名「ノニポ-ル200」、「ノニポ-ル400」、「ノニポ-ル500」、「オクタポ-ル400」;作为聚环氧乙烷烷基醚类化合物,可以列举日本油脂株式会社制的商品名「ノニオン E-230」、「ノニオン K-220」、「ノニオン K-230」;作为高级脂肪酸的聚环氧乙烷酯类化合物,可以列举日本油脂株式会社制的商品名「ノニオン S-15.4」、「ノニオンS-40」等。
前述表面活性剂相当于涂膜层(B)的固态成分优选以10~50wt%,更优选以12~40wt%,特别优选以15~30wt%的量使用。
而表面活性剂的量如果小于10wt%(相当于全部固态成分)则不能抑制将可能成为噪声起因的粗大凸起的发生,相反,如果使用量超过50wt%(相当于全部固态成分),则由于发泡作用将引起条纹状涂敷缺陷的产生。
表面活性剂优选以其提高耐粘连性,所以优选根据JISK7206所测定的软化点(在使表面活性剂干固的状态下测定)在30℃以上的。但是,为形成涂膜层(B),在涂敷涂敷液之际,需要降低涂敷液的表面张力以免发生涂敷脱落,所以,可以将上述以外的表面活性剂在不超过10wt%(相当于全部固态成分)的范围内组合使用。
本发明的叠层聚酯薄膜在前述涂膜层(B)具有前述组成及厚度的同时,其表面(与基层(A)不接触的面)的特性必需满足下述(a)~(d)特性。
(a)通过用扫描型电子显微镜放大5000倍的表面照片计测,长径为0.05μm以上大小的凸起数在80000个/mm2以下,优选60000个/mm2以下。
(b)通过用扫描型电子显微镜放大35000倍的表面照片所计测的凸起数为1~40个/μm2,优选2~20个/μm2。
(c)长径为10μm以上大小的特大凸起数在20个/cm2以下,优选10个/cm2以下。
(d)表面中心面平均粗糙度(SRa)在5nm以下。
下面进一步详细说明涂膜层(B)的表面特性(a)~(d)。
在涂膜层(B)的表面特性中,(a)及(c)是受基层(A)的表面特性影响产生的特性。即,特性(a)主要是起因于基层(A)的聚酯树脂中所含添加微粒子的基层(A)表面凸起的影响,特性(c)主要是起因于基层(A)的聚酯树脂中所存在大粒子(由于催化剂和稳定剂析出所产生的粒子或由于其它原因混入的粒子)的基层(A)表面凸起的影响,通过将涂膜层(B)的表面用扫描型电子显微镜放大5000倍的表面照片计测,长径为0.05μm以上大小的凸起数在80000个/mm2以下,优选60000个/mm2以下。特别优选50000个/mm2以下。此数主要依赖于基层(A)的聚酯树脂中所含有的添加微粒子。在如前述基层(A)聚酯树脂中不含有添加微粒子的场合,前述凸起数就极小。在使基层(A)聚酯树脂中含有添加微粒子的场合,前述凸起数的下限为10000个/mm2,优选下限为20000个/mm2。如果前述凸起数超过80000个/mm2,电磁转换特性差,是所不希望的。
下面,说明涂膜层(B)的表面特性(b)。通过将涂膜层(B)的表面用扫描型电子显微镜放大35000倍的表面照片所计测的凸起数为1~40个/μm2,优选2~20个/μm2。此凸起数更优选2.5~18个/μm2,特别优选3~15个/μm2。此表面特性(b)中的凸起主要是基于涂膜层(B)所含有的添加微粒子所形成的。因此,前述凸起的数可以通过控制涂膜层(B)所含有的添加微粒子的量达到前述范围。
涂膜层(B)的表面特性(c)表示特大凸起数。这种特大凸起是长径10μm以上的凸起,此数应选取在20个/cm2以下,优选10个/cm2以下。在此特大凸起中高度100nm以上的凸起,导致噪声的可能性高,所以希望尽可能少。特大凸起中高度100nm以上的凸起,应选取在10个/cm2以下,更优选5个/cm2以下。
这种表面特性(c)中的特大凸起主要是以如前所述的基层(A)所含的各种大粒子为基础所发生的。即这种特大凸起主要是成膜时由外部混入灰尘、或聚合聚合物之际析出的催化剂残渣粒子或分散不良的添加微粒子引起的,特别是大多数情况是由于催化剂残渣粒子或分散不良的添加微粒子引起的。这种特大凸起的密度超过20个/cm2的场合,其本身成为噪声的起因,而起因于添加微粒子的分散不良时,容易导致引起磁头的偏磨损,也使电磁转换特性恶化,所以不优选。
为减少这些特大凸起的量,优选采用提高添加微粒子在聚酯树脂中的分散性的方法,例如,预先将添加微粒子的乙二醇泥浆用微细过滤器过滤,排除包含的凝集的大粒子,且在聚酯聚合时将乙二醇泥浆的投入时期最佳化的方法,将乙二醇泥浆的投入速度最佳化的方法等,或者制膜时在将熔融聚合物从挤出模具挤出之前,最好进行高精度过滤。这种高精度过滤,过滤器,特别是金属纤维烧结过滤器的平均网眼设定为添加微粒子平均粒径的50~400倍,更优选80~300倍。此平均网眼的下限优选设定为1μm。且特别优选将粒子添加方法的最佳化与高精度过滤时平均网眼最佳化相组合。
而使特大凸起的量减少的又一个手段是在聚酯制造中,基于催化剂或稳定剂,防止它们析出成为特大粒子。为此,选择使用的催化剂的种类及量,进一步控制稳定剂的比例。关于这些催化剂及稳定剂的使用,以后详细说明。
对于涂膜层(B),进一步作为表面特性(d),希望表面的中心面平均粗糙度(SRa)在5nm以下,优选在4nm以下。如果此表面粗糙度(SRa)超过5nm,将导致电磁转换特性降低,是所不希望的。
本发明的双轴取向叠层聚酯薄膜也可以在基层(A)与涂膜层(B)不接触的一侧表面上进一步层叠薄膜层(C)。这种情况下成为涂膜层(B)/基层(A)/薄膜层(C)三重结构,这种结构的叠层薄膜是本发明的优选状态。
此薄膜层(C),为使其在基层(A)的表面上层叠,既可以是通过涂敷所得的涂膜层,还可以是在基层(A)的薄膜形成时通过共挤出形成的膜。更优选后者。
薄膜层(C)含有添加微粒子。为了在说明上区别于基层(A)及涂膜层(B)中的添加微粒子,将此添加微粒子称为“添加微粒子C”。
薄膜层(C)是涂膜层时,涂膜层可以由胶粘剂树脂及添加微粒子C组成,而且也可以进一步含有表面活性剂。
作为胶粘剂树脂、添加微粒子C及表面活性剂,可以使用与对涂膜层(B)说明的同样的胶粘剂树脂、添加微粒子及表面活性剂。
作为添加微粒子C,可以使用平均粒径优选0.01~0.1μm,更优选0.02~0.08μm,特别优选0.02~0.06μm的。而添加微粒子C的量优选0.5~30wt%,更优选1~20wt%,特别优选2~10wt%的。这时,作为表面活性剂,可以单独使用或组合使用表面活性剂。因此,薄膜层(C)的组成也可以与涂膜层(B)的组成相同。
而薄膜层(C)是由含有添加微粒子C的聚酯树脂层组成的,且也可以通过与基层(A)共挤出形成。
对于薄膜层(C),希望其膜厚、添加微粒子C的平均粒径及其含量满足下述关系式。
0.001≤(d)3×c×t≤100(上述式中,d表示薄膜层(C)中的添加微粒子的平均粒径(μm),c表示其添加微粒子的含量(wt%),t表示薄膜层(C)的厚度(nm)。)薄膜层(C)是涂膜层的情况下,满足下述关系式是有利的。
0.001≤(d)3×c×t≤0.1而薄膜层(C)是与基层(A)共挤出的情况下,满足下述关系式是有利的。
0.1≤(d)3×c×t≤100这种情况,通过共挤出所形成的薄膜层(C)含有添加微粒子C。该添加微粒子C具有下述平均粒径,和具有下述含量。
添加微粒子C的平均粒径(d)优选在0.1~1μm,更优选在0.15~0.8μm,特别优选在0.2~0.7μm。而具有平均粒径(d)的添加微粒子C的含量,相对薄膜层(C)的聚酯树脂或胶粘剂树脂,优选在0.0001~1wt%,更优选在0.001~0.5wt%,特别优选在0.005~0.1wt%。
作为前述添加微粒子C,优选的是,可以列举,例如,(1)耐热性聚合物粒子(例如,由交联有机硅树脂、交联聚苯乙烯、交联丙烯酸树脂、三聚氰氨-甲醛树脂、芳香族聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺-酰亚胺树脂、交联聚酯等组成的粒子)、(2)金属氧化物(例如,三氧化二铝、二氧化钛、二氧化硅、氧化镁、氧化锌、氧化锆等)、(3)金属碳酸盐(例如,碳酸镁、碳酸钙等)、(4)金属硫酸盐(例如,硫酸钙、硫酸钡等)、(5)碳(例如,碳黑、石墨、金刚石等)及(6)粘土矿物(例如,白陶土、粘土、膨润土等)。它们中特别优选交联有机硅树脂粒子、交联聚苯乙烯粒子、三聚氰氨-甲醛树脂粒子、聚酰胺-酰亚胺树脂粒子、三氧化二铝(氧化铝)、二氧化钛、二氧化硅、氧化锆、合成碳酸钙、硫酸钡、金刚石及白陶土,尤其优选交联有机硅树脂粒子、交联聚苯乙烯粒子、氧化铝、二氧化钛、二氧化硅及碳酸钙。
进一步,不活性微粒子是由两种以上的粒子构成的场合,作为比上述添加微粒子C的平均粒径(d)小的平均粒径的第2、第3粒子,可以优选并用例如,胶体二氧化硅、具有α、γ、δ、θ等结晶形态的氧化铝等微粒子。而作为具有平均粒径(d)的添加微粒子C,在例示的粒子种类中,也可以采用平均粒径小的微细粒子。
这种微细粒子的平均粒径优选在5~400nm,更优选在10~300nm,特别优选在30~250nm的范围内,且优选比前述平均粒径(d)小50nm以上,更优选小100nm以上,特别优选小150nm以上。第2、第3粒子(微细粒子)的含量相对薄膜层(C)树脂优选在0.005~1wt%,更优选在0.01~0.7wt%,特别优选在0.05~0.5wt%。
希望薄膜层(C)具有5nm以上、优选8nm以上的厚度,希望其上限相对于叠层聚酯薄膜的全部厚度在1/2以下,优选在1/3以下,特别优选在1/4以下。
本发明中的双轴取向叠层聚酯薄膜,优选由于上述薄膜层(C)的存在,显示脱气指数(采用株式会社东洋精机制,贝氏(ベツク)平滑度试验机测定的「空气泄漏指数」)在0.1~2KPa/hr。
本发明中的双轴取向叠层聚酯薄膜,由于上述薄膜层(C)存在,且显示上述范围的脱气指数,所以不损害电磁转换特性,并可以达到薄膜的操作性及卷绕性的提高。
前述薄膜层(C)共挤出层叠情况下的脱气指数在0.1~1.3KPa/hr,优选在0.3~1KPa/hr是有利的。
对于本发明的叠层聚酯薄膜而言,在基层(A)或薄膜层(C)中作为聚酯树脂使用了聚对苯二甲酸乙二醇酯的场合,可以采用其特性粘度在0.4~0.9范围内的聚酯。此特性粘度可以从其在邻氯苯酚中的溶液在35℃的温度下测定的粘度算出。
本发明中的双轴取向叠层聚酯薄膜的整体厚度通常为2.5~20μm,优选3.0~12μm,更优选4.0~12μm。
本发明的双轴取向叠层聚酯薄膜可以根据其本身以往众所周知的或本技术领域的技术人员所积累的方法得到。其中,基层(A)和薄膜层(C)的叠层结构优选通过共挤出法制造,且涂膜层(B)的叠层优选通过涂敷法进行。
例如,如果说明作为聚酯树脂使用聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂,通过共挤出法使基层(A)和薄膜层(C)层叠的情况下,在挤出喷头内或喷头以前(一般地,前者称为多岐管方式,后者称为给油套管(フイ-ドブ口ツク)方式),将微分散含有前述添加微粒子的聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂A,和使微分散含有添加微粒子C的聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂C分别进一步高精度过滤之后,在熔融状态下层叠复合,成为前述合适厚度比的叠层结构,然后,由喷头在熔点Tm℃~(Tm+70)℃的温度下共挤出成薄膜状,之后,在40~90℃的冷却辊上骤冷固化,得到未拉伸叠层薄膜。然后,将该未拉伸薄膜用常法在单轴方向(纵方向或横方向),以(Tg-10)~(Tg+70)℃的温度(其中,Tg该聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂的玻璃化转变温度),按2.5~8.0倍的倍率,优选按3.0~7.5倍的倍率拉伸,然后与前述方向成垂直的方向,在Tg~(Tg+70)℃的温度下,按2.5~8.0倍的倍率,优选按3.0~7.5倍的倍率拉伸。进一步,根据需要也可以在纵向及/或横向再度拉伸。即可以进行2段、3段、4段或多段拉伸。总拉伸倍率以面积拉伸倍率计,通常在9倍以上,优选12~35倍,更优选15~30倍。进一步,通过将双轴取向聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜在(Tg+70)~(Tm-10)℃的温度下,例如,180~250℃下,热定型结晶化,可以赋于优异的尺寸稳定性。其中,热定型时间优选1~60秒。
在共挤出的聚酯薄膜上涂敷含有前述添加微粒子、胶粘剂树脂及表面活性剂的涂敷液,优选涂敷水性涂敷液,形成涂膜层(B)。优选涂敷在实施最终拉伸处理以前的聚酯层(A)的表面上进行,并且在涂敷后将薄膜至少在单轴方向拉伸。在此拉伸前或拉伸过程中涂膜被干燥。其中,涂敷优选在未拉伸叠层薄膜或纵向(单轴)拉伸叠层薄膜,特别是纵向(单轴)拉伸叠层薄膜上进行。作为涂敷方法没有特殊的限制,可以列举,例如,辊筒涂敷法、口模涂敷(ダイコ-ト)法等。
上述涂敷液、特别是水性涂敷液的固态成分浓度优选为0.2~8wt%,更优选为0.3~6wt%,特别优选为0.5~4wt%。且对于涂敷液(优选水性溶液),在不妨碍本发明效果的范围内,可以添加其它成分,例如,其它表面活性剂、稳定剂、分散剂、UV吸收剂、增稠剂等。
另外,在叠层聚酯薄膜的制造之际,在聚酯树脂中,根据需要还可以添加含有上述添加微粒子以外的添加剂,例如,稳定剂、着色剂、熔融聚合物的固有电阻率调整剂等。
本发明中,为了提高以磁记录介质的磁头接触、运行耐久性为首的各种机能、同时达到薄膜化,优选将叠层聚酯薄膜的杨氏模量按照纵向及横向分别设定在450kg/mm2以上及600kg/mm2以上,更优选设定在480kg/mm2以上及680kg/mm2以上。而且希望聚酯是聚对苯二甲酸乙二醇酯的情况的结晶度为30~50%。如果在此结晶度的下限以下,热收缩率增大,相反,如果在上限以上,薄膜的耐磨性恶化,导致在与辊和导销表面滑动时容易产生白粉。
下面说明适宜形成本发明的基层(A)的聚酯树脂制造的优选方法。如前所述,对于基层(A)表面的涂膜层(B)的表面特性,要求特大凸起数极少。为此,作为此特大凸起的原因之一的聚酯树脂中的催化剂或稳定剂引起的大析出粒子的形成的控制是重要的。因此,通过本发明者们的研究发现,通过选择形成基层(A)的聚酯树脂中的催化剂的种类及其量,且将稳定剂的量设定为一定的比例,可以得到特大凸起少的基层(A)。
即希望本发明的叠层聚酯薄膜中的基层(A)是以同时满足下述①~⑥式的比例含有从(a)选自碱金属化合物、碱土类金属化合物及锰化合物中的至少1种化合物、(b)磷化合物及(c)锗化合物、钛化合物及锑化合物中选择的至少1种化合物的聚酯树脂所形成的薄膜。
25≤M≤250①0.1≤(M/P)≤6.0②0≤Ti≤12.5 ③0≤Ge≤110④0≤Sb≤50 ⑤0.3<(Ti+Ge)≤110⑥(上述式中,M表示化合物(a)中的碱金属元素、碱土类金属元素及锰元素的合计元素,P表示磷元素、Ti表示钛元素、Ge表示锗元素、Sb表示锑元素各自在聚酯中的量(ppm)。)聚酯中碱金属元素、碱土类金属元素、锰元素、磷元素、钛元素、锑元素及锗元素以单独或复合化合物在此聚酯中存在。因此,必需适宜确定碱金属元素、碱土类金属元素、锰元素、磷元素、钛元素、锑元素及锗元素的含量及其比率。
作为这些元素的化合物,可以使聚酯制造时的反应催化剂活性、稳定化特性或薄膜制造时的静电粘附性提高作用奏效。例如,在碱金属化合物、碱土类金属化合物中,优选由锂、钠、钾、铷、铯、铍、镁、钙、锶、钡元素组成的氧化物、氯化物、碳酸盐、羧酸盐、醋酸盐等,特别优选锂、钠、钾、铯、镁、钙或钡的醋酸盐。
而作为锰化合物,优选氧化物、氯化物、碳酸盐、羧酸盐等,特别优选醋酸盐。
进一步,作为磷化合物,可以优选列举的有磷酸、磷酸三甲酯、磷酸三乙酯、磷酸三苯酯、酸式磷酸甲酯等磷酸酯、亚磷酸、亚磷酸三甲酯之类的亚磷酸酯、甲基膦酸、苯基膦酸、苄基膦酸及甲基膦酸甲酯、苯基膦酸乙酯、苄基膦酸苯酯等膦酸酯、三甲基磷酸酯、三乙基磷酸酯、三正丁基磷酸酯等。
作为钛化合物,可以优选列举的有,例如四丁氧基钛、偏苯三酸钛、四乙氧基钛、硫酸钛、氯化钛等。
作为锗化合物,可以优选列举的有,例如,无定型二氧化锗、六方晶型二氧化锗、氯化锗、亚磷酸锗等。
作为锑化合物,可以优选列举的有,例如,三氧化锑、五氧化锑、醋酸锑、洒石酸锑钾、氯氧化锑、三苯锑等其中,这些化合物优选可溶于乙二醇的化合物。而这些化合物既可以单独使用,也可以将2种以上并用。
聚酯中的碱金属元素、碱土类金属元素及锰元素的合计含量(M)需在25~250ppm的范围,优选50~200ppm(上述必要条件①)。如果此量小于25ppm,例如,酯交换法的聚酯制造中,酯交换反应滞后不优选,成膜之际也存在静电粘附性恶化,从而薄膜的生产率降低。相反,如果超过250ppm,产生起因于所含元素的化合物的析出粒子,在成型为薄膜之际,表面平整性恶化。
而在本发明中,聚酯中的碱金属元素、碱土类金属元素及锰元素的合计含量(M)与磷元素量(P)的比(M/P)(ppm单位比)必需在0.1~6.0的范围内,优选0.5~4.5的范围内,更优选0.5~2.0的范围内(上述必要条件②)。此比值无论是小于0.1还是大于6.0,产生起因于所含元素的化合物的析出粒子,在成型为薄膜之际,表面平整性恶化。
聚酯中作为聚合催化剂,必需含有钛化合物、锗化合物或锑化合物,钛元素的含量必需在12.5ppm以下,优选7ppm以下。如果此量大于12.5ppm,薄膜成膜时的干热老化性恶化,不优选。
锗元素的含量必需在110ppm以下,优选80ppm以下。如果此量超过110ppm,薄膜成膜时的干热老化性恶化,不优选。
而锑元素的含量必需在50ppm以下,优选25ppm以下。如果此量大于50ppm,容易导致起因于锑的黑色异物产生,特别是聚对苯二甲酸乙二醇酯的情况,随着制膜时间增加,异物增加显著,不优选(上述必要条件③~⑤)。
进一步,作为聚合催化剂,前述催化剂中的钛元素和锗元素希望合计在0.3~110ppm,优选在1~80ppm使用(上述必要条件⑥)。
在聚酯的制造中,对于碱金属化合物、碱土类金属化合物、锰化合物、磷化合物、钛化合物、锗化合物及锑化合物的添加时期及添加方法,没有特殊的限制,例如,对于碱金属化合物、碱土类金属化合物及/或锰化合物,优选在反应物的特性粘度到达0.2以前的期间添加。特别地,对于酯交换法,如果在酯交换反应开始前添加该化合物,可以作为酯交换催化剂使用,是优选的。此时,可以将反应在常压或加压下实施,特别是在加压下进行,可以缩短反应时间,是优选的。另外,添加顺序,将各化合物同时或分别添加都无妨。
而磷化合物,例如,酯交换法的场合,优选在酯化反应实质上已经终止之后添加。添加之际,一次全部或分两次以上添加都可以。
而钛化合物或锗化合物优选在磷化合物添加后经过10分钟以上至特性粘度到达0.3以前的任意时间添加均可。
进一步,锑化合物可以在特性粘度到达0.3以前的任意时间添加。
另外,磷化合物可以使钛化合物的聚合催化剂活性失活,所以,通过将磷化合物在聚合反应末期添加,也可以缩短聚合反应时间。而且,例如也可以将2种以上的聚合物用制膜时的旋转式密炼机等熔融混炼,也优选作成增多磷化合物添加量的母料聚合物,再将其与使用钛化合物的聚合物混合。
进一步,在不妨碍本发明效果的范围内,在聚酯中,也可以含有可溶的其它金属成分,例如,可以含有含Zn、Co等各元素的化合物。
如前所述,为满足必要条件①~⑥,通过将催化剂及稳定剂组合使用,可以抑制基层(A)中的特大凸起数。进一步,通过本发明者的研究发现,即使通过与前述组合不同的组合,也可以减少基层(A)中的特大凸起数。
即希望本发明的叠层聚酯薄膜中的基层(A)是以同时满足下述⑦~⑩式的比例,含有镁化合物、钙化合物及磷化合物的聚酯树脂所形成的薄膜。
25≤(Mg+Ca)≤200 ⑦0.3≤Mg/Ca≤10 ⑧0.5≤(Mg+Ca)/P≤6.0⑨0.3≤Ti≤12.5 ⑩(上述式中,Mg、Ca、Ti及P表示镁元素、钙元素、钛元素及磷元素各自在聚酯中的量(ppm)。)前述聚酯中,作为在制造时使用的钙化合物及镁化合物,优选氧化物、氯化物、碳酸盐、羧酸盐等,特别优选醋酸盐,即醋酸钙、醋酸镁。
这种钙化合物及镁化合物添加时期,在聚酯制造工序中的任一阶段都可以。
前述钙化合物及镁化合物,具有使例如,聚萘二甲酸烷基二醇酯熔融时的比电阻降低的效果,而在聚合物的制造阶段,对于采用萘二甲酸二甲酯与脂肪族二元醇的酯交换反应的场合,也可以作为酯交换反应的催化剂使用。因此,即使作为酯交换反应的催化剂使用时,也应在酯交换反应开始前添加。
如果没有使其作为催化剂机能的必要,钙化合物、镁化合物的添加时期就没有特殊限制,但在反应生成物的特性粘度到达0.2以前添加,容易将这些化合物均匀分散在聚合物中,所以,可以作为优选的方法列举。另外,作为添加顺序,将两种化合物同时添加或将时间错开添加都无妨。酯化反应可以在无催化剂下进行。
作为前述钙化合物及镁化合物的添加量,聚酯中钙元素及镁元素的合计量为25~200ppm,优选50~180ppm,特别优选70~160ppm(必要条件⑦)。于是,例如,在用酯交换法制造聚合物的场合,将可溶的镁化合物及钙化合物作为酯交换催化剂添加到此量的反应体系中。此量如果超过200ppm,由于催化剂带来的析出粒子的影响,成型为薄膜时表面平整性恶化,不优选,相反,如果小于25ppm,在通过酯交换法制造之际,不仅导致酯交换反应不充分,而且之后的聚合反应也慢,不优选。
而镁相对于钙的ppm单位比(Mg/Ca)为0.3~10,优选0.5~9,特别优选2.0~8.0(必要条件⑧)。此比值不到0.3时,由于催化剂带来的析出粒子的影响,成型为薄膜时表面平整性恶化。相反,如果超过10的情况,成为薄膜之际的诸特性恶化,不优选。
进一步,钙及镁合计量相对于磷化合物的ppm单位比为0.5~6.0,优选1.0~5.0,特别优选2.0~5.0(必要条件⑨)。此ppm的单位比值如果超过6,由于催化剂带来的析出粒子的影响,成型为薄膜时表面平整性恶化,不优选,相反,如果小于0.5,相对酯交换反应催化剂,有过量的磷化合物存在,导致聚合反应变慢,不优选。
作为使用的磷化合物,可以列举前述聚酯中所说明的同样的化合物。
磷化合物可以直到制造聚酯膜时添加。例如,在酯化反应或酯交换反应终止后,或马上就要开始聚合反应之时添加均无妨。添加之际,一次全部或分两次以上添加都可以。而且,也可以将2种以上的聚合物用制膜时的旋转式密炼机(ル-ダ-)等熔融混炼,以此种形式添加,例如作成增多磷化合物添加量的母料聚合物,再将其与含有钛化合物及不活性微粒子的聚合物混合,成为满足前述必要条件⑦~⑩的聚合物(组合物),此方法也是优选的。
作为使用的钛化合物,没有特殊的限制,可以优选列举的有,例如,四丁氧基钛、偏苯三酸钛、四乙氧基钛、硫酸钛、氯化钛等。其中尤其优选四丁氧基钛和偏苯三酸钛等。
这种钛化合物,在酯交换法中,无论是在酯交换反应开始前添加,还是在酯交换反应中、酯交换反应终止后、马上就要开始聚合反应之时添加都可以。
前述钛化合物的含量,作为钛元素在聚酯中为0.3~12.5ppm,优选1~10ppm。如果此量超过12.5ppm,导致容易产生起因于钛化合物的干热老化。另外,如果不到0.3ppm,聚合反应慢,不优选。
通过本发明,同样可以提供以前面所述的双轴取向叠层聚酯膜作为基膜的磁记录介质,即由前面所述的双轴取向聚酯膜及该叠层膜的涂膜层(B)上存在的磁性层构成的磁记录介质。
制造本发明的磁记录介质的实施方案如下。
在前述双轴取向聚酯膜的涂膜层(B)的表面上,通过真空蒸镀、阴极真空喷镀、离子镀等方法,形成由铁、钴、铬或者以它们为主成分的合金或氧化物构成的强磁性金属薄膜层,另外,在其表面,根据目的、用途、需要,依次设置如金钢石类碳(DLC)等保护层、含氟羧酸类润滑层,进一步,根据需要,采用公知的方法在薄膜层(C)侧的表面上,设置后涂层,特别是可以成为短波长区域输出、S/N、C/N等电磁转换特性优异的,噪声、误差率少的高密度记录用蒸镀型磁记录介质。这种蒸镀型磁记录介质作为模拟信号记录的Hi8、数字信号记录的数字视频盒式录像机(DVC)、数据8毫米、DDSIV用磁带介质是极其有用的。
在前述双轴取向叠层聚酯膜涂膜层(B)的表面上,再通过将铁或以铁为主的针状微细磁性粉(金属粉)均匀分散在聚氯乙烯、氯乙烯·醋酸乙烯共聚物等的胶粘剂中,涂敷至磁性层厚度为1μm以下,优选0.1~1μm,进一步根据需要,通过在薄膜层(C)侧的表面上用公知的方法,设置后涂层,可以成为在特别短波长领域的输出、S/N、C/N等电磁转换特性优异的、噪声、误差率少的高密度记录用金属涂敷型磁记录介质。另外,根据需要在基层(A)上,作为含有该金属粉的磁性层的基础层,也可以将含有微细氧化钛粒子等的非磁性层,分散涂敷在与磁性层同样的有机胶粘层中。这种金属涂敷型磁记录介质,作为模拟信号记录的8毫米视频、Hi8、β凸轮SP、W-VHS、数字信号记录的数字视频盒式录像机(DVC)、数据8毫米、DDSIV、数字β凸轮、D2、D3、SX等用的磁带介质是极其有用的。
在前述双轴取向叠层聚酯膜的涂膜层(B)的表面上,再通过将氧化铁或氧化铬等针状微细磁性粉或钡铁素体等板状微细磁性粉均匀分散在聚氯乙烯、氯乙烯·醋酸乙烯共聚物等的胶粘剂中,涂敷至磁性层厚度为1μm以下,优选0.1~1μm,进一步根据需要,在薄膜层(C)侧的表面上用公知的方法,设置后涂层,可以成为在特别短波长领域的输出、S/N、C/N等电磁转换特性优异的、噪声、误差率少的高密度记录用氧化物涂敷型磁记录介质。另外,根据需要在薄膜层(C)上,作为含有该磁性粉的磁性层的基础层,也可以将含有微细氧化钛粒子等的非磁性层,分散涂敷在与磁性层同样的有机胶粘层中。这种氧化物涂敷型磁记录介质,作为数字信号记录的数据流用QIC等高密度氧化物涂敷型磁记录介质是有用的。
上述的W-VHS是模拟的HDTV信号记录用VTR,另外,DVC作为数字的HDTV信号记录用是可以使用的,本发明的双轴取向叠层聚酯薄膜可以称为对应于这些HDTV的VTR用磁记录介质是极有用的基层薄膜。
实施例下面列举实施例进一步具体说明本发明,而本发明并不受这些实施例的限制。另外,实施例及比较例中的“份”及“%”,在无特殊限定情况下,是重量基准,本发明中的物性值及特性,分别用以下方法测定并给以定义。
特性粘度由在邻氯酚溶液中35℃下测定的值求得。
粒子的平均粒径I(平均粒径0.06μm以上)用株式会社岛津制作所制,商品名“SACP-4L型セントリフュダルパ-テイクルサイズアナライザ-(Centrifugal Particle SizeAnalyser)”测定。从基于所得的离心沉降曲线计算的各粒径的粒子和其存在量的积分曲线,读取相当于50质量百分数的粒径“等值球直径”,将此值作为上述平均粒径(参照单行本“粒度测定技术”日刊工业新闻社发行,1975年、242~247页)。
粒子的平均粒径II(平均粒径低于0.06μm)形成小突起的平均粒径低于0.06μm的粒子,用光散射方法测定。即通过ニコンプインストゥルメント株式会社(Nicomp InstrumentsInc.)制的商品名“NICOMP MODEL 270SUBMICRON PARTICLE SIZER”所求的处于全部粒子的50wt%的粒子的“等值球直径”表示。
聚酯树脂层(A)、涂膜层(B)、薄膜层(C)的厚度及整体厚度薄膜整体厚度是通过测微仪随机测定10点,采用其平均值。层A、C的厚度是通过以下方法测定薄侧的厚度,而厚侧的层厚度可由整体厚度减去涂膜层及薄侧厚度求出。即使用二维离子质量分析仪(SIMS),将从除去被覆层的表层到深度5000nm范围的薄膜中的粒子内,起因于最高浓度的粒子的金属元素(M+)和聚酯的碳元素(C+)的浓度比(M+/C+)作为粒子浓度,进行从表面到深度5000nm厚度方向的分析。在表层,称其为表面的界面粒子浓度低,离表面越远,粒子浓度越升高。本发明的场合,分为两种情况,一种是粒子浓度一旦到达稳定值1之后,继续上升至稳定值2的情况,另一种是单调减少的情况。以此分布曲线为根据,前者的情况,具有赋予(稳定值1+稳定值2)/2的粒子浓度的深度,而后者的情况,具有粒子浓度至稳定值1的1/2的深度(此深度较赋予稳定值1的深度还深),从而作为该层的层厚度。
测定条件如下。
①、测定装置二维离子质量分析仪(SIMS)パ-キン·エルマ-株式会社(PERKIN ELMER INC.)制、“6300”②、测定条件一次离子种02+一次离子加速电压12KV一次离子电流200nA光栅区域400μm□分析区域栅区30%
测定真空度6.0×10-9TorrE-GUNN0.5KV-3.0A另外,从表层到5000nm范围最多含有的粒子是硅树脂以外的有机高分子粒子的情况,由于用SIMS难以测定,所以一边从表面腐蚀,一边用FT-IR(傅里叶转换式红外分光法)、或根据粒子用XPS(X射线光电分光法)等测定与上述同样的浓度分布曲线,求出层厚度。
以上是对共挤出层场合有效的测定方法,涂敷层的场合,将薄膜的一小片用环氧树脂固化,用切薄片机作成约60nm厚度的超薄切片(在平行于薄膜流延方向切断),用透射型电子显微镜(日立制作所制H-800型)观察此试样,通过层的边界面求出层厚度。
涂膜层B表面由扫描型电子显微镜(用5000倍测定)测定的凸起密度薄膜表面的凸起密度的测定是通过扫描型电子显微镜进行的。即,以倍率5000倍随机地拍摄25张双轴取向叠层聚酯膜涂膜层(B)的表面照片,对长径0.05μm以上的凸起频度计数,由其平均值换算为每1mm2的凸起数,作为凸起密度。
涂膜层B表面由扫描型电子显微镜(用35000倍测定)测定的凸起密度薄膜表面的凸起密度的测定通过扫描型电子显微镜进行。即,以倍率35000倍随机地拍摄25张双轴取向叠层聚酯膜涂膜层(B)的表面照片,对表面凸起频度计数,由其平均值换算为每1μm2的凸起数,作为凸起密度。
中心平均粗糙度SRa用WYKO株式会社制的非接触三维粗糙度计,商品名“TOPO-3D”,在测定倍率40倍、测定面积242μm×239μm(0.058mm2)的条件下进行测定,得到表面粗糙度轮廓(原始数据)。根据同粗糙度计内贮软件的表面分析,SRa采用通过以下公式计算所输出的值。SRa=Σk=1MΣj=1N|Zjk-Z|/(M·N)]]>在此,Z-=Σk=1MΣj=1N|Zjk|/(M·N)]]>M=256N=256而Zjk是将测定方向(242μm)和与其垂直的方向(239μm)分别分割为M、N份时各方向的第j号、第k号的位置上的三维粗糙度图片上的高度。
特大凸起数(长径10μm以上的凸起)将蒸镀铝0.5μm厚度的涂膜层(B)的表面采用株式会社ニコン(NIKON CORP.)制光学显微镜、商品名“OPTIPHOT”,通过微分干涉法在倍率200倍下观察1cm×5cm范围,对长径10μm以上的大小的凸起计数,换算为每1cm2的个数,作为特大凸起数。
特大凸起数(高度100nm以上的凸起)对于前述长径10μm以上大小的特大凸起,采用WYKO株式会社制的非接触三维粗糙度计,商品名“TOPO-3D”,在测定倍率40倍、测定面积242μm×239μm(0.058mm2)的条件下进行测定,得到表面粗糙度轮廓(原始数据)。根据同粗糙度计内贮软件表面的分析,以基线的最高高度值作为凸起高度,将高度100nm以上的凸起计数,换算为每1cm2的个数,作为特大凸起数。
杨式弹性模量采用东洋ボ-ルドウイン株式会社的拉伸试验机、商品名“テンシ口ン”,在调节至温度20℃、湿度50%的室内,以10%/分钟的应变速度拉伸长度300mm、幅宽12.7mm的试样薄膜,采用拉伸应力-应变曲线的初始的直线部分,通过下式计算。
E=Δσ/Δε在此,E是杨式模量(N/mm2)、Δσ是直线上2点间根据原料的平均断面积的应力差,Δε是相同2点间应变差。
漏气性采用株式会社东洋制机制、贝氏(ベツク)平滑度试验机,首先将薄膜40枚重叠,然后除去试样台最上部的1枚,在剩下的39枚上开一个直径Φ5mm的孔,固定在试样台上。此时孔的中心部位与试样台的中心相同。在此状态下,加上0.5kg/cm2的负荷,设定真空度达到550mmHg(KPa)。到达550mmHg(KPa)后,为要返回常压,空气流入薄膜与薄膜间。这时,在1小时内每30秒测定下降的真空度(mmHg)(KPa),将相对于测定时间(hr)的真空度近似为直线时的直线倾斜度(=mmHg/hr)(=KPa/hr)作为空气泄漏指数G。
薄膜的干热老化性将薄膜在固定框上均匀张开,将薄膜放入预先余热的热风干燥机内处理3分钟。(处理条件设定为温度=240℃、在氛围气=空气中)处理后,取出薄膜,用手感评价老化。◎薄膜几乎不老化,即用手使劲拉也不破坏。
△保持薄膜形状,但用手使劲拉破坏。
×薄膜成微粉状,显著老化。
聚酯中金属定性定量分析将试样用丙酮蒸馏2次以上洗净干燥后,取0.200g。然后用特级试剂硫酸、硝酸等湿态分解,加入离子交换蒸馏水20ml,作成试样液。将此试样液使用高频率等离子体发光分光分析装置(ジャ-レルアツシヱ制,Atomu Comp Siries 800)测定,进行金属定性定量分析。
磁带的制造及其特性评价在双轴取向叠层薄膜的涂膜层(B)的表面上,通过真空蒸镀法,形成钴100%的强磁性薄膜,使其为0.2μm厚度(每层厚度约0.1μm),在其表面上依次设置如金钢石类的碳(DLC)膜、以及含氟羧酸类润滑层,进一步,在热塑性树脂C侧的表面上用公知的方法,设置后涂层。然后切成8mm幅宽,装载成市售的8mm视频盒。然后用以下的市售机器测定带子的特性。
使用机器8mm视频带录像机索尼株式会社制商品名“EDV-6000”C/N测定シバソク株式会社制、噪声仪C/N测定记录记录波长0.5μm(频率数约7.4MHz)的信号,以其再生信号的6.4MHz和7.4MHz的比为其带子的C/N,以市售8mm视频用蒸镀带子的C/N为0dB,用以下基准判定。
◎对比市售8mm带子+5dB以上。
△对比市售8mm带子+1dB以上+5dB不到。
×对比市售8mm带子+1dB不到。
噪声使用シバソク株式会社制的噪声计数仪,测定10分钟3μsec/10dB以上的噪声,换算成每1分钟的个数。用以下基准判定。
○噪声6个/分不到。
×噪声6个/分以上。
运行耐久性在前述蒸镀带子上记录4.2MHz的图像信号,在温度25℃、湿度50%RH条件下,进行每次带子的运行速度41m/分钟、退绕速度41m/分钟的运行,调查合计反复200次后的输出变动。由此输出变动按如下基准判定。
◎反复200次后的输出变动为0dB~-0.3dB。
○反复200次后的输出变动为-0.3dB~-0.6dB。
×反复200次后的输出变动-0.6dB以下。
实施例1使对苯二甲酸二甲酯100份和乙二醇70份,预先溶解于乙二醇中,使用通过网眼0.1μm的过滤器高精度过滤(以下简称“溶液过滤”)的醋酸镁4水盐乙二醇溶液(相当于醋酸镁4水盐0.045份)及醋酸钙1水盐乙二醇溶液(相当于醋酸钙1水盐0.0035份),根据常法使其酯交换反应后,添加溶液过滤的三甲基磷酸酯乙二醇溶液(相当于三甲基磷酸酯0.011份),使酯交换反应实质上终止。然后,添加进行了溶液过滤的偏苯三酸钛乙二醇溶液(相当于偏苯三酸钛0.011份),之后,继续在高温高真空下按常法进行聚合,得到特性粘度0.60的聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂A。此聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂A中的可溶性金属成分的含量用等离子体发光分光分析装置(以下简称“ICP”)测定。此值如表1所示。
进一步,使对苯二甲酸二甲酯100份和乙二醇70份,以醋酸镁四水盐0.055份及醋酸钙一水盐0.050份作为酯交换反应的催化剂使用,根据常法使其进行酯交换反应,之后添加三甲基磷酸酯0.011份,使酯交换反应实质上终止后,添加偏苯三酸钛0.011份,添加平均粒径0.5μm的球状聚硅氧烷粒子和平均粒径0.1μm的球状二氧化硅粒子,使它们在聚合物中的浓度分别为0.07wt%和0.2wt%,得到特性粘度0.60的聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂C。
将此聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂A、树脂C分别在170℃干燥3小时后,供给2台挤压机,在熔融温度280~300℃下熔融,树脂A用平均网眼10μm的钢丝过滤器,树脂C用平均网眼30μm的钢丝过滤器分别高精度过滤后,采用多歧管型共挤出模具,使树脂层(C)在树脂层(A)的单面层叠,骤冷后得到厚度89μm的未拉伸叠层薄膜。
预热所得的未拉伸薄膜,进一步,在低速·高速辊之间,在薄膜温度100℃下拉伸3.3倍,骤冷后,在纵向拉伸薄膜的层(A)侧面上,采用轻触涂敷法涂敷含有高松油脂株式会社制丙烯酸改性聚酯“IN-170-6”(软化点57℃)65份、日本油脂株式会社制“ノニオン NS-240”(软化点46℃)29份、日本油脂株式会社制“ノニオン NS-208.5”(软化点10℃以下)1份、平均粒径30nm的丙烯酸填料5份组成的水性涂敷液(全部固态成分浓度1.0wt%),接着供给拉幅机,在110℃横向拉伸4.2倍。将所得的双轴拉伸薄膜用220℃的热风热定型4秒钟,得到涂膜层(B)的厚度8nm、薄膜整体厚度6.4μm的双轴取向叠层聚酯薄膜。关于层(A)、(C)的厚度,通过2台挤出机的吐出量调整至C层为1.0μm。此薄膜的杨式模量在纵向为500kg/mm2(4900N/mm2)、横向为700kg/mm2(6860N/mm2)。
聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂A中的可溶性金属成分的含量及此双轴取向叠层薄膜的干热老化性及表面特性、用此薄膜的强磁性薄膜蒸镀带子的特性如表1所示。
实施例2与实施例1同样,使酯交换反应结束后,添加溶液过滤的偏苯三酸钛乙二醇溶液(相当于偏苯三酸钛0.011份),进一步,添加预先通过网眼0.1μm的过滤器过滤的平均粒径0.06μm的球状二氧化硅的乙二醇泥浆,使其在聚酯中的浓度为0.05wt%,接着在高温高真空下按常法进行聚合,得到特性粘度0.60的聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂A。然后与实施例1同样,得到双轴取向叠层聚酯薄膜。此薄膜的杨式模量在纵向为500kg/mm2(4900N/mm2)、横向为700kg/mm2(6860N/mm2)。
聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂A中的可溶性金属成分的含量及此双轴取向叠层薄膜的干热老化性及表面特性、用此薄膜的强磁性薄膜蒸镀带子的特性如表1所示。
实施例3①聚酯的制造方法使用对苯二甲酸二甲酯100份和乙二醇70份,作为酯交换催化剂使用溶液过滤的醋酸钙1水盐乙二醇溶液(相当于醋酸钙1水盐0.033份)及醋酸镁4水盐乙二醇溶液(相当于醋酸镁4水盐0.044份),根据常法使其酯交换反应后,添加溶液过滤的三甲基磷酸酯乙二醇溶液(相当于三甲基磷酸酯0.012份),使酯交换反应实质上终止。进一步,添加溶液过滤的四丁氧基钛乙二醇溶液(相当于四丁氧基钛0.007份),之后,继续在高温高真空下按常法进行聚合,得到特性粘度0.60的聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂。
②磷化合物母料聚酯的制造方法使用对苯二甲酸二甲酯100份和乙二醇70份,作为酯交换催化剂使用溶液过滤的醋酸锰4水盐乙二醇溶液(相当于醋酸锰4水盐0.051份)开始反应,在甲醇开始馏出20分钟后添加溶液过滤(在溶解于乙二醇之际,进行加热处理)三氧化锑乙二醇溶液(相当于三氧化锑0.024份),根据常法使其酯交换反应后,添加溶液过滤的三甲基磷酸酯乙二醇溶液(相当于三甲基磷酸酯0.135份),使酯交换反应实质上终止。进一步,添加溶液过滤的醋酸钾乙二醇溶液(相当于醋酸钾0.013份),之后,继续在高温高真空下按常法进行聚合,得到特性粘度0.60的聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂。
将在上述①、②中得到的聚合物切片以约8比2的重量比(①比②的比)混合,以此作为聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂A。
然后,供给制膜时的挤压机,在熔融温度280~300℃下熔融,将平均网眼10μm的钢丝过滤器变更为平均网眼13μm的钢丝过滤器,除此之外,与实施例1同样,得到双轴取向叠层聚酯薄膜。此薄膜的杨式模量在纵向为500kg/mm2(4900N/mm2)、横向为700kg/mm2(6860N/mm2)。
聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂A中的可溶性金属成分的含量及此双轴取向叠层薄膜的干热老化性及表面特性、用此薄膜的强磁性薄膜蒸镀带子的特性如表1所示。
实施例4将实施例3的四丁氧基钛变更为溶液过滤的二氧化锗乙二醇溶液(相当于二氧化锗0.014份),除此之外,与实施例3同样,得到双轴取向叠层聚酯薄膜。此薄膜的杨式模量在纵向为500kg/mm2(4900N/mm2)、横向为700kg/mm2(6860N/mm2)。
聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂A中的可溶性金属成分的含量及此双轴取向叠层薄膜的干热老化性及表面特性、用此薄膜的强磁性薄膜蒸镀带子的特性如表1所示。
实施例5①聚酯的制造方法使用2,6-萘二甲酸二甲酯100份和乙二醇70份,作为酯交换催化剂使用溶液过滤的醋酸钙1水盐乙二醇溶液(相当于醋酸钙1水盐0.026份)及醋酸镁4水盐乙二醇溶液(相当于醋酸镁4水盐0.035份),根据常法使其酯交换反应后,添加溶液过滤的三甲基磷酸酯乙二醇溶液(相当于三甲基磷酸酯0.010份),使酯交换反应实质上终止。进一步,添加溶液过滤的二氧化锗乙二醇溶液(相当于二氧化锗0.014份),之后,继续在高温高真空下按常法进行聚合,得到特性粘度0.60的聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯。
②磷化合物母料聚酯的制造方法使用2,6-萘二甲酸二甲酯100份和乙二醇70份,作为酯交换催化剂使用溶液过滤的醋酸锰4水盐乙二醇溶液(相当于醋酸锰4水盐0.041份)开始反应,在甲醇开始馏出20分钟后添加溶液过滤(在溶解于乙二醇之际,进行加热处理)三氧化锑乙二醇溶液(相当于三氧化锑0.019份),根据常法使其酯交换反应后,添加溶液过滤的三甲基磷酸酯乙二醇溶液(相当于三甲基磷酸酯0.108份),使酯交换反应实质上终止。接着,添加溶液过滤的醋酸钾乙二醇溶液(相当于醋酸钾0.010份),之后,继续在高温高真空下按常法进行聚合,得到特性粘度0.60的聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯。
将在上述①、②中得到的聚合物切片以约8比2的重量比(①比②的比)混合,以此作为聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯树脂A。
进一步,使用2,6-萘二甲酸二甲酯100份和乙二醇70份,以醋酸镁4水盐0.055份及醋酸钙1水盐0.050份作为酯交换反应催化剂使用,根据常法使其酯交换反应,之后添加三甲基磷酸酯0.011份,使酯交换反应实质上终止后,加入偏苯三酸钛0.011份,添加平均粒径0.5μm的球状聚硅氧烷粒子和平均粒径0.1μm的球状二氧化硅粒子,使它们在聚合物中的浓度分别为0.07wt%和0.2wt%,得到特性粘度0.60的聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯树脂C。
将此聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯树脂A、树脂C分别在170℃干燥6小时后,供给2台挤压机,在熔融温度300~310℃下熔融,树脂A用平均网眼13μm的钢丝过滤器,树脂C用平均网眼30μm的钢丝过滤器分别高精度过滤后,采用多歧管型共挤出模具,使树脂层(C)在树脂层(A)的单面上层叠,骤冷后得到厚度117μm的未拉伸叠层薄膜。
预热所得的未拉伸薄膜,进一步,在低速·高速辊之间,在薄膜温度130℃下拉伸3.8倍,骤冷后,在纵向拉伸薄膜的层(A)面侧,采用轻触涂敷法涂敷含有高松油脂株式会社制丙烯酸改性聚酯“IN-170-6”(软化点57℃)65份、日本油脂株式会社制“ノニオン NS-240”(软化点46℃)29份、日本油脂株式会社制“ノニオン NS-208.5”(软化点10℃以下)1份、平均粒径30nm的丙烯酸填料5份组成的水性涂敷液(全部固态成分浓度1.0wt%),接着供给拉幅机,在150℃横向拉伸4.8倍。将所得的双轴拉伸薄膜用200℃的热风热定型4秒钟,得到涂膜层(B)的厚度8nm、薄膜整体厚度6.4μm的双轴取向叠层聚酯薄膜。关于层(A)、(C)的厚度,通过2台挤出机的吐出量调整至C层为1.0μm。此薄膜的杨式模量在纵向为5000N/mm2、横向为9000N/mm2。
此聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯树脂A中的可溶性金属成分的含量及此双轴取向叠层薄膜的干热老化性及表面特性、用此薄膜的强磁性薄膜蒸镀带子的特性如表1所示。
实施例6一直到作成聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂A的操作都与实施例1同样进行,将此树脂A在170℃干燥3小时后,供给挤压机,在熔融温度280~300℃下熔融,用平均网眼10μm的钢丝过滤器高精度过滤后,采用狭缝状挤出模,骤冷后得到厚度89μm的未拉伸薄膜。
预热所得的未拉伸薄膜,进一步,在低速·高速辊之间,在薄膜温度100℃下拉伸3.3倍,骤冷后,为在纵向拉伸薄膜的单面上形成涂膜层(B),采用轻触涂敷法涂敷含有高松油脂株式会社制丙烯酸改性聚酯“IN-170-6”(软化点57℃)65份、日本油脂株式会社制“ノニオン NS-240”(软化点46℃)29份、日本油脂株式会社制“ノニオン NS-208.5”(软化点10℃以下)1份、平均粒径30nm的丙烯酸填料5份组成的水性涂敷液(全部固态成分浓度1.0wt%),为在薄膜的反面形成薄膜层(C),采用轻触涂敷法涂敷含有高松油脂株式会社制丙烯酸改性聚酯“IN-170-6”(软化点57℃)63份、日本油脂株式会社制“ノニオン NS-240”(软化点46℃)26份、日本油脂株式会社制“ノニオン NS-208.5”(软化点10℃以下)1份、平均粒径60nm的丙烯酸填料10份组成的水性涂敷液(全部固态成分浓度1.7wt%),接着供给拉幅机,在110℃横向拉伸4.2倍。将所得的双轴拉伸薄膜用220℃的热风热定型4秒钟,得到涂膜层(B)的厚度8nm、薄膜层(C)(用涂膜形成)15nm、薄膜整体厚度6.4μm的双轴取向叠层聚酯薄膜。此薄膜的杨式模量在纵向为500kg/mm2(4900N/mm2)、横向为700kg/mm2(6860N/mm2)。
聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂A中的可溶性金属成分的含量及此双轴取向叠层薄膜的干热老化性及表面特性、用此薄膜的强磁性薄膜蒸镀带子的特性如表1所示。
比较例1在作成聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂A之际,将作为酯交换反应催化剂使用的醋酸镁4水盐变更为0.065份,醋酸钙1水盐变更为0.060份,除此之外,与实施例1同样,得到双轴取向薄膜。此薄膜的杨式模量在纵向为500kg/mm2(4900N/mm2)、横向为700kg/mm2(6860N/mm2)。
聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂A中的可溶性金属成分的含量及此双轴取向叠层薄膜的干热老化性及表面特性、用此薄膜的强磁性薄膜蒸镀带子的特性如表1所示。
比较例2在作成聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂A之际,将平均网眼10μm的钢丝过滤器变更为平均网眼20μm的钢丝过滤器,除此之外,与实施例1同样,得到双轴取向层叠聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜。此薄膜的杨式模量在纵向为500kg/mm2(4900N/mm2)、横向为700kg/mm2(6860N/mm2)。
聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂A中的可溶性金属成分的含量及此双轴取向叠层薄膜的干热老化性及表面特性、用此薄膜的强磁性薄膜蒸镀带子的特性如表1所示。
比较例3作为聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂A,含有添加预先通过网眼0.5μm的过滤器过滤的平均粒径0.26μm的球状二氧化硅的乙二醇泥浆,使其在聚合物中的浓度为0.1wt%,除此之外,与实施例2同样,得到双轴取向层叠聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜。此薄膜的杨式模量在纵向为500kg/mm2(4900N/mm2)、横向为700kg/mm2(6860N/mm2)。
聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂A中的可溶性金属成分的含量及此双轴取向叠层薄膜的干热老化性及表面特性、用此薄膜的强磁性薄膜蒸镀带子的特性如表1所示。
比较例4在作成聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂A之际,将作为聚合催化剂使用的偏苯三酸钛变更为0.026份,除此之外,与实施例1同样,得到双轴取向薄膜。此薄膜的杨式模量在纵向为500kg/mm2(4900N/mm2)、横向为700kg/mm2(6860N/mm2)。
聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂A中的可溶性金属成分的含量及此双轴取向叠层薄膜的干热老化性及表面特性如表1所示。另外由于此薄膜用于热老化性评价老化大,所以中止之后的强磁性薄膜蒸镀带子的特性评价。
比较例5在作成聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂A之际,将作为聚合催化剂使用的偏苯三酸钛变更为三氧化锑乙二醇溶液(相当于三氧化锑0.012份),除此之外,与实施例1同样,得到双轴取向薄膜。此薄膜的杨式模量在纵向为500kg/mm2(4900N/mm2)、横向为700kg/mm2(6860N/mm2)。
聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂A中的可溶性金属成分的含量及此双轴取向叠层薄膜的干热老化性及表面特性、用此薄膜的强磁性薄膜蒸镀带子的特性如表1所示。
表1
表1(继续)
表1(继续)
表1(继续)
如表1所知,实施例的双轴取向聚酯薄膜显示优异的电磁转换特性的同时,成为噪声起因的特大凸起少,故也是优异的。相反,作为比较的薄膜不能同时满足这些特性。
权利要求
1.一种磁记录介质用双轴取向叠层聚酯薄膜,它是由聚酯树脂所形成的基层(A)及在其一个表面上所形成的涂膜层(B)所构成的叠层薄膜,其特征在于,(1)该基层(A)实质上不含有添加微粒子或含有平均粒径为0.005~0.3μm的添加粒子0.001~0.1wt%,(2)该涂膜层(B)含有胶粘剂树脂、添加微粒子及表面活性剂,其添加微粒子平均粒径为10~50nm,含有0.5~30wt%,且涂膜层(B)具有3~40nm的厚度,(3)该涂膜层(B)的表面满足下述表面特性(a)~(d),(a)通过使用扫描型电子显微镜放大5000倍的表面照片计测,长径为0.05μm以上大小的凸起数在80000个/mm2以下,(b)通过使用扫描型电子显微镜放大35000倍的表面照片所计测的凸起数为1~40个/μm2,(c)长径为10μm以上的特大凸起数在20个/cm2以下,并且(d)表面中心面平均粗糙度(SRa)在5nm以下。
2.按权利要求1所述的双轴取向叠层聚酯薄膜,其中,该涂膜层(B)表面的长径为10μm以上的特大凸起数为20个/cm2以下,且其凸起的高度为100nm以上的特大凸起数为10个/cm2以下。
3.按权利要求1所述的双轴取向叠层聚酯薄膜,其中,该涂膜层(B)的表面,通过使用扫描型电子显微镜放大5000倍的表面照片计测,长径为0.05μm以上大小的凸起数为60000个/mm2以下。
4.按权利要求1所述的双轴取向叠层聚酯薄膜,其中,该涂膜层(B)的表面,通过使用扫描型电子显微镜放大35000倍的表面照片计测的凸起数为2~20个/μm2。
5.按权利要求1所述的双轴取向叠层聚酯薄膜,其中,该聚酯树脂是聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂或聚萘二甲酸乙二醇酯树脂。
6.按权利要求1所述的双轴取向叠层聚酯薄膜,其中,该基层(A)以同时满足下述①~⑥式的比例含有从(a)从碱金属化合物、碱土类金属化合物及锰化合物中选择的至少1种化合物、(b)磷化合物及(c)锗化合物、钛化合物及锑化合物中选择的至少1种化合物,25≤M≤250 ①0.1≤(M/P)≤6.0 ②0≤Ti≤12.5 ③0≤Ge≤110 ④0≤Sb≤50⑤0.3<(Ti+Ge)≤110 ⑥(上述式中,M表示来自化合物(a)中的碱金属元素、碱土类金属元素及锰元素的合计元素、P表示磷元素、Ti表示钛元素、Ge表示锗元素、Sb表示锑元素各自在聚酯中的量(ppm))。
7.按权利要求1所述的双轴取向叠层聚酯薄膜,其中,该基层(A)以同时满足下述⑦~⑩式的比例含有镁化合物、钙化合物、钛化合物及磷化合物,25≤(Mg+Ca)≤200 ⑦0.3≤Mg/Ca≤10 ⑧0.5≤(Mg+Ca)/P≤6.0 ⑨0.3≤Ti≤12.5 ⑩(上述式中,Mg、Ca、Ti及P表示镁元素、钙元素、钛元素及磷元素各自在聚酯中的量(ppm))。
8.按权利要求1所述的双轴取向叠层聚酯薄膜,其中,在基层(A)与涂膜层(B)不接触侧的表面上进一步还叠层薄膜层(C)。
9.按权利要求8所述的双轴取向叠层聚酯薄膜,其中,该薄膜层(C)是由胶粘剂树脂、添加微粒子及表面活性剂所构成的。
10.按权利要求8所述的双轴取向叠层聚酯薄膜,其中,该薄膜层(C)是由聚酯树脂及添加微粒子所构成的。
11.按权利要求8所述的双轴取向叠层聚酯薄膜,其中,该薄膜层(C)是通过与该基层(A)共挤出所层叠的。
12.按权利要求8所述的双轴取向叠层聚酯薄膜,其中,该薄膜层(C)其膜厚、添加微粒子C的平均粒径及其含量满足下述关系式,0.001≤(d)3×c×t≤100(上述式中,d表示薄膜层(C)中的添加微粒子的平均粒径(μm,c表示其添加微粒子的含量(wt%),t表示薄膜层(C)的厚度(nm))。
13.按权利要求8所述的双轴取向叠层聚酯薄膜,其中,该薄膜层(C)具有5nm以上、叠层聚酯薄膜的全部厚度的1/2以下的厚度。
14.按权利要求8所述的双轴取向叠层聚酯薄膜,其中,空气泄漏指数是0.1~2KPa/hr。
15.按权利要求1或8所述的双轴取向叠层聚酯薄膜,其中,整体厚度是2.5~20μm。
16.一种在按权利要求1或按权利要求8所述的双轴取向叠层聚酯薄膜的涂膜层(B)的表面上形成磁记录层的磁记录介质。
17.按权利要求16所述的磁记录介质,其中,该磁记录介质用于模拟信号记录的Hi8、数字信号记录的数字视频盒式微型录像机(DVC)、数据8毫米或DDSIV。
全文摘要
一种磁记录介质用双轴取向叠层聚酯薄膜,其特征在于,它是由聚酯树脂构成的基层(A)及在该基层(A)的一个表面上存在的含有胶粘剂、添加微粒子及表面活性剂的涂膜层(B)构成的叠层薄膜,该基层(A)实质上不含有添加微粒子或含有平均粒径0.005—0.3μm的添加粒子0.001—0.1wt%,该涂膜层(B)的表面中心面粗糙度(SRa)在5nm以下,该涂膜层(B)的表面长径为0.05μm以上的凸起密度在8万个/mm
文档编号G11B5/733GK1292135SQ9980353
公开日2001年4月18日 申请日期1999年11月1日 优先权日1998年11月2日
发明者内田俊一, 东条光峰, 大泽利文, 龟冈晃, 浦僚克, 小菅雅彦 申请人:帝人株式会社
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