专利名称:一种环形烧结钕铁硼磁体的制作方法
【专利摘要】本实用新型的环形烧结钕铁硼磁体，包括钕铁硼磁体本体，其特征在于，所述钕铁硼磁体本体由梅花形状的第一磁体和包裹在所述第一磁体外部的圆柱状的第二磁体复合而成；所述第一磁体的中心设置有通孔；所述第二磁体的外部包裹镍磷镀层，镍磷镀层外部为环氧树脂涂层。所述镍磷镀层厚度为6μm～9μm。所述环氧树脂涂层厚度为20μm～25μm。所述第一磁体为N45钕铁硼磁体。所述第二磁体为N50钕铁硼磁体。其中，钕铁硼磁体的几何尺寸不限。
【专利说明】 一种环形烧结钕铁硼磁体
【技术领域】
[0001]本实用新型属于磁性材料领域，具体涉及一种钕铁硼磁性材料。
【背景技术】
[0002]钕铁硼磁铁可分为粘结钕铁硼和烧结钕铁硼两种。粘结实际上就是注塑成型，而烧结是抽真空通过高温加热成型！钕铁硼磁铁为至目前为止具有最强磁力的永久磁铁。材料牌号有N35-N52 ;各种形状可按具体要求加工:圆形，方块，打孔，磁瓦，磁棒，凸型，梯形；尽管有这些优点，但是表面容易生锈，所以通常需要作一些保护性表面处理:镀镍，镀锌，镀金，镀环氧树脂等。钕铁硼磁铁的适用的环境温度是200度以下，主要应用于电子、电器、包装、电机、玩具、皮具、汽车机械等。
[0003]钕铁硼永磁体中的钕是一种稀土元素，化学活性很强，其标准平衡电位是-2.431V，在空气中易被氧化，耐蚀性差。并且在烧结钕铁硼永磁材料中富B相、富Nd相、Nd2Fel4B相的电化学电位各不相同，富Nd相的电极电位负于基体Nd2Fel4B相，晶界上数量众多的富钕相，在湿热的环境中形成腐蚀微电池，组成了许多大阴极(Nd2Fel4B相)与小阳极(Nd相)组成的微电池群。富Nd相首先被腐蚀，形成晶间腐蚀，严重时，产生大量Nd的氧化物和氢化物使材料粉化，从而导致磁性能下降。因此，一般都要对钕铁硼永磁体表面进行涂层处理，目前使用的涂层技术有:电镀Ni层、电镀Zn层、组合电镀NiCuNi层、化学镀Ni层、电泳以及真空溅射铝膜等技术。
[0004]采用上述方法获得的钕铁硼永磁体的表面涂层，不能完全满足钕铁硼永磁体的防腐和使用性能，限制了钕铁硼磁体在风电等耐蚀性、稳定性方面有更高要求的领域的应用。
【发明内容】
[0005]本实用新型的目的是提供一种耐腐蚀性强，磁性能好的环形烧结钕铁硼磁体。
[0006]本实用新型的环形烧结钕铁硼磁体，包括钕铁硼磁体本体，其特征在于，所述钕铁硼磁体本体由梅花形状的第一磁体和包裹在所述第一磁体外部的圆柱状的第二磁体复合而成；所述第一磁体的中心设置有通孔；所述第二磁体的外部包裹镍磷镀层，镍磷镀层外部为环氧树脂涂层。
[0007]所述镲磷镀层厚度为6 μ m?9 μ m。
[0008]所述环氧树脂涂层厚度为20 μ m?25 μ m。
[0009]所述第一磁体为N45钕铁硼磁体。
[0010]所述第二磁体为N50钕铁硼磁体。
[0011]其中，钕铁硼磁体的几何尺寸不限。
[0012]本实用新型环形烧结钕铁硼磁体，目的主要是增强环形钕铁硼磁体的磁性能，保持钕铁硼持久的磁性能。以及防止钕铁硼磁体材料受腐蚀而发明的。与现有技术相比，本实用新型的有益效果是:钕铁硼磁体本体由梅花形状的第一磁体和包裹在所述第一磁体外部的圆柱状的第二磁体复合而成；所述第一磁体的中心设置有通孔；从增强了环形磁铁的磁性能，磁铁的磁性不易消失。同时所述第二磁体的外部包裹镍磷镀层，镍磷镀层外部为环氧树脂涂层。形成复合保护层，达到了良好的耐腐蚀效果。提高了稀土永磁器件的可靠性和耐用年限，镀层的盐雾试验可达160小时以上。
【附图说明】
[0013]图1是本实用新型环形烧结钕铁硼磁体结构示意图。
【具体实施方式】
[0014]下面给出的实施例拟对本实用新型作进一步说明，但不能理解为是对本实用新型保护范围的限制，本领域技术人员根据本实用新型内容对本实用新型的一些非本质的改进和调整，仍属于本实用新型的保护范围。
[0015]如图1所示，环形烧结钕铁硼磁体，包括钕铁硼磁体本体，钕铁硼磁体本体由梅花形状的第一磁体I和包裹在所述第一磁体I外部的圆柱状的第二磁体2复合而成；所述第一磁体I的中心设置有通孔5 ;所述第二磁体2的外部包裹镍磷镀层3，镍磷镀层3外部为环氧树脂涂层4。镲磷镀层3厚度为6 μ m?9 μ m。环氧树脂涂层4厚度为20 μ m?25 μ m。第一磁体I为N45钕铁硼磁体。第二磁体2为N50钕铁硼磁体。
【权利要求】
1.一种环形烧结钕铁硼磁体，包括钕铁硼磁体本体，其特征在于，在所述钕铁硼磁体本体由梅花形状的第一磁体和包裹在所述第一磁体外部的圆柱状的第二磁体复合而成；所述第一磁体的中心设置有通孔；所述第二磁体的外部包裹镍磷镀层，镍磷镀层外部为环氧树脂涂层。2.根据权利要求1所述的钕铁硼磁体，其特征在于所述镍磷镀层厚度为6μ m?9 μ m。3.根据权利要求1所述的钕铁硼磁体，其特征在于所述环氧树脂涂层厚度为20μ m?25 μ m04.根据权利要求1所述的钕铁硼磁体，其特征在于所述第一磁体为N45钕铁硼磁体。5.根据权利要求1所述的钕铁硼磁体，其特征在于所述第二磁体为N50钕铁硼磁体。
【文档编号】H01F7-02GK204288995SQ201420783125
【发明者】齐丽平 [申请人]太原新力磁业有限公司