专利名称：滤色镜基板的制造方法及其制造装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种进行彩色显示时使用的滤色镜基板的制造方法其及制造装置。另外，本发明涉及一种作为在基板上形成发光要素来构成的构造体的电致发光基板的制造方法其及制造装置。另外，本发明涉及一种用于制造所谓液晶装置或电致发光装置等光电装置的制造方法。另外，本发明涉及一种用于制造便携电话机、便携信息终端机、PDA(PersonalDigital Assistant)等电子机器的制造方法。
背景技术：
近年来，在便携电话机、便携信息终端机、PDA等电子机器中广泛使用所谓液晶装置或电致发光装置等光电装置。例如，为了视觉显示关于电子机器的各种信息，使用光电装置。
在将液晶装置作为光电装置的情况下，当通过该液晶装置进行彩色显示时，在液晶装置的内部设置滤色镜基板。滤色镜基板例如通过在由透光性玻璃等形成的基材上形成滤色镜来制作。所谓滤色镜是通过在平面内按规定排列来排列R(红)、G(绿)、B(蓝)等3色过滤器要素、或C(蓝绿)、M(洋红)、Y(黄色)等3色过滤器要素来形成的光学要素。
在将电致发光装置作为光电装置的情况下，通常在该电致发光装置的内部设置电致发光基板。另外，该电致发光基板例如通过在由透光性玻璃等形成的基材上将多个发光要素排列成矩阵状来形成。
因此，在基材上形成滤色镜来制作滤色镜基板时，即在基材上形成多个过滤器要素时，以前已知利用喷墨技术向基材上提供过滤器要素材料的方法。根据该方法，从喷嘴等液滴喷出部向基材上喷出过滤器材料，作为液滴(例如参照专利文献1)。
专利文献1特开2002-372614(第3页，图1)。
在上述现有滤色镜基板的制造方法中，水平放置喷出液滴的机材，使具有喷嘴的记录头在水平面内平行移动。若如此水平放置基材，则存在尘埃等异物容易附着在基材上的问题。
发明内容
本发明鉴于上述问题作出，其目的在于提供一种可防止异物附着在基材上的滤色镜基板的制造方法其及制造装置、电致发光基板的制造方法其及制造装置、光电装置的制造方法与电子机器的制造方法。
为了实现上述目的，本发明的滤色镜基板的制造方法，用于制造具有基材和形成于该基材上的滤色镜的滤色镜基板，其特征在于具有从液滴喷出部向所述基材喷出作为液滴的液态过滤器材料的工序，在该工序中，在垂直或大致垂直地配置所述基材的状态下喷出所述液滴。
在上述结构中，[基材]例如通过透光性玻璃或透光性塑料等形成。另外，[过滤器材料]由具有R(红)、G(绿)、B(蓝)或C(蓝绿)、M(洋红)、Y(黄色)颜色的材料构成。该过滤器材料的材质不特别限定，例如可以是以树脂的透明材料为主体的各色颜料与乙二醇等二醇类溶媒构成的液态物。另外，也可以是将由颜料、表面活性剂和溶媒构成的固态成分溶入适当溶媒中构成的液态物。
另外，[喷出作为液滴的过滤器材料的工序]，通过液滴喷出技术的所谓喷墨技术来实现。该喷墨技术期望是例如在墨水存储室中附设压电元件和喷嘴、对应于压电元件的振动引起的墨水存储室的体积变化、从喷嘴中喷出墨水、即作为液滴的液态物的技术。另外，喷墨技术也可是例如通过加热使存储在墨水存储室内的墨水膨胀来从喷嘴中喷出作为液滴的墨水的技术。另外，[液滴喷出部]例如由喷墨头的喷嘴等细微的开口来构成。
根据上述结构的滤色镜基板的制造方法，因为垂直或大致垂直地配置基材，所以可防止尘埃等异物载于该基材上，因此，可防止异物附着在该基材上。另外，在现有的旋涂中，不能垂直竖立基材，但根据使用液滴喷出技术的本发明，可在垂直竖立基材的状态下对该基材喷出液滴。
下面，本发明的另一滤色镜基板的制造方法，用于制造具有基材和形成于该基材上的滤色镜的滤色镜基板，其特征在于具有从液滴喷出部向所述基材喷出作为液滴的液态过滤器材料的工序，在该工序中，在相对垂直角度约为±5度的范围内倾斜所述基材。在该制造方法中，与上述制造方法相同名称的构成要素起到相同的作用，因此这里省略说明。
根据该滤色镜基板的制造方法，因为在角度相对垂直约倾斜±5度的状态下配置基材，所以可防止尘埃等异物载于该基材上，因此，可防止异物附着在该基材上。根据本发明人的实验，若基板相对垂直的倾斜角度在5度以内，则可大幅度降低异物对该基板的附着量。
在上述结构的滤色镜基板的制造方法中，最好在将从所述液滴喷出部的液滴的喷出方向设定为所述基材的法线方向或大致法线方向的状态下，喷出所述液滴。从而，容易控制液滴对基材的弹落位置。
在上述结构的滤色镜基板的制造方法中，最好向该基材提供电位与所述基材的带电电位相反的离子。从而，因为可去除基材的带电，所以可防止异物因静电而附着到基材上。另外，此时最好从所述基材的不与所述液滴喷出部对置的一侧提供所述离子。从而，可向基材提供足够量的离子，并且不会由于存在提供离子的机构而妨碍液滴喷出部的动作。
在上述结构的滤色镜基板的制造方法中，最好将所述基材置于存在上下方向气流的房间中。作为制造半导体器件等由精细结构构成的电子部件的环境，已知所谓无尘室。在该无尘室中，例如由沿上下方向流动的气流回收异物，将无尘室内保持在不存在异物的气氛。这样，若在气流沿上下方向流动的环境下水平放置基材，则异物容易载于该基材上。相反，若如本发明那样垂直地配置基材，则可大幅度降低异物载于该基材上。
在上述结构的滤色镜基板的制造方法中，最好在所述气流的比所述基材还高的上流侧配置防尘过滤器。如上所述，虽然在无尘室内气流沿上下方向流动，但配置在基材上游的防尘过滤器回收异物，所以可进一步降低异物载于该基材上。
在上述结构的滤色镜基板的制造方法中，最好所述液滴喷出部是使用压电元件的喷墨头。另外，在上述结构的滤色镜基板的制造方法中，最好所述液滴喷出部是通过由热能产生的气泡喷出液态过滤器材料的喷墨头。
下面，本发明的滤色镜基板的制造装置，用于制造具有基材和形成于该基材上的滤色镜的滤色镜基板，其特征在于具有垂直或大致垂直地支撑所述基材的基材支撑机构；从液滴喷出部向所述基材喷出作为液滴的液态过滤器材料的液滴喷出机构；和使所述基材相对所述液滴喷出部相对平行移动的扫描移动机构。
上述[基材支撑机构]可采用能垂直或大致垂直地支撑基材的结构，但例如也可考虑在使基材面接触作为面积比基材稍大的板状部件的基座的状态下、空气吸引将基材吸附到基座上并固定的结构，或在使基材面接触基座的状态下通过适当的机械夹持机构将基材固定在基座上的结构，或用适当的粘接剂将基材固定在基座上的结构等。
另外，[液滴喷出机构]可使用能喷出作为液滴的液态物的任意结构的喷出装置。例如，可使用通过压电元件的振动使液体室的体积变化来喷出的结构，或通过加热和冷却来使液体室内的液态物膨胀和收缩来喷出的结构等。[液滴喷出部]可由喷嘴等细微的开口来构成。另外，[扫描移动机构]例如可由能使支撑基材的部件向彼此正交的两个方向平行移动的任意结构构成。作为这种结构，可采用称为X-Y工作台的面内平行移动机构。
根据上述结构的滤色镜基板的制造装置，因为垂直或大致垂直地配置基材，所以可防止尘埃等异物载于该基材上，因此，可防止异物附着在该基材上。另外，在现有的旋涂中，不能垂直竖立基材，但根据使用液滴喷出技术的本发明，可在垂直竖立基材的状态下对该基材喷出液滴。
下面，本发明的另一种滤色镜基板的制造装置，用于制造具有基材和形成于该基材上的滤色镜的滤色镜基板，其特征在于具有在相对垂直角度约为±5度的范围内倾斜支撑所述基材的基材支撑机构；从液滴喷出部向所述基材喷出作为液滴的液态过滤器材料的液滴喷出机构；和使所述基材相对所述液滴喷出部相对平行移动的扫描移动机构。在该制造装置中，因为名称与上述制造装置相同的构成要素实现相同功能，所以省略说明。
根据该滤色镜基板的制造装置，因为在角度相对垂直约倾斜±5度的状态下配置基材，所以可防止尘埃等异物载于该基材上，因此，可防止异物附着在该基材上。根据本发明人的实验，若基板相对垂直的倾斜角度在5度以内，则可大幅度降低异物对该基板的附着量。
下面，本发明的一种电致发光基板的制造方法，用于制造具有基材和形成于该基材上的发光要素的电致发光基板，其特征在于具有从液滴喷出部向所述基材喷出作为液滴的所述发光要素的材料的工序，在该工序中，在垂直或大致垂直地配置所述基材的状态下喷出所述液滴。
在上述结构中，[基材]例如通过透光性玻璃或透光性塑料等形成。另外，所谓[发光要素]是电致发光装置中使用的光电物质，是对应于电场的施加而以R(红)、G(绿)、B(蓝)等3原色的各色发光的物质。
另外，[喷出作为液滴的发光要素的材料的工序]，可以通过液滴喷出技术的所谓喷墨技术来实现。该喷墨技术期望是例如在墨水存储室中附设压电元件和喷嘴、对应于压电元件的振动引起的墨水存储室的体积变化、从喷嘴中喷出墨水、即作为液滴的液态物的技术。另外，喷墨技术也可是例如通过加热使存储在墨水存储室内的墨水膨胀来从喷嘴中喷出作为液滴的墨水的技术。另外，[液滴喷出部]例如由喷墨头的喷嘴等细微的开口来构成。
根据上述结构的电致发光基板的制造方法，因为垂直或大致垂直地配置基材，所以可防止尘埃等异物载于该基材上，因此，可防止异物附着在该基材上。另外，在现有的旋涂中，不能垂直竖立基材，但根据使用液滴喷出技术的本发明，可在垂直竖立基材的状态下对该基材喷出液滴。
下面，本发明的另一种电致发光基板的制造方法，用于制造具有基材和形成于该基材上的发光要素的电致发光基板，其特征在于具有从液滴喷出部向所述基材喷出作为液滴的所述发光要素的材料的工序，在该工序中，在相对垂直角度约为±5度的范围内倾斜所述基材。在该制造方法中，因为名称与上述制造方法相同的构成要素实现相同功能，所以省略说明。
根据该电致发光基板的制造方法，因为在角度相对垂直约倾斜±5度的状态下配置基材，所以可防止尘埃等异物载于该基材上，因此，可防止异物附着在该基材上。根据本发明人的实验，若基板相对垂直的倾斜角度在5度以内，则可大幅度降低异物对该基板的附着量。
在上述结构的电致发光基板的制造方法中，最好在将从所述液滴喷出部的液滴的喷出方向设定为所述基材的法线方向或大致法线方向的状态下，喷出所述液滴。从而，容易控制液滴对基材的弹落位置。
在上述结构的电致发光基板的制造方法中，最好向该基材提供电位与所述基材的带电电位相反的离子。从而，因为可去除基材的带电，所以可防止异物因静电而附着到基材上。另外，此时最好从所述基材的不与所述液滴喷出部对置的一侧提供所述离子。从而，可向基材提供足够量的离子，并且由于存在提供离子的机构，故不会妨碍液滴喷出部的动作。
在上述结构的电致发光基板的制造方法中，最好将所述基材置于存在上下方向气流的房间中。作为制造半导体器件等由精细结构构成的电子部件的环境，已知所谓无尘室。在该无尘室中，例如由沿上下方向流动的气流回收异物，将无尘室内保持在不存在异物的气氛下。这样，若在气流沿上下方向流动的环境下水平放置基材，则异物容易载于该基材上。相反，若如本发明那样垂直地配置基材，则可大幅度降低异物载于该基材上。
在上述结构的电致发光基板的制造方法中，最好在所述气流的比所述基材还高的上流侧配置防尘过滤器。如上所述，虽然在无尘室内气流沿上下方向流动，但配置在基材上游的防尘过滤器回收异物，所以可进一步降低异物载于该基材上。
在上述结构的电致发光基板的制造方法中，最好所述液滴喷出部是使用压电元件的喷墨头。另外，在上述结构的电致发光基板的制造方法中，最好所述液滴喷出部是通过由热能产生的气泡喷出材料的喷墨头。
下面，本发明的一种电致发光基板的制造装置，用于制造具有基材和形成于该基材上的发光要素的电致发光基板，其特征在于具有垂直或大致垂直地支撑所述基材的基材支撑机构；从液滴喷出部向所述基材喷出作为液滴的所述发光要素的材料的液滴喷出机构；和使所述基材相对所述液滴喷出部相对平行移动的扫描移动机构。
上述[基材支撑机构]、[液滴喷出机构]、[液滴喷出部]、[扫描移动机构]等各构成要素与上述本发明的滤色镜基板的制造装置中使用的相同名称成要素实现相同功能，所以省略这里的说明。
根据上述结构的电致发光基板的制造装置，因为垂直或大致垂直地配置基材，所以可防止尘埃等异物载于该基材上，因此，可防止异物附着在该基材上。另外，在现有的旋涂中，不能垂直竖立基材，但根据使用液滴喷出技术的本发明，可在垂直竖立基材的状态下对该基材喷出液滴。
下面，本发明的一种电致发光基板的制造装置，用于制造具有基材和形成于该基材上的发光要素的电致发光基板，其特征在于具有在相对垂直角度约为±5度的范围内倾斜支撑所述基材的基材支撑机构；从液滴喷出部向所述基材喷出作为液滴的所述发光要素材料的液滴喷出机构；和使所述基材相对所述液滴喷出部相对平行移动的扫描移动机构。该制造装置中，名称与上述制造装置相同的构成要素实现相同功能，所以省略说明。
根据该电致发光基板的制造装置，因为在角度相对垂直约倾斜0度～±5度的状态下配置基材，所以可防止尘埃等异物载于该基材上，因此，可防止异物附着在该基材上。根据本发明人的实验，若基板相对垂直的倾斜角度在5度以内，则可大幅度降低异物对该基板的附着量。
下面，本发明的一种光电装置的制造方法，用于制造在滤色镜基板上形成光电物质层所构成的光电装置，其特征在于具有实施上述的滤色镜基板的制造方法的工序。
该制造方法中使用的光电物质例如是液晶层，使用液晶层的光电装置是液晶装置。若在液晶装置中使用滤色镜基板，则可进行彩色显示。在本发明的光电装置的制造方法中，因为使用本发明的滤色镜基板的制造方法，所以可防止异物附着在滤色镜基板中使用的基材上，因此可进行高品质的彩色显示。
下面，本发明的一种光电装置的制造方法，用于制造在电致发光基板上形成电极所构成的光电装置，其特征在于具有实施上述的电致发光基板的制造方法的工序。
该制造方法中使用的光电物质，例如是电致发光的发光要素，使用该发光要素的光电装置是电致发光装置。在该电致发光装置中，若使用对应于R、G、B的3原色的发光要素作为发光要素，则可进行彩色显示。在本发明的光电装置的制造方法中，因为使用本发明的电致发光基板的制造方法，所以可防止异物附着在电致发光基板中使用的基材上，因此可进行高品质的彩色显示。
下面，本发明的一种电子机器的制造方法，用于制造具有光电装置和控制该光电装置的动作的控制机构的电子机器，其特征在于具有实施上述的光电装置的制造方法的工序。作为这种电子机器，例如是便携电话机、便携信息终端机、PDA、数码相机等各种机器。
根据本发明的光电装置的制造方法，可防止光电装置内部包含异物，可提供高质量的彩色显示。因此，根据使用该光电装置的制造方法实现的本发明的电子机器的制造方法，可制造具有高质量显示部的电子机器。
图1是表示本发明的滤色镜基板的制造装置及电致发光基板的制造装置一实施方式的立体图。
图2是表示图1所示制造装置的制造系统的电路方块图。
图3是表示图1所示制造装置的材料喷出部的立体图。
图4是局部截断表示图3所示材料喷出部的主要部分的内部结构的立体图。
图5是根据图4的D-D线的剖面图。
图6是表示本发明的滤色镜基板的制造方法一实施方式的主要工序的工序图。
图7是接着图6的工序图。
图8是接着图7的工序图，尤其是表示以(k)为目标的滤色镜基板的一实施方式。
图9是表示多个过滤器要素的排列实例的图，(a)表示条排列，(b)表示镶嵌排列，(c)表示三角形排列。
图10是用于说明本发明的光电装置的制造方法的图，是表示作为光电装置一实施方式的液晶装置的截面结构的剖面图。
图11是表示本发明的电致发光基板的制造方法一实施方式的主要工序的工序图。
图12是接着图11的工序图。
图13是接着图12的工序图。
图14是接着图13的工序图。
图15是接着图14的工序图。
图16是表示电致发光装置一例的1个象素大小的截面结构的剖面图。
图17是表示图16的电致发光装置的等效电路的电路图。
图18是表示由本发明的电子机器制造方法制造的电子机器一例的方块图。
图19是表示作为由本发明的电子机器制造方法制造的电子机器一例的数码相机的图。
图中1滤色镜基板，2基材，3遮光层，3a金属膜，4围堰，4a感光树脂，6、6g、6r、6b显示用点区域，7a抗蚀剂，8液滴，9g、9r、9b过滤器要素，20壳体，22喷墨头，27喷嘴(液滴喷出部)，39加压体，41压电元件，42a、42b电极，51液晶装置(光电装置)，52液晶面板，55液晶层，57a、57b基板，61a、61b基材，68滤色镜，100电致发光基板，101电致发光装置(光电装置)，111象素电极，111aITO膜，112反射膜，113、113r、113g、113bEL发光要素，113A空穴注入层，113B有机半导体膜，150数码相机(电子机器)，201滤色镜基板的制造装置，202过滤器形成部，203过滤器材料供给部，213记录头，M0过滤器材料，M1空穴注入层材料，M2有机半导体膜材料，S0波形，S1位图数据，S2喷出定时信号，S3位置信息，V有效显示区域。
具体实施例方式
(滤色镜基板的制造方法及其制造装置的实施方式)下面，举例说明本发明的滤色镜基板的制造方法及其制造装置。另外，本发明当然不限于该实施方式。据此说明的滤色镜基板的制造方法制造图8(k)所示的滤色镜基板1。
在说明滤色镜基板的制造方法之前，首先说明可实现该制造方法的制造装置。图1示出这种滤色镜基板的制造装置的一例。该制造装置201具有过滤器形成部202和过滤器材料提供部203。过滤器形成部202具有基座206、设置在该基座206上的X方向驱动系统207x和设置在同一基座206上的Y方向驱动系统207y。
将制造装置201设置在无尘室内。无尘室通常是在制造半导体器件等精细电子部件时使用的房间，例如如箭头E所示从上向下流过气流，由该气流回收尘埃等异物，将房间内维持在干净的环境。
X方向驱动系统207x具有驱动电机211、由该驱动电机211驱动后以自身的中心轴线为中心旋转的螺旋轴212。在螺旋轴212中螺旋嵌合记录头213。若驱动电机211动作、螺旋轴212顺时针旋转或逆时针旋转，则螺旋嵌合在其中的记录头213沿箭头X方向往复移动。
Y方向驱动系统207y具有固定在基座206上的螺旋轴216、旋转驱动嵌合在螺旋轴216中的嵌合部件的驱动电机217、和固定在驱动电机217上的平台218。平台218用作用于支撑接受过滤器形成处理的滤色镜基板的基材2的基材支撑机构。将该基材2搭载在平台218上，例如通过空气吸引吸附固定，或由适当的机械夹持机构固定，以不易错位。若Y方向电机217动作、上述嵌合部件顺时针旋转或逆时针旋转，则沿螺旋轴216引导平台218，使平台218沿箭头Y方向往复移动。Y方向为与上述X方向成直角的方向。
垂直、即与水平成直角或大致垂直地配置平台218。所谓[大致垂直]是指包含实质上与垂直无变化的程度的微小的偏差角度。这样，通过垂直或大致垂直地配置平台218，也垂直或大致垂直地配置被其支撑的基材2。
在构成Y方向驱动系统207y的螺旋轴216上配置清洁装置208，与该清洁装置208一体的电机209的输出轴螺旋嵌合在螺旋轴216中。若使电机209动作以将清洁装置208传输到记录头213的位置，则可由该清洁装置208来清洁记录头213。
在相对平台218背面的基座206的表面上，固定配置作为离子供给机构的离子发生器219。该离子发生器219的结构是公知的，所以省略详细说明，但该离子发生器219具有发生电位与支撑在平台218上的基材2的带电电位相反的离子的功能、和将发生的离子提供给平台218的功能。为了确实实现向平台218提供离子的功能，所以期望离子发生器219具有向平台218流过发生的离子的送风装置、例如具备旋转风扇的送风装置。
通过由该离子发生器219向平台218提供离子，可防止基材2带电，或可对带电的基材2除电，结果，可防止因静电作用使异物附着在基材2上。另外，因为本实施方式的离子发生器219构成为从基材2的不与记录头213对置的一侧提供离子，所以可向基材2提供足够量的离子，并且，也不会由于离子发生器219的存在而妨碍记录头213的动作。
在过滤器材料提供部203上配置存储过滤器材料的容器222。另外，容器222与记录头213由管道223连接。通过管道223，向记录头213内提供容器222内的液态物、即过滤器材料。
另外，在本实施方式中，当由R、G、B的3色形成滤色镜时，准备R色用、G色用、B色用3种制造装置201，将它们设置在不同部位，在各制造装置201的容器222中各容纳一种颜色的R、G、B各色的过滤器材料。
在图1的构成过滤器形成部202的记录头213的底面，设置1个或多个例如图3所示的喷墨头22。该喷墨头22具有大致长方形的壳体20，并在该壳体20的底面设置多个喷嘴27。这些喷嘴27具有直径约为0.02-0.1mm左右的微小开口。
在本实施方式中，将多个喷嘴27设置成两列，从而形成两条喷嘴列28、28。在各喷嘴列28中，喷嘴27以一定间隔设置在直线上。从箭头B所示方向向这些喷嘴列28提供液态物、即过滤器材料。提供的过滤器材料按照压电元件的振动，作为微小的液滴从各喷嘴27中喷出。另外，喷嘴列28的个数也可以是1个或3个以上。
如图4所示，喷墨头22具有例如不锈钢制的喷嘴板29、与其相对配置的振动板31、和将两者相互接合的多个分隔部件32。另外，在喷嘴板29与振动板31之间，由各分隔部件32形成存储过滤器材料用的多个存储室33和作为暂时保存过滤器材料的部位的集液部34。并且多个存储室33与集液部34借助通路38彼此连通。另外，在振动板31的适当部位形成过滤器材料提供孔36，借助图1的管道223将容器222连接到提供孔36上。从容器222提供的过滤器材料M0被填充到集液部34，并通过通路38填充到存储室33。
在构成喷墨头22的一部分的喷嘴板29上，设置从存储室33喷射状喷射过滤器材料用的喷嘴27。排列多个该喷嘴27并构成喷嘴列28如参照图3所述。另外，在振动板31对应于存储室33的面中安装用于加压过滤器材料的加压体39。加压体39如图5所示，具备压电元件41及夹持其的一对电极42a和42b。
压电元件41具有因电极42a和42b通电而向箭头C所示外侧突出地弯曲变形、从而使存储室33的容积增大的功能。另外，若存储室33的容积增大，则相当于该增大容积部分的过滤器材料M0从集液部34通过通路38流入存储室33内。
另一方面，若解除向压电元件41通电，则压电元件41与振动板31都恢复最初形状，存储室33也恢复最初容积。因此，位于存储室33内部的过滤器材料的压力上升，过滤器材料变为液滴8从喷嘴27喷出。另外，无论包含于过滤器材料中的溶剂等是何种类，液滴8也可作为微小液滴而从喷嘴27稳定喷出。
滤色镜基板的制造装置201具有图2所示的控制装置90。
该控制装置90控制图1的过滤器形成部202内的X方向电机211、Y方向电机217和记录头213的各要素的动作。另外，制造装置201还具有控制图1的清洁用电机209动作的控制部，但省略对该控制部的详细说明。
控制装置90具有由计算机构成的驱动信号控制部91、和由计算机构成的头位置控制部92。这些控制部可通过信号线97来彼此共享信息。驱动信号控制部91向模拟放大器93输出驱动记录头213用的波形S0。另外，驱动信号控制部91向定时控制部94输出表示向哪个位置喷出过滤器材料的位图数据S1。
模拟放大器93放大上述波形S0后，传送到中继电路95。
定时控制部94内置时钟脉冲电路，并按照上述位图数据S1，向中继电路95输出喷出定时信号S2。中继电路95按照从定时控制部94送出的喷出定时信号S2，将从模拟放大器93送出的波形S0输出到记录头213的输入端口。
头位置控制部92将关于记录头213位置的信息S3输出到X-Y控制电路96。X-Y控制电路96根据送来的记录头213的位置信息S3，向X方向电机211输出控制X方向的记录头213的位置的信号，并且，向Y方向电机217输出控制Y方向的平台218的位置的信号。
通过关于驱动信号控制部91和头位置控制部92的以上结构，记录头213在装载于平台218上的基材2到达希望的坐标位置时，喷出作为液滴的过滤器材料，由此，过滤器材料的液滴弹落并涂布在基材2上的希望位置上。
接着，说明图3所示的用喷墨头22进行的滤色镜基板的制造方法。图6-图8按工序顺序表示构成该制造方法的各工序。另外，图8(k)示出作为目标的滤色镜基板1。
首先，在图6(a)中，在由透光性玻璃、透光性塑料等形成的基材2上，作为形成遮光层3的材料，以铬、镍、铝等为材料，例如使用干镀法形成金属薄膜3a。此时，期望金属薄膜3a的厚度为0.1～0.5微米左右。
接着，在图6(b)中，以一样的厚度来涂布作为感光性树脂的抗蚀剂7a，借助掩膜曝光该抗蚀剂7a，并进行显影，将抗蚀剂7a形成为规定图案。接着，将该抗蚀剂图案作为掩膜，蚀刻金属薄膜3a，如图6(c)所示，在本实施方式中从箭头A看，形成规定形状的格子状的遮光层3。
接着，在图6(d)中，在遮光层3上以一样的厚度形成感光性树脂4a，对其实施光刻处理，如图7(e)所示，将规定图案的围堰4形成为与遮光层3相同的形状、即栅格形状。此时，期望围堰4的高度形成为1.0微米左右。围堰4用作将基材2的表面区分成喷出液滴用的区域的区分要素。
通过形成围堰4，在基材2上形成由围堰4区分的多个显示用点区域6。由于围堰4为栅格形状，所以多个显示用点区域6从箭头A方向看排列成矩阵状。作为围堰4，不必特别使用黑色的，例如可使用尿烷类或丙烯酸类固化型感光性树脂组合物。
另外，围堰4主要用于在显示用点区域6内容纳过滤器材料，最好在围堰4的表面上不附着过滤器材料。因此，作为围堰4的材质，期望具有不排斥过滤器材料的性质，即具有疏液性。因此，围堰4最好由氟类树脂、硅树脂或含二氧化钛树脂等形成。
如上所述，在基材2上形成围堰4后，将基材2装载在图1中平台218上的规定位置。之后，使X方向驱动系统207x和Y方向驱动系统207y动作，同时，使图4 的加压体39动作，由此进行如下的滤色镜形成处理。另外，在本实施方式中，如图9(a)所示，将G色过滤器要素9g、R色过滤器要素9r、B色过滤器要素9b形成为条排列。这里，所谓条排列是R、G、B各色沿纵向排列成1列、沿横向依次逐个重复变化的排列。
图9中，除条排列外，图9(b)中示出镶嵌排列，图9(c)中示出三角形排列。所谓镶嵌排列是在纵列和横列双方依次重复排列R、G、B的排列。另外，所谓三角形排列是在相当于三角形顶点的位置上排列R、G、B的同时、在横列方向上依次重复排列R、G、B的排列。也可采用镶嵌排列或三角形排列来用代替条排列。
若进入滤色镜形成处理工序，则首先在图7(f)中，使用图3所示的喷墨头22，向应形成G色过滤器要素的显示用点区域6g内喷出G色过滤器材料，作为液滴8。对一个显示用点区域进行多次该液滴喷出，总计的喷出量Ag事先设定成比用围堰4的高度规定的显示用点区域6g的容积多。因此，提供的G色过滤器材料向比围堰4高的上方突出。之后，通过50℃、10分钟左右的加热处理，进行预烘干，使G色过滤器材料内的溶剂蒸发，如图7(g)所示，使G色过滤器材料的表面平坦化，形成G色过滤器要素9g。
接着，在图7(h)中，使用图3所示的喷墨头22，向应形成R色过滤器要素的显示用点区域6r内喷出R色过滤器材料，作为液滴8。此时的总计的喷出量Ar也事先设定成比用围堰4的高度规定的显示用点区域6r的容积多，提供的R色过滤器材料也向比围堰4高的上方突出。之后，通过50℃、10分钟左右的加热处理，进行预烘干，使R色过滤器材料内的溶剂蒸发，如图8(i)所示，使R色过滤器材料的表面平坦化，形成R色过滤器要素9r。
接着，在图8(j)中，使用图3所示的喷墨头22，向应形成B色过滤器要素的显示用点区域6b内喷出B色过滤器材料，作为液滴8。此时的总计的喷出量Ab也设定成比用围堰4的高度规定的显示用点区域6b的容积多，提供的R色过滤器材料也向比围堰4高的上方突出。之后，通过50℃、10分钟左右的加热处理，进行预烘干，使B色过滤器材料内的溶剂蒸发，如图8(k)所示，使B色过滤器材料的表面平坦化，形成B色过滤器要素9b。
之后，例如通过230℃、30分钟左右的加热，进行后烘干，使过滤器要素固化，从而形成将R、G、G的各色过滤器要素9g、9r、9b排列成规定排列、例如图9(a)的条排列所形成的滤色镜。另外，同时形成由基材2和滤色镜构成的滤色镜基板1。
在本实施方式中，如图1所示，因为将平台218设置成垂直状态，所以支撑在其上的基材2也保持在垂直状态，从记录头213向基材2喷出过滤器材料，作为液滴。因为制造装置201如箭头E所示置于从上向下流过的气流中，所以一旦基材2置于水平，则尘埃等异物易落到基材2上。此时，难以以高的合格率来制造品质高的滤色镜。但是，在本实施方式中，因为将基材2维持在垂直状态，所以其表面上基本上不落异物。因此，可以高的合格率来制造品质高的滤色镜基板。
(变形例)在上述实施方式中，在图1中将平台218配置成垂直状态。由此，基材2也被配置在垂直状态。但是，也可使平台218相对垂直倾斜角度0度-±5度来配置。根据本发明人的实验，若将平台218配置成垂直状态，可最有效防止异物附着在基材2上，但若将平台218的倾斜角度抑制在相对垂直为±5度以内的范围内，则可将异物的附着抑制在实用上完全没问题的程度。
在上述实施方式中，将R、G、B的3色作为构成滤色镜的过滤器要素。但是，作为过滤器要素，除R、G、B外，也可是设为C(蓝绿)、M(洋红)、Y(黄色)。另外，在上述实施方式中，对过滤器要素9g、9r、9b排列进行图9(a)所示的条排列。但是，也可采用图9(b)所示的镶嵌排列或图9(c)所示的三角形排列来代替。
(电致发光基板的制造方法的实施方式)下面，以制造用于图16和图17所示的电致发光装置中的电致发光基板的情况为例来说明本发明的电致发光基板的制造方法。另外，本发明当然不限于该实施方式。
图11-图15按工序顺序示出电致发光基板的制造方法的一实施方式。该制造方法的目的在于制造图15(r)所示的电致发光基板100。在制造该电致发光基板100的情况下，首先在图11(a)中，对透光性基材102，将四乙氧基硅烷(tetraethoxysilaneTEOS)或氧气作为原料气体，通过等离子体CVD(Chemical Vapor Deposition)法，将由氧化硅膜构成的基底保护层(未图示)形成为期望的约2000-5000埃的厚度。
接着，将基材102的温度设定在约350℃，在基底保护膜的表面上，通过等离子体CVD法，将作为非晶硅膜的半导体膜120a形成为约300-700埃的厚度。之后，对半导体膜120a实施激光退火或固相生长法等结晶化工序，将半导体膜120a结晶成多晶硅膜。
之后，在半导体膜120a上形成抗蚀剂膜，并曝光及显影该抗蚀剂膜，形成抗蚀剂掩膜，使用该掩膜来布图半导体膜120a，从而形成图11(b)所示的岛状半导体膜120b。
接着，将TEOS或氧气等用于原料气体，通过等离子体CVD法，在形成半导体膜120b的基材102的表面，如图11(c)所示，将由氧化硅膜或氮化硅膜构成的栅极绝缘膜121a形成为期望的约600-1500埃的厚度。另外，半导体膜120b形成电流薄膜晶体管110(参照图17)的沟道区域和源极、漏极区域，但在不同的截面位置，还形成构成开关薄膜晶体管109(参照图17)的沟道区域和源极、漏极区域的未图示的半导体膜。在图11至图15所示制造工序中，同时形成两种开关薄膜晶体管和电流薄膜晶体管，但因为以相同步骤形成，所以在以下说明中，仅说明电流薄膜晶体管110，省略对开关薄膜晶体管的说明。
接着，在图11(d)中，将铝或钽等作为材料，通过溅射形成导电膜116a。之后，涂布抗蚀剂材料，通过曝光和显影形成抗蚀剂掩膜，使用该掩膜来布图导电膜116a，如图12(e)所示，形成栅极电极116。
在该状态下，注入杂质、例如高温的磷离子，如图12(f)所示，对栅极电极116自整合地在半导体膜120b中形成源极、漏极区域117a、117b。另外，未导入杂质的部分形成沟道区域118。
之后，在图12(g)中，形成层间绝缘膜122，之后，在图12(h)中，形成接触孔123、124。再后，如图13(i)所示，在这些接触孔123、124的内部埋入导电材料，形成中继电极126、127。
接着，如图13(j)所示，在层间绝缘膜122上形成信号线104、共同供电线105和扫描线103(参照图17)。之后，形成层间绝缘膜130，以覆盖各布线的上面，并在对应于中继电极126的位置形成接触孔132。之后，在图13(k)中，形成ITO(Indium Tin Oxide)膜111a，以埋入接触孔132的内部。之后，在ITO膜111a上涂布抗蚀剂，曝光和显影该抗蚀剂，形成抗蚀剂掩膜，使用该掩膜来布图ITO膜111a，从而如图13(l)所示，在包围在信号线104、共同供电线105和扫描线103的区域中，形成电连接于源极、漏极区域117a上的象素电极111。
接着，使用图3所示的喷墨头22，如图14(m)-图15(r)所示，在基材102上形成EL发光要素。此时，在图14(m)中，信号线104、共同供电线105和图17的扫描线103用作区分要素，在基材102上形成多个显示用点区域6。另外，在图14(m)中，将形成G色发光要素的区域示为6g，将形成R色发光要素的区域示为6r，并且，将形成B色发光要素的区域示为6b。
首先，在使基材102的上面向上的状态下，从图3的喷墨头22的喷嘴27喷出形成接触图16的EL发光要素113g下层部分的空穴注入层113A的材料M1，选择地提供给区分要素103、104、105包围的第1个区域、即G色区域6g内，进行涂布。
此时的喷出量A1g事先设定得比由区分要素103、104、105的高度规定的显示用点区域6g的容积多，提供的G色发光要素材料向比区分要素103、104、105高的上方突出。之后，进行加热、即预烘干或光照射等，使包含于材料M1中的溶剂蒸发，如图14(n)所示，形成表面平坦的空穴注入层113A。在空穴注入层113A不到希望厚度的情况下，重复材料M1的喷出提供处理。
之后，如图14(o)所示，在基材102的上面向上的状态下，从图3的喷墨头22的喷嘴27喷出在图16的EL发光要素113g的上层部分形成有机半导体膜113B的有机半导体膜材料M2，作为液滴，选择地提供给区分要素103、104、105包围的第1个区域、即G色区域6g内，进行涂布。有机半导体膜材料M2期望是溶于溶媒中的状态的有机荧光材料。
此时的喷出量A2g事先设定得比由区分要素103、104、105的高度规定的显示用点区域6g的容积多，提供的有机半导体膜材料M2向比区分要素103、104、105高的上方突出。之后，进行加热、即预烘干或光照射等，使包含于材料M2中的溶剂蒸发，如图15(p)所示，在空穴注入层113A上形成表面平坦的有机半导体膜113B。在有机半导体膜113B不到希望厚度的情况下，重复材料M2的喷出提供处理。从而，通过空穴注入层113A和有机半导体膜113B，形成发出G色的EL发光要素113g。
之后，在图15(p)中，对作为第2显示用点区域的R色区域6r反复进行从图14(m)至图15(p)所示的处理，如图15(q)所示，在R色区域6r中形成发出R色的EL发光要素113r。并且，在图15(q)中，一旦R色发光要素113r的形成结束，则接着对作为第3显示用点区域的B色区域6b反复进行从14(m)至图15(p)所示的处理，如图15(r)所示，在B色区域6r中形成发出B色的EL发光要素113b。
如上所述，通过在图15(r)中完成各色EL发光要素113g、113r、113b的形成，制造电致发光基板100。之后，如图16所示，在形成EL发光要素113g、113r、113b后的基材102的整个表面或条区域中，使用例如光刻处理和蚀刻处理，形成反射电极112。另外，必要时附设其它电子要素。从而制造电致发光装置101。在该电致发光装置101中，从排列成矩阵状的多个显示用点区域6中选择希望的区域，向象素电极111与反射电极112之间施加电压，从而选择地使发光要素113g、113r、113b发光。从而可在基材102侧显示字符、数字、图形等图像。
在本实施方式中，在实施图11-图15的工序时，基材102如图1所示保持在垂直状态。图1示出从记录头213喷出发光要素的材料的装置，但基材102最好在电致发光基板的整个制造工序中保持在垂直状态。通过在如此垂直保持基材102的状态下实施电致发光基板的制造工序，可防止尘埃等异物附着在基材102上，因此可防止异物附着在完成的电致发光基板的表面上。
另外，本发明的电致发光基板的制造装置，包含图1-图5所示的液滴喷出装置201来构成。液滴喷出装置201已说明为滤色镜基板的制造装置201，所以省略其说明。
(光电装置的制造方法的实施方式1)下面，以作为光电装置一例的液晶装置为例来说明本发明的光电装置的制造方法的一实施方式。另外，本发明当然不限于该实施方式。图10是液晶装置的一实施方式，是不使用开关元件的单纯矩阵方式，表示选择地进行反射型显示与透过型显示的半透过反射型液晶装置。
这里所示的液晶装置51通过向液晶面板52附设照明装置56和布线基板54来形成。液晶面板52通过用从箭头A方向看为环状的密封材58使从箭头A方向看为长方形或正方形的第1基板57a与从箭头A方向看为相同的长方形或正方形的第2基板57b贴合来形成。
在第1基板57a与第2基板57b之间形成间隙、即单元间隙，向该单元间隙内注入液晶，形成液晶层55。符号69表示维持单元间隙的隔板。另外，观察者从箭头A方向观察液晶装置51。
第1基板57a具有由透光性玻璃、透光性塑料等形成的第1基材61a。在该第1基材61a的液晶侧表面上形成反射膜62，在反射膜62上形成绝缘膜63，在绝缘膜63上形成第1电极64a，在第1电极64a上形成取向膜66a。另外，在第1基材61a的照射装置56侧的表面中通过例如粘贴来安装第1偏振光板67a。
与第1基板57a对置的第2基板57b，具有由透光性玻璃、透光性塑料等形成的第2基材61b。在该第1基材61b的液晶侧表面上形成滤色镜68。在滤色镜68上形成第2电极64b，在第2电极64b上形成取向膜66b。另外，在第2基材61b的外侧表面上通过例如粘贴来安装第2偏振光板67b。
第1基板57a侧的第1电极64a为沿图10的左右方向延伸的线状电极。另外，形成多个第1电极64a，这些电极沿纸面垂直方向彼此平行排列。即，多个第1电极64a从箭头A方向看形成为条状。
另外，第2基板57b侧的第2电极64b为沿图10的纸面垂直方向延伸的线状电极。另外，形成多个第2电极64b，这些电极沿图10的左右方向彼此平行排列。即，多个第2电极64b形成为向与第1电极64a正交的方向延伸的条状。
第1电极64a与第2电极64b从箭头A方向看在多个排列成矩阵状的点处交叉，这些交叉点构成显示用的点区域。使用R、G、B的3色或C、M、Y的3色过滤器要素构成的滤色镜进行彩色显示的情况下，在上述点区域的每个中都对应配置3色中的一种，3色的集合变为1个单元，构成1象素。另外，由于从箭头A看多个象素排列成矩阵状，所以形成有效显示区域V，在该有效显示区域V中显示字符、数字、图形等图像。
对应于作为显示最小单位的显示用点区域，在反射膜62上形成开口71。这些开口71使从照明装置56提供的面状光透过，实现透过型显示。另外，在进行透过型显示中，不只限于在反射膜62中形成开口71，例如使反射膜62的膜厚变薄也可实现透过型显示。
第1基材61a具有超过第2基材61b向外侧伸出的伸出部70。第1基板57a侧的第1电极64a横切密封材料58，在该伸出部70上延伸，形成布线65。另外，在伸出部70的边缘形成外部连接端子49。布线基板54导电连接于该外部连接端子49上。第2基板57b侧的第2电极64b借助在密封材料58内部分散的导通材59，连接于第1基板57a侧的布线65上。另外，导通材料59在图10中以与密封材料58的宽度尺寸大致相同的尺寸描绘，但实际上导通材料59比密封材料58的宽度小。因此，通常在密封材料58的宽度方向上存在多个导通材料59。
在伸出部70的表面上，在布线65与外部连接端子49之间能通过ACF(Anisotropic Conductive Film各向异性导电膜)48粘接驱动用IC53。另外，通过该ACF48，驱动用IC53的焊盘导电连接于布线65和外部连接端子49上。通过该安装结构，从布线基板54向驱动用IC53提供信号和电压。另一方面，将来自驱动用IC53的扫描信号传送到第1电极64a或第2电极64b。
图10中，照明装置56从观察侧看夹持缓冲材料78而配置在液晶面板52的背面，用作背光灯。该照明装置56具有支撑在基板77上的作为光源的LED(Light Emitting Diode)76和导光体72。在导光体72的观察侧的表面上设置扩散片73，在其相反面中设置反射片74。将LED76作为点状光源的光从导光体72的受光面72a射入导光体72内部，在其内部传播期间，从光射出面72b射出，变为面状光。
在上述结构的液晶装置51中进行反射型显示的情况下，太阳光、室内光等外部光通过第2基板57b射入液晶层55的内部，在由反射膜62反射后，再次提供给液晶层55。另一方面，在进行透过型显示的情况下，照明装置56的LED76发光，从导光体72的光射出面72b射出面状光，将通过设置在反射膜62的多个开口71的光提供给液晶层55。
当向液晶层55提供光时，向第1电极64a和第2电极64b之一施加扫描信号，向另一方施加数据信号，则向施加该数据信号的部分的显示用点施加规定电压，驱动液晶，调制提供给该显示用点的光。这种调制对有效显示区域V内的每个显示用点、换言之每个象素进行，在该有效显示区域V内形成字符、数字、图形等希望的图像，由观察者从箭头A方向观察。
若考虑本实施方式的液晶装置51的制造方法，则特征在于其中包含的滤色镜68使用图1-图5所示的滤色镜基板的制造装置、通过图6-图9所示的制造方法制造。在使用图1所示制造装置201进行的滤色镜基板的制造工序中，因为在将基材2保持在垂直状态的状态下进行作业，所以可防止尘埃等异物附着在基材2上。因此，根据使用该滤色镜基板的制造工序进行的液晶装置51的制造方法，可极低地抑制滤色镜基板中产生缺陷。
(变形例)在图10的实施方式中，将本发明应用于半透过反射型单纯矩阵方式的液晶装置。但是，本发明除此之外还可适用于不具有反射型显示功能的半透过型单纯矩阵方式的液晶装置、或不具有透过型显示功能的反射型单纯矩阵方式的液晶装置、或使用TFD(Thin Film Diode)等2端子型开关元件的有源矩阵方式的液晶装置、或使用TFT(Thin Film Transistor)等3端子型开关元件的有源矩阵方式的液晶装置等的各种液晶装置中。
(光电装置的制造方法的实施方式2)下面，以作为光电装置一例的电致发光装置为例来说明本发明的光电装置的制造方法的一实施方式。另外，本发明当然不限于此。图17示出电致发光装置的电结构的一实施方式。另外，图16示出对应于该电结构的机械结构的部分截面结构。另外，在本说明书中，所谓电致发光基板是在基板上形成EL发光要素后形成的结构体。另外，所谓电致发光装置是在电致发光基板上附设反射电极或其它光学要素后构成的光电装置。
图17中，电致发光装置101具有输出数据信号的驱动用IC107和输出扫描信号的驱动用IC108。驱动用IC107向多个信号线104输出数据信号。另外，驱动用IC108向多个扫描线103输出扫描信号。扫描线103与信号线104在多个部分处交叉，并且，在这些交叉部分中形成构成象素的显示用点区域。图16中，示出G色显示用点区域6g、R色显示用点区域6r、B色显示用点区域6b。各个显示用点区域是包含R、G、B的3色EL发光要素中的一个的区域，对应于R、G、B的3色的显示用点区域集合构成1个象素。
图17中，在一个显示用点区域中，包含开关薄膜晶体管109、电流薄膜晶体管110、象素电极111、反射电极112以及EL发光要素113。另外，就发光要素113而言，以规定排列、例如条排列来排列发出G色的发光要素113g、发出R色的发光要素113r和发出B色的发光要素113b。图16中，各发光要素113通过在下层部分的空穴注入层113A上重叠上层部分的有机半导体膜113B来形成。另外，图16中，示出电流薄膜晶体管110，但未图示存在于与其不同截面中的开关薄膜晶体管109。
图16中，从多个显示用点区域6中选择适当的区域，向该区域内的象素电极111与反射电极112之间施加规定电压，则该显示点区域6内的发光要素113发光，在基材102的外侧(即图16的下方侧)彩色显示字符、数字、图形等图像。
若考虑本实施方式的电致发光装置101的制造方法，则特征在于其中包含的电致发光基板100(参照图15(r))使用图1-图5所示的电致发光基板的制造装置、通过图11-图15所示的制造方法制造。在使用图1所示制造装置201进行的电致发光基板的制造工序中，因为在将基材2(相当于图16的符号102)保持在垂直状态的状态下进行作业，所以可防止尘埃等异物附着在基材2上。因此，根据使用该滤色镜基板的制造工序进行的电致发光装置101的制造方法，可极低地抑制电致发光基板100中产生缺陷。
(电子机器的制造方法的实施方式)下面，举例说明电子机器的制造方法的实施方式。首先，在说明制造方法之前，用图18来说明电子机器的一例。这里所示的电子机器由显示信息输出源141、显示信息处理电路142、电源电路143、定时发生器144和液晶装置145构成。另外，液晶装置145具有液晶面板147和驱动电路146。液晶装置145由使用图1-图5所示的滤色镜基板的制造装置、通过图6-图9所示的制造方法制造的图10所示的液晶装置51构成。
显示信息输出源141具备RAM(Random Access Memory)等存储器、各种盘等存储单元、或同步输出数字图像信号的同步电路等，根据由定时发生器144产生的各种时钟信号，将规定格式的图像信号等显示信息提供给显示信息处理电路142。
下面，显示信息处理电路142具备多个放大、反转电路、旋转电路、灰度系数(伽玛)补偿电路或钳位电路等公知的电路，执行输入的显示信息的处理，将图像信号与时钟信号CLK一起提供给驱动电路146。这里，驱动电路146与扫描线驱动电路(未图示)或数据线驱动电路(未图示)一起统称为检查电路等。另外，电源电路143向上述各构成要素提供规定的电源电压。
图19是作为本发明的电子机器的再一例的数码相机，示出将液晶装置用作取景器。在该数码相机150中的壳体151的背面设置液晶显示单元152。
该液晶显示单元152用作显示被摄体的取景器。
该液晶显示单元152可由使用图1-图5所示滤色镜基板的制造装置、通过图6-图9所示的制造方法制造的图10所示的液晶装置51构成。
在壳体151的前面侧(图中的里面侧)设置包含光学透镜或CCD等的受光单元153。摄影者确认显示在液晶显示单元152中的被摄体像，一旦按下快门按钮154，则将此时的CCD的摄像信号传送到电路基板155的存储器中并存储在其中。
在壳体151的侧面设置视频信号输出端子156和数据通信用输入输出端子157。必要时在视频信号输出端子156上连接电视监视器158，另外，必要时在数据通信用输入输出端子157上连接个人计算机159。存储在电路基板155的存储器中的摄像信号通过规定操作输出到电视监视器158或个人计算机159。
(其它实施方式)上面列举最佳实施方式来说明本发明，但本发明不限于该实施方式，在本发明要求保护的范围内可进行各种改变。
权利要求
1.一种滤色镜基板的制造方法，用于制造具有基材和形成于该基材上的滤色镜的滤色镜基板，其特征在于具有从液滴喷出部向所述基材喷出作为液滴的液态过滤器材料的工序，在该工序中，在垂直或大致垂直地配置所述基材的状态下喷出所述液滴。
2.一种滤色镜基板的制造方法，用于制造具有基材和形成于该基材上的滤色镜的滤色镜基板，其特征在于具有从液滴喷出部向所述基材喷出作为液滴的液态过滤器材料的工序，在该工序中，在相对垂直角度约为±5度的范围内倾斜所述基材。
3.根据权利要求1或2所述的滤色镜基板的制造方法，其特征在于在将从所述液滴喷出部的液滴的喷出方向设定为所述基材的法线方向或大致法线方向的状态下，喷出所述液滴。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的滤色镜基板的制造方法，其特征在于向该基材提供电位与所述基材的带电电位相反的离子。
5.根据权利要求4所述的滤色镜基板的制造方法，其特征在于从所述基材的不与所述液滴喷出部对置的一侧提供所述离子。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的滤色镜基板的制造方法，其特征在于将所述基材置于存在上下方向气流的房间中。
7.根据权利要求6所述的滤色镜基板的制造方法，其特征在于在所述气流的比所述基材还高的上流侧配置防尘过滤器。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的滤色镜基板的制造方法，其特征在于所述液滴喷出部是使用压电元件的喷墨头。
9.根据权利要求1-7中任一项所述的滤色镜基板的制造方法，其特征在于所述液滴喷出部是通过由热能产生的气泡喷出液态过滤器材料的喷墨头。
10.一种滤色镜基板的制造装置，用于制造具有基材和形成于该基材上的滤色镜的滤色镜基板，其特征在于具有垂直或大致垂直地支撑所述基材的基材支撑机构；从液滴喷出部向所述基材喷出作为液滴的液态过滤器材料的液滴喷出机构；和使所述基材相对所述液滴喷出部相对平行移动的扫描移动机构。
11.一种滤色镜基板的制造装置，用于制造具有基材和形成于该基材上的滤色镜的滤色镜基板，其特征在于具有在相对垂直角度约为±5度的范围内倾斜支撑所述基材的基材支撑机构；从液滴喷出部向所述基材喷出作为液滴的液态过滤器材料的液滴喷出机构；和使所述基材相对所述液滴喷出部相对平行移动的扫描移动机构。
12.一种电致发光基板的制造方法，用于制造具有基材和形成于该基材上的发光要素的电致发光基板，其特征在于具有从液滴喷出部向所述基材喷出作为液滴的所述发光要素的材料的工序，在该工序中，在垂直或大致垂直地配置所述基材的状态下喷出所述液滴。
13.一种电致发光基板的制造方法，用于制造具有基材和形成于该基材上的发光要素的电致发光基板，其特征在于具有从液滴喷出部向所述基材喷出作为液滴的所述发光要素的材料的工序，在该工序中，在相对垂直角度约为±5度的范围内倾斜所述基材。
14.根据权利要求12或13所述的电致发光基板的制造方法，其特征在于在将从所述液滴喷出部的液滴的喷出方向设定为所述基材的法线方向或大致法线方向的状态下，喷出所述液滴。
15.根据权利要求12～14中任一项所述的电致发光基板的制造方法，其特征在于向该基材提供电位与所述基材的带电电位相反的离子。
16.根据权利要求14所述的电致发光基板的制造方法，其特征在于从所述基材的不与所述液滴喷出部对置的一侧提供所述离子。
17.根据权利要求12～16中任一项所述的电致发光基板的制造方法，其特征在于将所述基材置于存在上下方向气流的房间中。
18.根据权利要求17所述的电致发光基板的制造方法，其特征在于在所述气流的比所述基材还高的上流侧配置防尘过滤器。
19.根据权利要求12～18中任一项所述的电致发光基板的制造方法，其特征在于所述液滴喷出部是使用压电元件的喷墨头。
20.根据权利要求12～18中任一项所述的电致发光基板的制造方法，其特征在于所述液滴喷出部是通过由热能产生的气泡喷出材料的喷墨头。
21.一种电致发光基板的制造装置，用于制造具有基材和形成于该基材上的发光要素的电致发光基板，其特征在于具有垂直或大致垂直地支撑所述基材的基材支撑机构；从液滴喷出部向所述基材喷出作为液滴的所述发光要素的材料的液滴喷出机构；和使所述基材相对所述液滴喷出部相对平行移动的扫描移动机构。
22.一种电致发光基板的制造装置，用于制造具有基材和形成于该基材上的发光要素的电致发光基板，其特征在于具有在相对垂直角度约为±5度的范围内倾斜支撑所述基材的基材支撑机构；从液滴喷出部向所述基材喷出作为液滴的所述发光要素的材料的液滴喷出机构；和使所述基材相对所述液滴喷出部相对平行移动的扫描移动机构。
23.一种光电装置的制造方法，用于制造在滤色镜基板上形成有光电物质层的光电装置，其特征在于具有实施权利要求1或2所述的滤色镜基板的制造方法的工序。
24.一种光电装置的制造方法，用于制造在电致发光基板上形成有电极的光电装置，其特征在于具有实施权利要求11或12所述的电致发光基板的制造方法的工序。
25.一种电子机器的制造方法，用于制造具有光电装置和控制该光电装置的动作的控制部件的电子机器，其特征在于具有实施权利要求23或24所述的光电装置的制造方法的工序。
全文摘要
本发明提供一种可防止异物附着在基板上的滤色镜基板的制造方法，用于制造具有基材(2)、和形成于基材(2)上的滤色镜的滤色镜基板，其具有从包含在记录头(213)中的喷出头喷嘴向基材(2)喷出作为液滴的液态过滤器材料的工序。在该工序中，在垂直或大致垂直地配置基材(2)的状态下喷出液滴。该制造装置(201)最好设置在由从上到下的箭头E那样流动的气流将房间内保持成清洁环境的无尘室内。
文档编号H01L51/00GK1573367SQ20041003862
公开日2005年2月2日 申请日期2004年4月28日 优先权日2003年6月2日
发明者川濑智己, 清水政春 申请人:精工爱普生株式会社