专利名称：自动档案输入的掩膜测量方法
技术领域：
本发明涉及一种自动档案输入的掩膜测量方法，特别涉及一种藉由自动将档案自服务器输入，以方便测量掩膜装置瑕疵的方法。
背景技术：
近来半导体装置的大小已经由微米(nanometer)技术进入到次微米(sub-nanometer)技术，对于半导体装置的制作上，需要更为精密的装置方可正确测量所制作出的半导体装置。
在半导体制程中，掩膜(mask)的使用亦必须要求精密以及正确，以正确达成半导体装置的电性，由于半导体装置在尺寸上的缩小，掩膜在尺寸上同样需要达到次微米的技术。在测量半导体装置时，可辨识精密度(Δx)、数值孔径(numeraicalapperature，简称NA)以及测量光波长(λ)的关系可由Abb与Rayleigh定律得出如下Δx＝0.61*λ/NA由于NA已经由0.9改进到0.95，几乎已经到达其极限值1.0，因此要将可辨识精密度(Δx)导入至次微米的级数(order)时，只有将测量光波长(λ)由可视光改进到非可视光。
在已知的掩膜测量方法中，一种广为使用的掩膜测量装置，是为由LeicaTM公司所发表的线宽测量装置(line-width measurement device，以下简称LWM)，该装置可以使用一非可视光(invi siable)来测量掩膜的重要大小(CriticalDimension，以下简称CD)，因此该可辨识精密度(Δx)可达次微米的大小。且，由于其具有自动对焦以及操作模式(operator mode)，因此，可以在半导体工厂中，直接要求操作员比对正确图样(pattern)而测量该待测掩膜是否有对线(in-line)、是否正确大小以及粗糙度等测量。由于其自动对焦速度快、可辨识密度小等优点，因此，该种掩膜测量装置广为使用。
但是，由于该掩膜测量装置在操作上，并非十分方便。一般而言，操作员必须自行搜寻待测掩膜的取样测量点，并自行给定座标以测量该待测掩膜的CD，之后，将所选定的图样(pattern)与印在纸上的图形(picture)相比较而测量该CD。之后，如发现有瑕疵，操作员甚至必须以手写方式，而将测量数据写下，并计算所选定范围中的平均值，以及将所得的最大值以及最小值等写入至执行卡(run card)中。该种方式容易造成操作错误、计算错误，并且，将很难追踪产品的状况。而且，由于需要使用纸张，因此，也会环保的问题。
发明内容
本发明的目的即在解决上述已知掩膜测量装置的缺点。本发明藉由自动档案输入的掩膜测量方法，而大大省去操作时间(约50％)以及操作的复杂度。而且不需要纸张以及计算平均值等的程序。操作员只需要测量出CD值，而将操作员于操作屏幕上所看到的数据，写入至执行卡(run card)中即可。而写入至执行卡中的数据，将以适当格式而写入至服务器中，以供日后分析处理以及应用。
图1是本发明的自动档案输入的掩膜测量方法的细部动作图。
图2是图1动作图的另一实施例。
具体实施例方式
以下根据图1而说明本发明的详细动作。
在说明之前，兹将本发明的相关名称予以说明如下。
(1)汇入的档案名称(Import file name)位于执行卡(run card)的一栏位中，经由汇入至Leica公司所生产的LWM250UV模组的控制器的巨集程序中，以自档案服务器中得到对应的重要大小(CD)输入档案(CD import file)以及图样位元图(Pattern bitmap)；(2)重要大小的汇入档案(CD import file)包括取样点、掩膜名称以及重要大小标的值的档案；(3)图样位元图(Pattern bitmap)标记有该些测量点的位元图档案，作为测量的参考；(4)原始重要大小值(Raw CD value)系由Leica公司的LWM机器之巨集所产生之输出档案，包括所测量得之原始重要大小值以及一些冗余数据(redundantdata)
(5)具有适当格式的排序数据(Sorted data in property format)包括一些可供日后分析处理以及应用的经排序过的数据的档案，该些数据皆为经挑选有用的数据；以及(6)掩膜重要大小结果(Mask CD result)经计算的数据，例如，重要大小的平均值、范围、最大值以及最小值等。操作员需要将该结果写入至执行卡中。
以下，请参考图1以方便解释本发明的详细内容。
首先，关于汇入档案名称部份，可经由工具制作工作站(Tooling workstation)(B)，而制作出所要测量的重要大小(CD)的图样位元图(Pattern bitmap)以及相关的重要大小的输入档案(包括取样点、掩膜名称以及重要大小标的值)，并将对应于所制作的上述数据者，给定一汇入档案名称，由该工作站(B)所制作出的数据者，可储存于档案服务器(E)中，而汇入档案名称输入至操作员所使用的执行卡上。
当操作员开始操作时，该执行卡(A)之一栏位上的汇入档案名称，除了可由生产线上的个人电脑取得之外，并将可由掩膜测量装置的控制器之巨集(B)取得，此时，该巨集(C)藉由于档案服务器(E)的连线，而自档案服务器(E)取得重要大小汇入档案以及图样位元图等二重要测量数据，如上述，该重要大小的汇入档案，包括取样点、掩膜名称以及重要大小标的值的档案；而该图样位元图，标记有该些测量点的位元图档案，作为测量的参考；在该巨集(C)取得该重要测量数据的同时，生产线上之个人电脑，亦同时取得该重要大小汇入档案，但是，并需要图样位元图，因为，标记由测量点的位元图档案，是已经内建好，不需要由操作员设定，以节省时间以及避免操作的错误。
此时，开始由该巨集(C)测量掩膜的重要大小，而得到原始重要大小值，而将该值送至档案服务器(E)，该原始重要大小值经由档案服务器(E)送至生产线上的个人电脑(D)，并由该个人电脑(D)排序之后，回送至档案服务器(E)，以供日后分析处理以及应用，而未排序的结果，经由计算，而将例如重要大小平均值、范围、最大值、最小值等，送至执行卡(A)中，而称为掩膜重要大小结果。
虽然本发明是以实施例以而说明，对于熟知本技术领域者可在不离开本发明的基本观念以及范围下而有许多的修改。
权利要求
1.一种自动档案输入的掩膜测量方法，该方法包含以下步骤藉由一标的产生装置，以产生一标的产生数据，该标的产生数据包括取样点座标与重要大小标的值以及作为测量参考用的测量点，之后，将该标的产生数据给予命名一档案名称，并将标的产生数据存入至一档案服务器；将该档案名称指定至一执行卡；将该执行卡上的该档案名称，分别输入至一掩膜测量装置以及一个人电脑中；藉由该掩膜测量装置，根据该档案名称，自档案服务器处取得该些标的产生数据；藉由该个人电脑，取得该取样点座标与重要大小标的值；藉由掩膜测量装置，测量一待测掩膜，以测量得一原始重要大小值，并将该值送至档案服务器；藉由该个人电脑自档案服务器取得该原始重要大小值，并予以排序，而经适当格式化以回传至该档案服务器，以便分析处理；藉由该个人电脑执行待测掩膜的重要大小的相关计算，并写回至该执行卡。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，该标的产生装置为工具制作工作站。
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，该掩膜测量装置为LWM250UV装置。
4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，该标的产生数据包括取样点座标、掩膜名称、重要大小标的值以及标记有测量点而作为测量参考用的位元图档案。
全文摘要
本发明为一种自动档案输入的掩膜测量方法，包含利用标的产生装置产生标的产生数据，该数据包括取样点坐标与重要大小标的值以及作为测量参考用的测量点；以档案名称命名该标的产生数据，并将标的产生数据存入档案服务器；将档案名称指定至一执行卡；将档案名称分别输入至掩膜测量装置以及个人电脑中；藉由掩膜测量装置根据档案名称，从档案服务器处取得标的产生数据；从个人电脑，取得取样点坐标与重要大小标的值；藉由掩膜测量装置测量待测掩膜，得到原始重要大小值，并送至档案服务器；个人电脑自档案服务器取得原始重要大小值并排序，经适当格式化回传至该档案服务器，以分析处理；个人电脑执行待测掩膜的重要大小的相关计算，写回该执行卡。
文档编号H01L21/66GK1507025SQ0215125
公开日2004年6月23日 申请日期2002年12月12日 优先权日2002年12月12日
发明者何基宏, 游桂美, 张卫航 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司, 中芯国际集成电路制造(上海)有限公