专利名称：敏射线树脂组合物及改进该组合物的防干蚀刻性能的方法
技术领域：
本发明涉及一个新的敏射线树脂组合物，以及改进敏射线树脂组合物的防干蚀刻性能的方法，更确切地说，涉及一个新的具有改进的防干蚀刻性能的敏射线树脂组合物，以及改进敏射线树脂组合物的防干蚀刻性能的方法，它适用于生产半导体，制备液晶显示(LCD)板的液晶显示面，以及生产电路衬底(基片)，例如热压头。
背景技术：
在许多的包括生产半导体集成电路，如大规模集成电路(LSI)，制备LCD板的液晶显示面，以及生产诸如热压头的电路衬底(基片)的技术领域中，人们广泛地利用光刻(照相平片印刷)工艺去制备精细元件和进行精细加工，在上述光刻工艺中，正性或负性的敏射线树脂组合物被用于形成(光致)抗蚀图案。众所周知，在上述正性树脂组合物，一个包含有碱溶性树脂与醌二叠氮化物的组合物是一个敏射线的物质。关于该组合物，许多文献如日本专利申请公告JP-B 54-23570号(美国专利US3,666,473号),JP-B 56-30850号(美国专利US 4,11 5,128号)，日本专利申请公开说明书JP-A 55-73045号和JP-A 61-205933号都揭示过许多诸如“(线型)酚醛清漆型树脂/醌二叠氮化物”的组合物。其中，用已知的方法例如旋转涂敷法，辊式涂法，溢料面(land)涂法，热辊层压法或浸渍涂敷法将上述敏射线树脂组合物涂敷在硅衬底物上，即用金属如铝，钼或铬涂敷的或用金属氧化物如ITO涂敷的底物上，以便在其上面形成一层薄膜，然后用以紫外线(UV)为光源的射线，通过用于电路的掩模图案将其曝光。曝光后，将其显影(冲洗)以形成(光致)抗蚀图案。然后用该抗蚀图案作为蚀刻掩模可以用于蚀刻法对上述衬底物进行精细加工。在干蚀刻加工过程中，被用作掩模的抗蚀图案需要有足够的干蚀刻性能(剂)。另一方面，为了高产率(每单位时间的产量)地制备日益发展的薄膜晶体管(TFT)的大尺寸的LCD板的衬底物，必须在生产LCD板中使用具有较高敏感(光)性的敏射线树脂组合物。因此，人们强烈需要拥有和使用既具有改进抗干蚀刻性能的又具有更高敏感(光)性的敏射线树脂。
为此，人们通常采用具有高分子重量的碱溶性树脂或从碱溶性树脂中除去一定范围内具有低分子量的组份，例如单体和二聚物，以达到防干蚀性能的改进(例如JP-A 60-97347号和60-189739号，以及日本专利第2590342号)。然而，由此也会出现其它问题。前者措施中会导致敏感性的降低，后者会导致敏感性和粘结性的降低。因此，人们很难会做到既要改进敏射线树脂组合物的防干蚀性能，同时又要维持其敏感性不变。
鉴于上述情况，本发明的目的是提供一个包含有碱溶性树脂和敏射线物质的敏射线树脂组合物，它能象现有技术所希望的那样，形成优良的图案，而且具有高敏感性与优良的防干蚀剂性能；本发明还提供一个既能改进由碱溶性树脂和敏射线物质所组成的敏射线树脂组合物防干蚀刻性能，又能同时维持其高敏感性的方法。
本发明的描述经过努力研究和多次测试，本发明人发现了达到上述发明目的的途径，其中把如下列公式1所示的其参数(P)为30或以上的含有酚式羟基的化合物加入到由碱溶性树脂与敏射线物质所组成的敏射线树脂组合物中以实现本发明。
参数(P)=[(13.0 x添加物中的羟基数)/(添加物中的苯环数)]+[(14.0x添加物中的重氮偶合反应点值)/(添加物中的苯环数)]式中的重氮偶合反应点值是上述化合物中的苯环中的相对于羟基位置居邻位和对位的未取代的碳原子数量。
我们将在下面进一步描述本发明。
本发明的敏射线树脂组合物中的碱溶性树脂可以是任意一个的在惯用的敏射线树脂组合物中被用做碱溶性树脂成份的树脂。其中较佳的实例是一个通过至少一个(苯)酚类与醛类，如甲醛水(福尔马林)之间的缩聚作用制得的(线型)酚醛清漆型(苯)酚型树脂。
适用于制备上述碱溶性(线型)酚醛清漆型树脂的(苯)酚类包括甲(苯)酚类，如邻-甲(苯)酚，对-甲(苯)酚和间-甲(苯)酚；二甲苯酚类，如3,5-二甲苯酚，2,5-二甲苯酚，2,3-二甲苯酚和3,4-二甲苯酚；三甲苯酚类，如2,3,4-三甲苯酚，2,3,5-三甲苯酚，2,4,5-三甲苯酚和3,4,5-三甲苯酚；叔丁基苯酚类，如2-叔丁基苯酚，3-叔丁基苯酚和4-叔丁基苯酚；甲氧基苯酚类，如2-甲氧基苯酚，3-甲氧基苯酚，4-甲氧基苯酚，2,3-二甲氧基苯酚，2,5-二甲氧基苯酚和3,5-二甲氧基苯酚；乙基苯酚类，如2-乙基苯酚，3-乙基苯酚，4-乙基苯酚，2,3-二乙基苯酚，3,5-二乙基苯酚，2,3,5-三乙基苯酚和3,4,5-三乙基苯酚；氯酚，如邻-氯酚，间-氯酚，对-氯酚和2,3-二氯酚；间苯二酚类，如间苯二酚，2-甲基间苯二酚，4-甲基间苯二酚和5-甲基间苯二酚；儿茶酚类，如5-甲基儿茶酚；焦棓酚类，如5-甲基焦棓酚；双酚类，如双酚A,B,C,D,E和F；羟甲基甲(苯)酚类，如2,6-二羟甲基-对-甲苯酚；萘酚类，如α-萘酚和β-萘酚，它们可以单独地或以混合方式加以使用。
适用于制备上述碱溶性线型酚醛清漆型树脂的醛类可以包括水杨醛，仲甲醛，乙醛，苯甲醛，羟基苯甲醛与氯乙醛，以及甲醛水。它们可以单独或混合方式加以使用。
本发明所用的碱溶性树脂具有足够的针对任意干蚀刻情况的耐抗性能。它也可以是一个按需要用分离(馏)法除去其中的低分子量成份的树脂。从线型酚醛清漆型树脂除去其中的低分子量成份的分离方法包括使用两个对上述成份具有不同溶解度的溶剂的液-液分离法，除去其中的低分子量成份的离心分离法，以及薄膜蒸馏法。
本发明所用的敏射线物质是这样的一个物质，它经过被其波长与该敏射线物质的吸收区域相重叠的光线的照射能发生化学变化，由此改变了敏射线树脂组合物在水或有机溶剂中的溶解性。上述可以与碱溶性树脂一起结合使用的敏射线物质包括一个含有(苯)醌二叠氮基的化合物。这种适用于本发明的含有(苯)醌二叠氮基的化合物可以是任意一个惯用于(苯)醌二叠氮酚醛清漆型抗蚀层(剂)的已知敏射线物质。
上述含有(苯)醌二叠氮基的化合物最好是一个由萘醌二叠氮磺酰氯，例如1,2-萘醌二叠氮-5-磺酰氯与1,2-萘酚二叠氮-4-磺酰氯或苯醌二叠氮磺酰氯与一个具有能与上述酰基氯类进行缩合反应的功能团的低分子或高分子化合物进行反应所生成的化合物。上述能与酰基氯进行缩合反应的功能基团包括羟基，氨基等，其中优选羟基。含有能与酰基氯进行缩合反应的羟基的化合物包括氢醌；间苯二酚；羟基二苯甲酮类，如2,4-二羟基二苯甲酮，2,3,4-三羟基二苯甲酮，2,4,6-三羟基二苯甲酮，2,4,4’-三羟基二苯甲酮，2,3,4,4’-四羟基二苯甲酮，2,2’,4,4’-四羟基二苯甲酮和2,2’,3,4,6’-五羟基二苯甲酮；羟苯基链烷烃类，例如二(2,4-二羟苯基)甲烷，二(2,3,4-三羟苯基)甲烷和二(2,4-二羟苯基)丙烷；以及羟基三苯基甲烷基，如4,4’,3,4”-四羟基-3,5,3’,5’-四甲基三苯基甲烷和4,4’,2”,3”,4”-五羟基-3,5,3’,5’-四甲基三苯基甲烷。它们可以单独或以两个或更多的结合方式加以使用。上述含有(苯)醌二叠氮基的敏射线物质的用量，相对于100重量份的碱溶性树脂，通常为5～50重量份，并以10～40重量份为宜。在本发明的敏射线树脂组合物中，也可以使用由碱溶性树脂与(苯)醌二叠氮化物之间的反应产物所组成的敏射线树脂。
另一方面，在本发明的敏射线树脂组合物中，将如上述公式1所示的其参数(P)为30或以上的含有酚式羟基的化合物用做添加物。虽然本发明的理论尚未完全清楚，但是上述公式1中的各项目的结合理由可以如下述考虑。
上述所用的添加物可以达到更高的敏感性，因此在本发明中可以使用较高分子重量的碱溶性树脂。由于碱溶性树脂的高分子量作用以及重氮偶合的高分子量作用，所以可以改进抗干蚀刻作用(性能)，而且不会降低敏感性。由于添加物中的羟基数量的增加，因此会提高被曝光组合物的溶解率。由于加入了上述添加物，使得数量更多的羟基能够实现更高的敏化(感光)作用。然而，如果(向组合物)加入更多量，由于低分子重量成份数量的增加势必导致抗干蚀刻性能的降低。此外，众所周知，当接触显影(冲洗)溶液时，在未曝光部分的正性敏射线树脂组合物中添加物及碱溶性树脂与敏射线物质会发生重氮偶合反应，并在表面上形成微溶的涂层。因此，由于偶合反应使得显影(冲洗)后保留的敏射线树脂涂层的分子重量增加，并使组合物的表面具有改进的抗干蚀刻性能。
如上所述，被用做本发明的添加物的具有酚式羟基的化合物具有把更高敏感(光)性授予由碱溶性树脂与敏射线物质所组成的敏射线树脂组合物的功能。这种添加物包括如公式1所示的其参数(P)为30或以上的化合物，它们具有如下列的化学式(Ⅰ)-(Ⅴ) 式中R1,R2,R3与R4是彼此独立的，可以是相同的，而且可以代表一个氢原子，一个C1～C10的烷基，一个羟苯基，多价的羟苯基，羟苯乙基，羟苄基，多(羟苯基)甲基，以及二(羟苄基)羟苯基；R5与R6可以是彼此独立的，可以是相同的，而且可以代表一个氢原子，一个C1～C10的烷基，一个乙酰基，羟苄基，羟苯甲酰基，以及羟_基；R7代表一个氢原子，一个C1～C10的烷基，一个C3～C10的环烷基，以及羟苄基。在上述取代基中的苯环可以被其它的取代基，如C1～C10烷基和C1～C10烷氧基所取代。式中的k,m,n,p和q代表0或一个1～5的整数。
被用作本发明的添加物的具有酚式羟基的化合物可以特别是下列物质其参数(P)为30到40以下的化合物，例如4,4’,4”,4_-(1,4-亚苯基二次甲基)四酚，4,4’-[(3-羟苯基)亚甲基]二[2-甲乙基酚]，2,2’-[(3-羟苯基)亚甲基]二[3,5,6-三甲基酚]，2,2’-[(羟基-3-甲氧基苯基)亚甲基]二[3,5-二甲基酚]，2,2’-[(4-羟基-3-甲氧基苯基)亚甲基]二[3,5-二甲基酚]，4-[二(4-羟基苯基)甲基]-2-乙氧基酚，4-[二(4-羟基苯基)甲基]-2-甲氧基酚，2,4,6-三(4-羟基苯基甲基)-1,3-苯二醇，4,4’-[1-[4-[1-(4-羟基苯基)-1-甲乙基]苯基]亚乙基]双酚，4-(2,3,5-三甲基-4-羟苯基)甲基-1,3-苯二醇，以及6,6’-亚甲基二[4-(4-羟基-3,5-二甲基苯基甲基)-1,2,3-苯三醇。
其参数(P)是40到50以下的化合物，例如2,6-二[(2,4-二羟苯基)甲基]-4-乙基苯酚，2,4-二[(2,4-二羟苯基)甲基]-6-环己基苯酚，2,6-二[(2,3-二羟基-5-(1,1-二甲乙基)苯基)甲基]-4-甲基苯酚，4,4’-[(3,4-二羟基苯基)亚甲基]二[2-(甲基乙基)苯酚，2,2’-[(3,4-二羟基苯基)亚甲基]二[3,5,6-三甲基苯酚]，2,2’-[(3-羟基-4-甲氧基苯基)亚甲基]二[3,5-二甲基苯酚]，2,4’,4”-次甲基三苯酚，4,4’-[(2-羟基苯基)亚甲基]二[3-甲基苯酚]，4,4’,4”-(3-甲基-1-亚丙基-3-ylidene)三苯酚，2,2’-[(3-羟基苯基)亚甲基]二[3,5-二甲基苯酚]，4,4’,4”,4_-[1,2-联(二)亚甲基]四苯酚，4,6-二[(4-羟基苯基)甲基]-1,3-苯二醇，4,4’-[(3,4-二羟基苯基)亚甲基]二[2-甲基苯酚]，2,2’-[(2-羟基苯基)亚甲基]二[3,5-二甲基苯酚]，2,2’-[(4-羟基苯基)亚甲基]二[3,5-二甲基苯酚]，(2,4-二羟基苯基)(4-羟基苯基)甲酮，4-[1-(4-羟基苯基)-1-甲基乙基]-1,3-苯二醇，4-[(3,5-二甲基-4-羟基苯基)甲基]-1,2,3-苯三醇，4,4’-[1,4-亚苯基二(1-甲基亚乙基)]二[苯-1,2-二醇]，5,5’-[1,4-亚苯基二(1-甲基亚乙基)]二[苯-1,2,3-三醇]，4-(3,4-二氢-7-羟基-2,4,4-三甲基-2H-1-苯并吡喃-2-基)-1,3-苯二醇，4-[(2,3,5-三甲基-4-羟基苯基)甲基]-1,2,3-苯三醇，4,4’-亚甲基二[6-甲基羰基-1,3-苯二醇]，6,6’-亚甲基二[4-(4-羟基苯基甲基)-1,2,3-苯三醇]，6,6’-亚乙基二[4-(4羟基苯基羧基)-1,2,3-苯三醇，4,4’,4”-次甲基三[2,6-二[(羟基苯基)甲基]苯酚]，以及4,4’,4”-亚乙基三[2,6-二[(羟基苯基)甲基]苯酚]。
其参数(P)为50或以上的化合物，例如2,2’-二[(3,4-二羟基苯基)亚甲基]二[3,5-二甲基苯酚]以及4-[(4-羟基苯基)甲基]-1,2,3-苯三醇。
最适用于本发明的添加物包括TPPA(4,4’-[1-[4-[1-(4-羟基苯基)-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚) 和Bis PG-PD(4,4’-[1,4-亚苯基二(1-甲基亚乙基)]二[苯-1,2,3-三醇])。
可用于溶解本发明的敏射线树脂组合物的溶剂可以包括乙二醇一烷基醚类，如乙二醇一甲基醚和乙二醇一乙基醚；乙二醇一烷基醚乙酸酯类，如乙二醇一甲基醚乙酸酯和乙二醇一乙基醚乙酸酯；丙二醇一烷基醚，如丙二醇-甲基醚和丙二醇一乙基醚；丙二醇一烷基醚乙酸酯类，如丙二醇一甲基醚乙酸酯和丙二醇一乙基醚乙酸酯；乳酸酯类，如乳酸甲基酯和乳酸乙基酯；芳香烃类，如甲苯和二甲苯；酮类，如甲乙基酮，2-庚酮和环己酮；酰胺类，如N,N-二甲基乙酰胺和N-甲基吡咯烷酮；以及内酯类，如γ-丁内酯。这些溶剂可以单独或以两个或更多的结合方式加以使用。
根据需要可以将颜料、粘合助剂、表面活性剂等加入到本发明的敏射线树脂组合物中，上述颜料可以是甲基紫，结晶紫，孔雀绿等；上述粘合助剂可以是烷基咪唑啉，丁酸，烷基酸，多羟基苯乙烯，聚乙烯甲基醚，叔丁基线型酚醛清漆，环氧硅烷，环氧聚合物，硅烷等；上述表面活性剂可以是非离子型表面活性剂，例如聚二醇类及其衍生物，包括聚丙二醇或聚氧乙烯月桂基醚，含氟表面活性剂，如Fluorad(商品名；为Sumitomo3M公司产品)，Megafac(商品名；为Dainippon Ink and Chemicals,Inc.的产品)，Sulflon(商品名；为Asahi Glass Co.的产品)或有机硅氧烷表面活性剂，如KP341(商品名；Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.的产品)本发明的最佳实施方案我们用一些实例进一步详述本发明，然而这些实施例没有限定本发明的范围。
实施例1把相对于100重量份的树脂与添加物的总量的25重量份的敏射线物质，即2,3,4,4’-四羟基二苯甲酮与萘并醌二叠氮-4-磺酰氯之间的酯和5重量份的添加物TPPA(Honshu ChemicalIndustry Co.,Ltd.的产品)以及100重量份的其平均分子重量按聚苯乙烯标准计算为7,500的线型酚醛清漆型树脂都一起溶解于丙二醇一甲基醚乙酸酯中，为了避免在旋转涂敷的抗蚀薄膜上形成所谓的辉纹，即放射性皱纹，向上述溶液中加入300ppm的含氟表面活性剂Fluorad-472(Sumitomo 3M Ltd.产品)，然后搅拌，并用0.2μm过滤器进行过滤，以制备出本发明的敏射线树脂组合物。将制得的组合物旋转涂敷在4英时的硅圆片上，并放在一个热盘上在100℃中烘烤90秒，以形成其厚度为1.5μm的(光致)抗蚀薄膜层。上述TPPA的参数(P)值是30.75(见表1)。
通过一个具有许多谱线和空间(隔)宽度图案的测试图案，其中各有1∶1的谱线和空间(隔)宽度，用一个由Nikon Corporation制作的步进器(FX-604F,NA=0.1,g+h线)将上述抗蚀薄膜进行曝光。然后，在23℃中用AZ_300 MIF_及2.38重量％的氢氧化四甲铵溶液显影(冲洗)60秒，经过显影(冲洗)之后，对试样进行观察和测定，假定能使5μm的谱线和空间(隔)转化为1∶1的曝光能量(E0)是敏感(光)性。试验结果显示于表2中。
此后，将上述试样放置在一个热盘上，在130℃中进行后烘烤120秒，接着将其放置于一个由Samuco公司制造的离子蚀剂装置(RIE-10N)中，在其组份为C2F6∶CHF3∶He=16∶24∶100的气氛中，分别在100W和105W中进行干蚀刻处理5分钟和6分钟。上述蚀刻处理后，观测上述涂敷薄膜的表面情况，并用下列标准测评防干蚀刻性能，测评结果显示于表3中。
测评标准◎没有变化○显鳞状的不平坦△部分地云斑(混浊)X完全地云斑(混浊)-碳化实施例2进行如同实施例1的试验过程，但是所用的酚醛清漆型树脂是一个共平均分子重量按聚苯乙烯标准计算为8,000的(线型)酚醛清漆型树脂，而且添加物的加入量是7.5重量份。该试验结果显示于表2和表3中。
实施例3进行如同实施例1的试验过程，但是所用的酚醛清漆型树脂是一个其平均分子重量按聚苯乙烯标准计算为8,700的酚醛清漆型树脂，而且添加物的加入量是10.0重量份。该试验结果显示于表2和表3。
实施例4进行如同实施例1的试验过程，但是所用的酚醛清漆型树脂是一个其平均分子重量按聚苯乙烯标准计算为7,800的酚醛清漆型树脂，而且用Bis PG-PD(Honshu Chemical Industry公司制备)代替作为添加物为TPPA。该试验结果显示于表2和表3中。
上述Bis PG-PD的参数(P)是44.67(见表1)实施例5进行如同实施例4的试验过程，但是所用的酚醛清漆型树脂是一个其平均分子重量按聚苯乙烯标准计算为8,600的酚醛清漆型树脂，而且添加物的加入量是7.5重量份。该试验结果显示于表2和表3中。
实施例6进行如同实施例4的试验过程，但是所用的酚醛清漆型树脂是一个其平均分子重量按聚苯乙烯标准计算为9,600的酚醛清漆型树脂，而且添加物的加入量是10.0重量份。该试验结果显示于表2和表3中。
对照实施例1进行如同实施例1的试验过程，但是所用的酚醛清漆型树脂是一个其平均分子重量按聚苯乙烯标准计算为5,300的酚醛清漆型树脂，而且不加入添加物。该试验结果显示于表2和表3中。
对照实施例2进行如同实施例1的试验过程，但是所用的酚醛清漆型树脂是一个其平均分子重量按聚苯乙烯标准计算为8,600的酚醛清漆型树脂，而且加入了7.5重量份的具有下列化学式结构的添加物TPPA-1000P。该试验结果显示于表2和表3中。
上述TPPA-1000P的参数(P)是28.50(见表1)TPPA-1000P
表1
表2
表3
从上述表2和表3可以看到，如果加入如公式1所示的其参数(P)是30或以上的化合物作为添加物时，那么相互矛盾的特性，即改进敏感(光)性的作用和改进防干蚀刻性能的作用就能得到很好的平衡。在各个实施例中所形成的(光致)抗蚀图案都是优良的。
本发明的效果根据本发明的敏射线树脂组合物不仅可以形成优良的抗蚀图案，而且能够显著地改进防干蚀刻性能，同时又能维持高敏感(光)性能和高分辨度。因此，根据本发明的敏射线树脂组合物具有重要的用途，宜用于生产半导体装置和液晶显示装置。
权利要求
1．一个由碱溶性树脂，敏射线物质和具有酚式羟基的，并如下列公式1所示的其参数(P)是30或以上的化合物所组成的敏射线树脂组合物[公式1]参数(P)=[(13.0 x添加物中的羟基数)/(添加物中的苯环数)]+[(14.0x添加物中的重氮偶合反应点值)/(添加物中的苯环数)]式中的重氮偶合反应点值是上述化合物中的苯环中的相对于羟基位置居邻位和对位的未取代的碳原子数量。
2．根据权利要求1的敏射线树脂组合物，其中所述的具有酚式羟基的化合物是一个用下列化学式(Ⅰ)-(Ⅴ)表示的，具有酚式羟基的，并如公式1所示的其参数(P)是30或以上的化合物 式中R1,R2,R3与R4是彼此独立的，可以是相同的，而且可以代表一个氢原子，一个C1～C10的烷基，一个羟苯基，多价的羟苯基，羟苯乙基，羟苄基，多(羟苯基)甲基，以及二(羟苄基)羟苯基；R5与R6可以是彼此独立的，可以是相同的，而且可以代表一个氢原子，一个C1～C10的烷基，一个乙酰基，羟苄基，羟苯甲酰基，以及羟_基；R7代表一个氢原子，一个C1～C10的烷基，一个C3～C10的环烷基，以及羟苄基。在上述取代基中的苯环可以被其它的取代基，如C1～C10烷基和C1～C10烷氧基所取代。式中的k,m,n,p和q代表0或一个1～5的整数。
3．根据权利要求2的敏射线树脂组合物，其中的具有酚式羟基的化合物是4,4’-[1-[4-[1-(4-羟基苯基)-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚或4,4’-[1,4-亚苯基二(1-甲基亚乙基)]二[苯-1,2,3-三醇]。
4．一个改进敏射线树脂组合物的防干蚀刻性能的方法，其中用碱溶性树脂，敏射线物质和具有酚式羟基的，并如同权利要求1中的公式1所示的其参数(P)是30或以上的化合物组成一个敏射线树脂组合物。
5．根据权利要求4的一个改进敏射线树脂组合物的防干蚀刻性能的方法，其中的具有酚式羟基的化合物是一个用如权利要求2中的化学式(Ⅰ)-(Ⅴ)所表示的，具有酚式羟基的，并如公式1所示的共参数(P)是30或以上的化合物。
6．根据权利要求5的一个改进敏射线树脂组合物的防干蚀刻性能的方法，其中的具有酚式羟基的化合物是4,4’-[1-[4-[1-(4-羟基苯基)-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚或4,4’-[1,4-亚苯基二(1-甲基亚乙基)]二[苯-1,2,3-三醇]。
全文摘要
本发明涉及一个敏射线树脂组合物,该组合物包含有一个碱溶性树脂,一个敏射线物质和一个具有酚式羟基,并如下列公式1所示的其参数(P)是30或以上的化合物,[公式1]参数(P)=[(13.0×添加物中的羟基数)/(添加物中的苯环数)]+[(14.0×添加物中的重氮偶合反应部位数)/(添加物中的苯环数)]式中的重氮偶合反应部位数是上述化合物中的苯环中的相对于羟基位置居邻位和对位的未取代的碳原子数量;本发明还涉及一个改进敏射线树脂组合物的防干蚀刻性能的方法,其中使用上述敏射线树脂组合物。本发明的敏射线树脂组合物适用于形成优良的抗蚀图案,其中具有优良的抗干蚀刻性能和高敏感(光)性能。
文档编号H01L21/02GK1316068SQ00801314
公开日2001年10月3日 申请日期2000年6月16日 优先权日1999年7月6日
发明者河户俊二, 高桥修一 申请人:克拉瑞特国际有限公司