专利名称：用于调整磁共振成像磁体组件的方法和系统的制作方法
技术领域：
本发明涉及磁场调整系统。更准确地说，本发明涉及用于磁共振成像(MRI)磁体组件的磁场调整系统。
背景技术：
MRI磁体组件需要足够大的空气隙来容纳全部或部分被扫描的物体，并且该MRI磁体通常需要强且均匀的磁场，空气隙之内规定的成像空间中该磁场所表现出的精确度级别在百万分之(ppm)十。
一种已知的MRI磁体组件的构形是通常所说的开放式结构MRI。通常，开放式结构MRI包含反向磁场发生组件，这些反向磁场发生组件通过一个或多个磁轭或支撑部件而互相连接起来。另一种已知的构形是通常所说的圆柱结构MRI，在圆柱结构MRI中磁场发生组件和其它磁场成形部件绕一圆柱结构布置。
在MRI磁体组件中的磁场通常利用永久磁体、电磁体或者两者的结合物来产生。例如，一种已知的MRI磁体组件的结构为其中磁极片如此固定，在采用基于R-Fe-B的磁体作为磁场发生元件的一对永久磁体结构中的每一个磁体结构的一个端子互相面对，其它端子以磁轭连接，并且在磁极片之间的空气隙之内产生静态磁场。另一种已知的MRI磁体组件具有电磁线圈(包括电阻性线圈、超导线圈，和类似物)，该电磁线圈绕空气或铁心缠绕，它代替上文提到的永久磁体结构用于磁场发生元件。
诸多因素在很大程度上影响磁场的均匀性。这些因素包括构建MRI磁体所采用的材料的性质、制造MRI磁体的精确度，以及放置MRI磁体的周围环境。通常，这些或其它因素的变化导致不均匀的场，范围从几百ppm到几千ppm。为了得到有效成像所需的均匀性，必须校正这种场的不均匀性。
一种校正场不均匀性的方法是在形成于磁场发生组件的相对表面上应用由磁性(例如铁)材料和/或永久磁性材料构成的垫片。这种布置的一个例子阐述于Sakurai等人的专利号为5,229,723的美国专利中。Sakurai等人阐述了一种用于在空气隙之内产生磁场的MRI专用磁场发生设备，该磁场发生设备包括一对彼此相对的永久磁体组件，在这对磁体组件之间形成空气隙；用于磁连接永久磁体组件的磁轭；以及固定在其面对空气隙的表面上的磁极片。基于这种构建，通过在磁极片的相对表面的同一个圆或同心圆上设置多个磁性材料段来增加磁场强度，或者通过在极靴的相对表面的同一个圆或同心圆上设置多个磁化方向与永久磁体组件相反的永久磁体段来降低磁场强度；或者另外，在同一个圆或同心圆上既设置磁性材料段，又设置永久磁体段。
然而，这种调整结构有几个缺陷。例如，在调整过程中需要付出一定程度的注意和努力，以便在极面附近放置垫片时使垫片稳定，在极面附近垫片容易受到永久磁体组件的大磁力的影响。这种注意和努力必然增加完成调整过程所需的时间。
发明内容
上文阐述的缺陷和不足可通过用于调整MRI磁场发生组件的方法和系统来克服或缓和，其中多个垫片相对于磁场发生组件的一个表面固定，来至少部分地校正由磁场发生组件产生的磁场中的不均匀性。一方面，垫片沿着多个同心几何形状布置，每个同心几何形状至少具有五个边。另一备选情况是，垫片沿着多个行和列布置，在其中行与列垂直。另一方面，至少一个垫片是磁性材料平板，该磁性材料平板包括顶面、底面、侧面和工作面。底面是平板相对于磁场发生元件最接近的部分，顶面是平板相对于磁场发生元件最远的部分，并且工作面与由磁体发生组件产生的磁场的方向对齐。
上文讨论的以及其它本发明的特征和优点将通过下面的详细说明和图示来被本领域普通技术人员认识和理解。
参考示范性的图示，图示中相同的元件在几幅图中的编号相同。
图1是MRI磁体组件的截面正视图，该MRI磁体组件具有固定在表面的垫片，该表面在该MRI磁体组件上形成；图2是用于MRI磁体组件的垫片固定器的分解等角图；图3是MRI磁体组件的截面正视图，包括图2的垫片固定器；图4是MRI磁体组件的截面正视图，包括一备选的垫片固定器；图5结合图1、3和4的5-5部分，是用于放置垫片的蜘蛛网状几何网格图形的俯视图；图6结合图1、3和4的5-5部分，是用于放置垫片的点阵几何网格图形的俯视图；图7是一个垫片的等角图，该垫片被布置为邻近垫片固定表面；图8是现有技术的垫片布置的等角图；和图9是多个垫片的等角图，该多个垫片被布置为邻近垫片固定表面。
具体实施例方式
参考图1，图1示出了MRI磁体组件10的正视图。MRI磁体组件10包括相对的磁场发生组件12，该相对的磁场发生组件12在空气隙14之内产生一磁场，该空气隙14形成于组件12之间。多个垫片18被设置在磁场发生组件12的每个相对的表面16上，该垫片18被布置用来校正磁场中的不均匀性。磁场发生组件12可由一个或多个磁轭或支撑部件(未示出)连接。
磁场发生组件12可包括任何用于在空气隙14内产生磁场的布置类型，在空气隙14处相对的表面16设置为容纳用于校正磁场中不均匀性的垫片18。例如，每个磁场发生组件12可包括固定在一个或多个磁场发生元件22上的磁极片20和固定在磁极片20上的梯度板21，其中相对的表面16形成于梯度板21的相对表面上。例如，这种在题目为“MRI磁场发生器”的专利号为6,275,128的美国专利中进行了说明。在另一个例子中，每个磁场发生组件12可包括固定在一个或多个磁场发生元件22上的磁极片20，而没有梯度板21，其中相对的表面16被限定在磁极片20的相对表面上。例如这种布置在题目为“用于MRI的磁场发生设备”的专利号为5,229,723的美国专利中、题目为“具有屏蔽的开放式超导磁体”的专利号为5,883,558的美国专利中和题目为“具有屏蔽的开放式磁体”的专利号为5,994,991的美国专利中进行了说明。在另一个例子中，磁场发生组件12可不包括极靴20或梯度板21，其中相对的表面16被限定在磁场发生元件22上。
磁场发生元件22可包括永久磁体、电磁体(例如电阻性线圈、超导线圈，和类似物)，或者两者的结合物。每个垫片18可由磁性(例如铁)材料或者永久磁性材料构成。
在图1的实施例中，垫片18被直接固定在表面16上。另外，垫片18可通过垫片固定器24固定在表面16上，如图2-4中所示。
参考图2和图3，垫片固定器24可由一个三层非磁性薄盘结构组成，此结构包括底盘26、固定器盘2 8和盖盘32，在固定器盘28上有孔或槽30，这些孔或槽可用作容纳垫片18的凹坑。固定垫片18的槽30以预定的图形存在于固定器盘28中，如下文中进一步详细讨论的那样。垫片固定器24可由诸如氯乙烯树脂、玻璃纤维强化塑料或者其它这类非磁性材料组成。在一优选实施例中，垫片固定器24可包含两层结构，该两层结构包括固定器盘28和盖盘32。在另一个优选实施例中，如图4中所示，垫片固定器24可包含带有槽30的单层结构，该槽30被设置在固定器盘28上。在此实施例中，垫片被直接固定在垫片固定器24上。例如，可调整槽30的大小，以便在固定器盘28和垫片18之间提供干涉配合。固定器盘28和垫片18之间的干涉配合提供足够的摩擦来防止垫片18在磁场力的作用下移出槽30。在另一个例子中，垫片可通过粘合剂固定在垫片固定器24上。
垫片固定器24可构造为使各个盘26、28和32适当地设置并固定在适当的位置。在图2和图3的实施例中，当固定器盘28被放置好并固定在底盘26之后，用于调节磁场均匀性的磁性材料垫片18或永久磁体垫片18被插入规定的槽30，而且，如果需要的话，填充材料或衬垫(未示出)被放置在垫片18与盖盘32的间隙内，和/或垫片18与固定器盘28之间的间隙内，然后连接盖盘32来将所有物体固定在一起。这样得到的垫片固定器24与表面16对齐，并固定在表面16上。在图4的实施例中，磁性材料垫片18或永久磁体垫片18被固定在规定的槽30上，并且这样得到的垫片固定器24与表面16对齐，并固定在表面16上。
参考图5，图5示出了表面16的俯视图，在该图上叠加一蜘蛛网状几何网格图形50。图5的表面16可以是上磁场发生组件12(图1、3和4)，也可以是下磁场发生组件12(图1、3和4)。蜘蛛网状几何网格图形50可表示为在表面16的扩展平面上形成的二维网格。网格由多个同心几何形状52和多条从几何形状52的公共中心56辐射出的线54形成，几何形状52中的每一个几何形状至少有五个边。在图6的实施例中，同心几何形状52为八边形；然而，同心几何形状可为五边形、六边形、七边形，等等。垫片18相对于网格图形50放置。就是说，垫片18可放置在辐射线54和几何形状52之间的交叉点上，或者放置在由辐射线54和几何形状52限定的四边形57上，这样造成多个垫片沿着多个同心几何形状布置。网格图形50的不连续性为紧固件58而设，例如，如果需要的话，紧固件58用于将垫片固定器24装配在表面16上，该表面16在图2-4的实施例中的梯度板21上形成。
如上文所述的，槽30容纳垫片18。参考图5以及图1的实施例，垫片18可附着于蜘蛛网状几何网格图形50的表面16上。参考图5以及图2-4的实施例，垫片固定器24可通过在固定器盘28上叠加蜘蛛网状几何网格图形50，并且在固定器盘28上的网格图形50的交叉点上或四边形57上设置槽30来构建。
参考图6，图6示出了表面16的俯视图，在该图上叠加一点阵几何网格图形70。点阵几何网格图形70是可替代图5的蜘蛛网状几何网格图形50的几何图形。表面16可以是上磁场发生组件12(图1、3和4)，也可以是下磁场发生组件12(图1、3和4)。点阵几何网格图形70可表示为在表面16的扩展平面上形成的二维网格。网格图形70的构建是由多个等间距的平行线72形成列，并且由多个垂直于平行线72延伸的平行线76形成行。垫片18相对于网格图形70而放置。就是说，垫片18放置在网格图形70形成的交叉点上或者长方形之内，来形成按行列排列的垫片18。网格图形70的不连续性为紧固件58而设，例如，按照需要，紧固件58用于将垫片固定器24装配在表面16上，该表面16在图2-4的实施例中的梯度板21上形成。
参考图6以及图1的实施例，垫片18可附着在点阵几何网格图形70中的表面16上。另外，参考图6以及图2-4的实施例，垫片固定器24可通过在固定器盘28上叠加点阵几何网格图形70，并且在固定器盘28上的网格图形70的交叉点上或长方形之内设置槽30来构建。槽30容纳垫片18。
多种永久磁体和磁性材料垫片18的构形可用来校正由磁场发生组件12产生的磁场中的不均匀性。在一种构形中，网格中不同区域的垫片18的材料可以不相同。例如，永久磁体垫片18可定位在网格的一些区域，而磁性材料垫片18可定位在其它区域。在另一种构形中，磁场中的不均匀性通过改变网格中不同区域使用的垫片18的材料的量来校正。例如，具有较少材料的垫片18定位在网格的某些区域，而具有较多材料的垫片18定位在其它区域。在另一种构形中，垫片18可布置为使它们的磁化方向与各自磁场发生组件12的磁化方向相同或相反，按照需要进行磁场均匀的分布。每种构形可分别应用或组合应用。
因为由磁场发生组件12产生的磁场尤其受制作MRI磁体所采用的精确度和MRI磁体放置的周围环境的巨大影响，通常在每个单独的MRI磁体安装到其被使用的环境中以后(例如医院或实验室)，对每个单独的MRI磁体组件进行磁场不均匀性的校正。这种校正可通过用任何已知的方法确定保证磁场均匀所需的合适的垫片18的构形来实现。例如，可采用线性编程方法，比如在题目为“用于主动和被动调整磁体的方法”的专利号为5,760,585的美国专利中说明的方法。在另一个例子中，可采用谐波调整方法，比如在题目为“用于被动调整开放式磁体的方法”的专利号为5,623,430的美国专利中说明的方法。
在图1-6的实施例中，垫片18可由磁性或永久磁性材料构成，按照需要校正磁场中的不均匀性。在垫片18由永久磁体材料构成之处，垫片18可采用任何已知的布置相对于表面16来定位。然而，在垫片18由磁性材料构成之处，垫片18最好如图7所示来布置。
参考图7，图7示出了在图1-6的实施例中使用的磁性材料垫片18的例子。磁性材料垫片18是平的长方形板，该长方形板具有顶面80、底面82、侧面84和86、和相对的工作面88、90。底面82定位于接近表面16，并且顶面80定位于表面16的远端，这样具有最大表面积的工作面88和90可与由磁场发生组件12产生的磁场的方向对齐，磁场的方向如箭头98所指示。例如，在图2和图3的实施例中，磁性材料垫片18布置为使底面82接触底盘26，并且顶面80接触盖盘32；在图4的实施例中，侧面84、86和相对的工作面88、90被固定器盘28捕捉，底面82接近表面16；并且在图1的实施例中，底面82附着在表面16上。磁性材料垫片18之内感生的磁通量由线92指示，线92从顶面80伸出一段距离x。
磁性材料垫片18的布置与图8A和8B所示的现有技术中采用的布置不同。在现有技术中，垫片18的面88定位于接近表面16，以便板状的垫片18靠着表面16平放。现有技术的布置将感生一磁通量，如线94所指示，线94从磁性材料垫片18的表面90伸出一段距离y。在其它所有的参数相等(例如，材料，大小等等)的情况下，磁通量从如图8A和8B布置的磁性材料垫片18伸出的距离y比磁通量从如图7布置的磁性材料垫片18伸出的距离x要小。换句话说，如图8A和8B布置的磁性材料垫片18与图7布置的磁性材料垫片18相比，它提供较弱的磁场。此外，因为顶面80的表面积比表面90小，如图7布置的磁性材料垫片18与如图8A和8B布置的磁性材料垫片18相比，更容易被磁化。这样，如图7所示来布置磁性材料垫片18的结果是更集中的磁通量伸进感兴趣区更远的距离，用于减少磁场中的不均匀性。因为图7中的布置提供了从磁性材料垫片18中伸出更远距离的更强磁场，磁性材料垫片18的大小可减小到小于图8A和8B的现有技术布置中垫片可能具有的大小。而且，因为磁性材料垫片18趋向于具有最大表面积的面与主磁场(最小能态)对齐，图7的构形将磁性材料垫片18放置在一个更稳定的状态，因此减少了调整过程中所必须的努力和注意。其结果是，完成调整过程的时间减少到低于现有技术的垫片布置可能花费的时间。这样，与现有技术布置相比，采用图7的垫片布置导致更少的垫片材料、更低的垫片成本、更轻的垫片重量和更短的调整时间。
参考图9，多个磁性材料垫片18采用图7的构形布置在表面16上。如图9所示，磁性材料垫片18可连接成组，每个磁性材料垫片18的底面82接近表面16。磁性材料垫片18的高度h和宽度w可根据需要而变化，来减少由磁场发生组件12产生的磁场中的不均匀性。高度h是顶面80和底面82之间的距离，宽度w是侧面84和86之间的距离。尽管本发明已经通过参考优选实施例来做了阐述，本领域的普通技术人员应理解在不偏离本发明的范围的前提下，可以进行多种变化，并且本发明中的元件也可由等效物来代替。此外，在不偏离本发明基本范围的前提下，可进行很多改进来使特殊的情况或材料适用于本发明的教导的内容。因此，本发明无意局限于所披露的作为实施本发明的最佳模式的特定实施例，本发明还应包括落入所附权利要求书范围内的所有实施例。而且，术语第一、第二等的使用并不表示任何重要性的级别，而是用于将一个元件与另一个元件区别开来。
权利要求
1.一种用于磁共振成像磁场发生组件(12)的磁场调整系统，该磁场调整系统包含多个相对于磁场发生组件(12)的表面(16)固定的垫片(18)，该多个垫片(18)至少部分地校正由磁场发生组件(12)产生的磁场中的不均匀性，该多个垫片(18)沿多个同心几何形状(52)布置，多个同心几何形状(52)中的每一个同心几何形状至少有五个边。
2.根据权利要求1所述的磁场调整系统，其特征在于，在该多个垫片(18)中至少有一个垫片(18)直接连接至该表面(16)。
3.根据权利要求1所述的磁场调整系统，其特征在于，该多个垫片(18)通过一垫片固定器(24)相对于该表面(16)固定。
4.根据权利要求1所述的磁场调整系统，其特征在于，在该多个垫片(18)中至少有一个垫片(18)是磁性材料平板，该平板包括顶面(80)、底面(82)、侧面(84)、(86)和工作面(88)、(90)，其中该至少一个垫片(18)被布置为使该底面(82)是该平板相对于该表面(16)最接近的部分，该顶面(80)是该平板相对于表面(16)最远的部分，并且该工作面(88)、(90)与由磁场发生组件(12)产生的磁场方向对齐。
5.根据权利要求1所述的磁场调整系统，其特征在于，在该多个垫片(18)中至少有两个垫片(18)连接起来成为一组，该至少两个垫片(18)中的每个垫片(18)包含一磁性材料平板，该磁性材料平板包括顶面(80)、底面(82)、侧面(84)、(86)和工作面(88)、(90)，其中该底面(82)是该平板相对于该表面(16)最接近的部分，该顶面(80)是该平板相对于表面(16)最远的部分，并且该工作面(88)、(90)与由磁场发生组件(12)产生的磁场方向对齐。
6.一种用于磁共振成像磁场发生组件(12)的磁场调整系统，该磁场调整系统包含第一多个垫片(18)，其相对于磁场发生组件(12)的表面(16)固定，来至少部分地校正由磁场发生组件(12)产生的磁场中的不均匀性，该第一多个垫片(18)以沿该表面(16)延伸的一系列列的形式来布置。第二多个垫片(18)，其相对于磁场发生组件(12)的表面(16)固定，来至少部分地校正由磁场发生组件(12)产生的该磁场中的该不均匀性，该第二多个垫片(18)以沿该表面(16)延伸的一系列行的形式来布置，该行与该列垂直。
7.根据权利要求6所述的磁场调整系统，其特征在于，至少一个垫片(18)直接连接至该表面(16)。
8.根据权利要求6所述的磁场调整系统，其特征在于，第一和第二多个垫片(18)通过一垫片固定器(24)相对于该表面(16)固定。
9.根据权利要求6所述的磁场调整系统，其特征在于，至少一个垫片(18)是一平板，该平板包括顶面(80)、底面(82)、侧面(84)、(86)和工作面(88)、(90)，其中该至少一个垫片(18)被布置为使该底面(82)是该平板相对于该表面(16)最接近的部分，该顶面(80)是该平板相对于该表面(16)最远的部分，并且该工作面(88)、(90)与由磁场发生组件(12)产生的磁场的方向对齐。
10.根据权利要求6所述的磁场调整系统，其特征在于，至少两个垫片(18)连接起来成为一组，该至少两个垫片(18)中的每一个垫片包含一平板，该平板包括顶面(80)、底面(82)、侧面(84)、(86)和工作面(88)、(90)，该底面(82)是该平板相对于该表面(16)最接近的部分，该顶面(80)是该平板相对于该表面(16)最远的部分，并且该工作面(88)、(90)与由磁场发生组件(12)产生的磁场的方向对齐。
11.一种用于调整磁共振成像磁场发生组件(12)的方法，该方法包含按照一种图形布置多个垫片(18)，该图形在沿磁共振成像磁场发生组件(12)的表面(16)扩展的平面中形成，该图形包括多个同心几何形状(52)，该同心几何形状(52)中的每一个同心几何形状至少有五个边。
12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，在该多个垫片(18)中至少一个垫片(18)是磁性材料平板，该磁性材料平板包括顶面(80)、底面(82)、侧面(84)、(86)和工作面(88)、(90)，其中该布置还包括该至少一个垫片(18)定位成使该底面(82)是该平板相对于该表面(16)最接近的部分，该顶面(80)是该平板相对于该表面(16)最远的部分，并且该工作面(88)、(90)与由磁场发生组件(12)产生的磁场的方向对齐。
13.根据权利要求12所述的方法，该方法还包含选择该至少一个垫片(18)的高度来至少部分地校正由该磁场发生组件(12)产生的磁场中的不均匀性，该高度为该顶面(80)和该底面(82)之间的距离。
14.根据权利要求13所述的方法，该方法还包含选择该至少一个垫片(18)的宽度来至少部分地校正由该磁场发生组件(12)产生的磁场中的不均匀性，该宽度为该侧面(84)和(86)之间的距离。
15.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，在该多个垫片(18)中至少两个垫片(18)中的每一个垫片包含一磁性材料平板，该磁性材料平板包括顶面(80)、底面(82)、侧面(84)、(86)和工作面(88)、(90)，其中该布置还包括连接该至少两个垫片(18)；和该至少两个垫片定位成使该底面(82)是该平板相对于该表面(16)最接近的部分，该顶面(80)是该平板相对于该表面(16)最远的部分，并且该工作面(88)、(90)与由磁场发生组件(12)产生的磁场的方向对齐。
16.一种用于调整磁共振成像磁场发生组件(12)的方法，该方法包含按照沿磁共振成像磁场发生组件(12)的表面(16)延伸的多个列来布置第一多个垫片(18)；和按照沿该表面(16)延伸的多个行来布置第二多个垫片(18)，该多个行与该多个列垂直。
17.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，至少一个垫片(18)是磁性材料平板，该磁性材料平板包括顶面(80)、底面(82)、侧面(84)、(86)和工作面(88)、(90)，其中该布置还包括该至少一个垫片(18)定位成该底面(82)是该平板相对于该表面(16)最接近的部分，该顶面(80)是该平板相对于该表面(16)最远的部分，并且该工作面(88)、(90)与由磁场发生组件(12)产生的磁场的方向对齐。
18.根据权利要求17所述的方法，该方法还包含选择该至少一个垫片(18)的高度来至少部分地校正由该磁场发生组件(12)产生的磁场中的不均匀性，该高度为该顶面(80)和该底面(82)之间的距离。
19.根据权利要求18所述的方法，该方法还包含选择该至少一个垫片(18)的宽度来至少部分地校正由该磁场发生组件(12)产生的磁场中的不均匀性，该宽度为该侧面(84)和(86)之间的距离。
20.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，至少两个垫片(18)中的每一个垫片包含一磁性材料平板，该磁性材料平板包括顶面(80)、底面(82)、侧面(84)、(86)和工作面(88)、(90)，其中该布置还包括连接该至少两个垫片(18)；和该至少两个垫片(18)定位成使该底面(82)是该平板相对于该表面(16)最接近的部分，该顶面(80)是该平板相对于该表面(16)最远的部分，并且该工作面(88)、(90)与由磁场发生组件(12)产生的磁场的方向对齐。
21.一种磁共振成像磁体组件(10)包含一磁场发生组件(12)；和多个垫片(18)相对于该磁场发生组件(12)的表面(16)固定，用来至少部分地校正由该磁场发生组件(12)产生的磁场中的不均匀性，在该多个磁性材料垫片(18)中至少一个磁性材料垫片(18)是磁性材料平板，该磁性材料平板包括顶面(80)、底面(82)、侧面(84)、(86)和工作面(88)、(90)，并且该至少一个垫片(18)布置为使该底面(82)是该平板相对于该表面(16)最接近的部分，该顶面(80)是该平板相对于该表面(16)最远的部分，并且该工作面(88)、(90)与由磁场发生组件(12)产生的磁场的方向对齐。
22.根据权利要求21所述的磁共振成像磁体组件(10)，其特征在于，该多个磁性材料垫片(18)沿多个同心几何形状(52)布置，该多个同心几何形状(52)中的每个同心几何形状至少有五个边。
23.根据权利要求21所述的磁共振成像磁体组件(10)，其特征在于，该多个磁性材料垫片(18)按照行和列来布置。
24.根据权利要求21所述的磁共振成像磁体组件(10)，其特征在于，该至少一个垫片(18)通过一垫片固定器(24)相对于表面(16)固定，该垫片固定器(24)包括其上配置有槽(30)的固定器盘(28)，该槽(30)容纳该至少一个垫片(18)。
25.根据权利要求24所述的磁共振成像磁体组件(10)，其特征在于，该垫片固定器(24)还包括盖盘(32)用来将该垫片(18)固定在该固定器盘(28)的该槽(30)之内。
26.根据权利要求24所述的磁共振成像磁体组件(10)，其特征在于，该至少一个垫片(18)直接固定在该表面(16)上。
全文摘要
本发明公开了用于调整磁共振成像(MRI)磁场发生组件(12)的方法和系统，其中多个垫片(18)相对于磁场发生组件的表面(16)固定，来至少部分地校正由磁场发生组件产生的磁场中的不均匀性。一方面，垫片沿多个同心几何形状(52)布置，每个同心几何形状至少具有五个边。可选择地，垫片沿多个行和列布置，其中行与列垂直。另一方面，至少一个垫片是磁性材料平板，该磁性材料平板包括顶面(80)、底面(82)、侧面(84)、(86)和工作面(88)、(90)。底面是平板相对于磁场发生组件最接近的部分，顶面是平板相对于磁场发生组件最远的部分，并且工作面与由磁体发生组件产生的磁场的方向对齐。
文档编号H01F7/20GK1480742SQ03152208
公开日2004年3月10日 申请日期2003年7月29日 优先权日2002年7月29日
发明者J·黄, B·-X·徐, J 黄, ば 申请人:Ge医疗系统环球技术有限公司