专利名称：：粘土薄膜的制造方法及粘土薄膜的制作方法
技术领域：
：本发明涉及一种粘土薄膜及其制造方法，所述粘土薄膜具有取向的粘土粒子层合形成的结构，特别涉及提高粘土薄膜的表面平坦性的制造方法。
背景技术：
：由于粘土薄膜具有优异的挠性、粘土粒子致密地层状取向，所以气体.液体的阻隔性非常优异(参见专利文献l)。另外，耐热性、阻燃性也优异。一般认为，将表现出上述特征、具有透明性的粘土薄膜用作液晶或有机EL显示器用膜基板。将粘土薄膜用作膜基板时，例如以有机EL显示器为例，在粘土薄膜上层合透明导电膜，进而在其上层合有机EL元件。此时，粘土薄膜的表面不平坦的情况下，无法均匀地制作透明导电膜，导致疵点部分的导电性降低，进而也可能损坏有机EL元件。一般来说透明导电膜或有机EL元件由数十nm数百nm的极薄的薄膜层构成，所以要求该基材具有优异的表面平坦性，例如具有数nm~数十nm的低粗糙度。作为现有的粘土薄膜制造方法，已知以下的方法。首先，将粘土分散在作为分散介质的水或以水为主成分的液体中调制粘土分散水溶液。将该分散液水平静置，使粘土粒子緩慢地沉积，同时采用固液分离手段分离作为分散介质的水或以水为主成分的液体，使粘土形成为膜状，制作粘土薄膜(参见专利文献l)。作为静置分散液的方法，采用将其注入平坦的塑料制或金属制托盘中的方法，但是在上述情况下，在与制作的粘土薄膜接触托盘的面相反的面(与水的界面、干燥后与大气的界面)，表面粗糙度不同。即，因为接触托盘的面具有直接转印其所接触的托盘表面形成的形状，所以通过使用表面平坦性优异的托盘，可以赋予良好的表面平坦性。但是，与托盘接触的面的相反面即与水的界面、或干燥后与大气的界面仅通过粘土粒子沉降堆积而形成，所以凹凸非常大，不能成为表面平坦性良好的状态。专利文献l:特开2005-104133号公斗艮
发明内容差。这在将具有优异的阻气性、耐热性、阻燃性、透明性、挠性的粘土薄膜用作液晶或有机EL显示器用膜基板时成为大问题。本发明是以解决现有技术中的上述问题为目的完成的。即，本发明的目的在于提供一种制造粘土薄膜的方法，所述粘土薄膜具有足以用作液晶或有机EL显示器用膜基板的表面平坦性。本发明的其他目的在于提供一种具有足以用作上述膜基板的表面平坦性的粘土薄膜。本发明的粘土薄膜制造方法制造由粘土或粘土和添加剂构成的、具有粘土粒子取向并层合的结构的粘土薄膜，其特征在于，所述制造方法包括以下工序使粘土或粘土和添加剂分散在由水、有机溶剂、或水和有机溶剂的混合溶剂组成的分散介质中，制作粘土糊料的糊料制作工序；将该粘土糊料涂布在基材上形成薄膜的涂布工序；将该薄膜平坦化的平坦化工序；从该薄膜中除去水、有机溶剂、或水和有机溶剂的千燥工序；从该基材上剥离该薄膜的剥离工序。本发明优选上述基材具有连续薄片形状，上述制造方法由上述涂布工序、平坦化工序、干燥工序连续进行的工序构成。另外，上述平坦化工序可以由在基材上的薄膜上负荷压力的工序构成，或由加热基材上的薄膜并负荷压力的工序构成。加热上述基材上的薄膜、负荷压力的工序可以通过平滑辊处理来负荷压力，或通过热砑光机处理或超级砑光机处理来负荷压力，或者通过干燥辊处理来负荷压力。另外，上述平坦化工序中使用的辊的表面平面度以表面粗糙度Ra表示优选为1OOnm以下，上述基材的表面粗糙度Ra优选为1OOnm以下。本发明的粘土薄膜是由粘土或粘土和添加剂构成、并且具有粘土粒子取向并层合形成的结构的粘土薄膜，其特征在于，该粘土薄膜的表面粗糙度Ra为100nm以下。本发明中，粘土薄膜的最大高度Ry的值优选为500nm以下，另外，优选粘土薄膜的透明性以总透光率表示为80%以上，并且雾度为5%以下。另外，粘土薄膜可以具有连续薄片形状。本发明的粘土薄膜可以采用上述本发明的制造方法制作。需要说明的是，本发明的制造方法中，糊料制作工序、涂布工序、平坦化工序、干燥工序、剥离工序是必需的工序，上述工序的顺序可以适当变更。例如可以按糊料制作工序—涂布工序—平坦化工序—干燥工序—剥离工序的顺序进行，也可以按糊料制作工序—涂布工序—干燥工序—平坦化工序—剥离工序的顺序进行。进而，也可以按糊料制作工序—涂布工序—平坦化工序—干燥工序—平坦化工序—剥离工序的顺序，将相同的工序实施数次，可以同时进行平坦化工序和干燥工序，也可以同时进行涂布工序和平坦化工序。下面，更详细地说明各工序。(糊料制作工序)本发明中，粘土糊料是使粘土或粘土和添加剂分散在由水、有机溶剂、或水和有机溶剂的混合溶剂组成的分散介质中形成的分散液，其固态成分含有率(以下称为"固液比，，)为0.1~90重量％。更优选的固液比为l~60重量％。固液比根据粘土种类、溶剂种类、以及涂布或干燥工序，在上述范围内适当选择最佳值。本发明中使用的粘土是形成具有粘土粒子层状取向并层合形成的结构的粘土薄膜的材料。作为上述粘土，可以举出天然或合成粘土，优选例如云母、蛭石、蒙脱石(montmorillonite)、l失蒙脱石、贝得石、急石、锂蒙脱石、富镁蒙脱石及嚢脱石中的1种以上，更优选举出天然绿土(smectite)、合成绿土、或它们的混合物。另外，为了获得具有透明性等要求显示器基板具有的光学特性的粘土薄膜，优选使用合成粘土。另外，对与粘土一同分散的添加剂没有特别限定，例如可以举出s-己内酰胺、糊精、淀粉、纤维素类树脂、明胶、琼脂、小麦粉、谷蛋白、醇酸树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、氟树脂、丙烯酸树脂、曱基丙烯酸树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂、聚酯树脂、聚酰亚胺树脂、聚乙烯类树脂、聚乙二醇、聚丙烯酰胺、聚环氧乙烷、蛋白质、脱氧核糖核酸、核糖核酸、聚氨基酸、多元酚、苯甲酸等，可以使用上述化合物中的l种以上。本发明中，粘土糊料可以为水性糊料，也可以适当使用将粘土有机化使其为疏水性、将被有机化的粘土分散在有机溶剂中形成的有机溶剂类粘土糊料。作为将粘土有机化的方法，可以举出通过离子交换在粘土矿物的层间导入有机化剂的方法。例如，作为有机化剂，可以使用二曱基二硬脂酸铵盐、三甲基硬脂酸铵盐等季铵盐，具有节基或聚氧亚乙基的铵盐，也可以使用磷盐或咪唑盐，利用粘土的离子交换性、例如蒙脱石的阳离子交换性进行有机化。通过上述有机化，可以使粘土分散在有机溶剂中。本发明中，可以在水、有机溶剂、或水和有机溶剂的混合溶剂中添加少量的辅助添加剂。添加辅助添加剂的目的在于改变糊料的分散性、改变粘土糊料的粘性、改变粘土膜的干燥容易性、提高粘土薄膜的均匀性等。作为辅助添加剂，可以举出有机物质及盐，例如乙酰胺、乙醇等。本发明中，有机溶剂可以由l种有机溶剂构成，也可以由多种有机溶剂的混合溶剂构成。使用的有机溶剂取决于粘土的有机化状态，例如可以举出苯、甲苯等芳烃，或四氩呋喃等醚类，丙酮、曱基乙基酮等酮类，除此之外，还可以举出醇类、卣代烃、二曱基曱酰胺、乙酸乙酯等。但是并不限定于上述物质。作为粘土糊料的调制方法，可以举出将粘土或粘土和添加剂添加到由水、有机溶剂、或水和有机溶剂的混合溶剂构成的分散介质中，通过振荡使其分散，在温和的干燥条件下、例如在50。C下使分散介质緩慢蒸散，提高固液比至设定值的方法。另外，也可以采用下述方法预先调整粘土或粘土和添加剂的量至规定的固液比制作粘土分散液，用涂料震荡机(paintshaker)、砂磨机、珠磨机、球磨机、Attritor、辊磨机、高速叶轮分散机、喷射磨、高速沖击磨、超声波分散机等对其进行分散处理。优选在涂布前对得到的粘土糊料进行下述处理通过过滤器，或用滤网、金属金网等过滤，或采用离心分离、或沉淀法等手段，分离除去凝集物、夹杂物。(涂布工序)然后，将如上所述地制作的粘土糊料涂布在基材上。作为在基材上涂布粘土糊料的方法，只要能够均匀地涂布即可，没有特别限定，例如可以采用气刀涂布、刮刀涂布、刮板涂布、反向涂布、门辊涂布(transferrollcoating)、凹版辊涂布、吻合涂布、铸涂、喷涂、槽孔涂布(slotorificecoating)、砑光机涂布、电沉积涂布、浸渍涂布、金属模涂布等涂布法，柔性印刷等凸版印刷、直接凹版印刷及胶版凹版印刷等凹版印刷、胶版印刷等平版印刷、网版印刷等孔版印刷等印刷手法。另外，也可以使用圓形刮刀、刷子或其他道具不使气泡进入地采用手工操作进行涂布。还可以采用上述涂布手段，在涂布粘土糊料的同时使表面平坦化。所使用的基材只要是表面平坦的薄片状基材即可，对其材质、厚度没有特别限定，优选厚度50pmlmm的塑料薄片基材。另外，基材优选为连续薄片形状的薄片状基材。作为基材的材质，可以举出聚对苯二曱酸乙二醇酯、聚萘二曱酸乙二醇酯、三乙酰基纤维素、聚芳酯、聚酰亚胺、聚醚、聚碳酸酯、聚砜、聚醚砜、玻璃纸、芳族聚酰胺、聚乙烯、聚丙烯、聚乙烯醇等。另外，为了提高与粘土薄膜的剥离性，可以对上述塑料薄片表面实施脱模剂处理，为了改善与粘土糊料的密合性或润湿性，可以实施电晕处理、等离子体处理等表面处理、或易粘合处理。由于基材的表面平坦性影响制作的粘土薄膜的表面平坦性，所以表面粗糙度Ra优选为100nm以下。更优选为50nm以下。粘土糊料的涂布厚度通常为30nm10mm,优选为0.1mmlmm。如果涂布厚度变得过薄，则可能无法得到具有充分的机械强度的粘土薄膜。如果过厚，则在后续工序中的干燥时间变长，故不优选。本发明的粘土薄膜的厚度可以通过调整粘土糊料的固液比、涂布厚度、使用溶剂等控制为任意厚度，通常为l(Him2mm，优选为50pm-30(Vm。如果粘土薄膜的厚度变得过薄，则膜的强度降低，可能无法具有充分的机械强度。如果过厚，则制造时的干燥时间变长，生产率降低，故不优选。(平坦化工序)然后，在平坦化工序中，进行基板上制作的粘土糊料膜的平坦化。平坦化可以采用下述方法，例如加热粘土糊料涂膜、对粘土糊料膜表面负荷压力来进行平坦化的方法，涂布粘土糊料后进行平滑辊处理的方法，在干燥过程中进行抛光的方法、例如通过被平坦化的多筒式烘缸辊(dryerroll)或扬克式烘缸辊的处理方法，还可以通过其他方法来进行平坦化。更具体地说明，例如作为通过在粘土糊料膜表面负荷压力或加热来进行平坦化的处理，可以采用热砑光机、超级砑光机处理等抄纸加工技术中利用的平坦化处理方法。热砑光机处理中，除了利用辊加压来进行平坦化外，还可以进行加热，所以可通过除去粘土膜含有的水分、或降低高温区域内添加树脂的熔融粘度进行易平坦化处理。另外，超级^牙光机处理中，可以通过调整辊数、辊隙数、辊隙压等，还可以通过处理从基材上剥离粘土薄膜后的中间粘土薄膜，将两面同时平坦化，可以使其成为具有同一水平的平坦性的面。在任一种情况下，都必须使所使用的砑光机辊表面具有平坦性，表面粗糙度Ra优选为100nm以下。具有上述表面平坦性的辊表面可以通过抛光、研磨、其他方法进行平坦化。需要说明的是，砑光机辊的表面平坦性是重要的，对材质没有特别限定。作为加热、及施加压力的方法，也可以采用普通的热加压装置。作为热加压装置，可以使用能够用辊进行加热.加压的装置，分批式的热加压装置等。得到连续薄膜形状的粘土薄膜的情况下，优选使用辊的加热.加压装置。另外，也可以从连续薄膜形状的粘土薄膜中切出规定尺寸的粘土薄膜，进而用热加压装置分批地进行加压处理，提高表面平坦化。热加压装置的接触粘土糊料膜表面的部分，即，加压板的表面粗糙度Ra优选为1OOnm以下。基材上的粘土糊料膜通过用热加压装置负荷压力使膜厚变得均匀，同时表面粗糙度变小。上述的利用热加压装置的处理优选在真空下进行。通过在真空下进行，可以降低粘土薄膜内部的空隙，可以得到更致密的粘土膜。利用平滑辊处理的方法及其他方法。例如在采用适当的涂布法在基材表面涂布粘土糊料后，立即用平滑辊在涂布的粘土糊料上进行整面，能够提高表面平坦性。也可以使用加热的平滑辊。此时，通过瞬时升高涂布面上的粘土糊料的温度，减少由粘度降低导致的涂布液添加物的不均匀沉积，同时利用与平滑辊接触产生的协同效果，可以良好地将涂布面平坦化。另外，粘土糊料的粘度高时，即使用平滑辊整面，有时也无法变得平坦。此时，可料、行整面，提高表面平坦性。采用在干燥过程中进行抛光的方法的情况下，可以同时进行干燥和表面的平坦化。例如通过使其接触多筒式烘缸、扬克式烘缸等抄纸机等中使用的烘缸辊，可以同时进行干燥和表面的平坦化。使用表面平坦性高的热辊时，在基材上涂布粘土糊料，使其承载在干燥烘缸辊上进行接触，由此可以在除去所含的水、或有机溶剂等分散介质的同时使涂布面平坦化。采用多筒式烘缸辊时，随通过烘缸辊的次数增加，干燥效率提高，促进平坦化，故而优选。使用。另外，可以通过任意调整使用的辊材质、加压压力、加热温度、运送速度及次数、粘土糊料粘度、所用溶剂等因素，赋予任意的平坦性。(干燥工序及剥离工序)干燥工序只要能够除去涂布膜中所含的水、有机溶剂及其他液态成分即可，没有特别限定。例如，在强制对流型烘箱中干燥时，干燥条件是温度条件为30。C~100°C、优选为50。C~7(TC。但是，也可以通过由周围的热源供热，在开放体系中使其干燥。还可以通过红外线等热射线使其干燥。另外，如在平坦化处理工序中所述，可以通过与烘缸辊接触同时进行平坦化和干燥。干燥时，如果千燥温度过低，则可能延长干燥时间。另一方面，如果干燥温度过高，则急剧干燥促进粘土糊料中的液体对流等，可能破坏膜的均匀性。剥离工序中，将如上所述地进行干燥得到的本发明的粘土薄膜从基材上剥离。粘土薄膜可以用微小机械力从基材上容易地剥离。无法容易地剥离时，通过在约8(TC30(TC的温度条件下进行短时间热处理，使剥离变得容易。另外，也可以预先在基材上实施脱模处理、电晕处理、等离子体处理等表面处理、易粘合处理等表面处理，使粘土薄膜的剥离变得容易。(粘土薄膜)本发明的粘土薄膜中，粘土的配合比率优选为70重量％~IOO重量%。希望赋予耐热性、高温耐久性时，优选更接近100重量％的粘土配比。希望赋予柔软性、透明性等时，只需增加赋予上述功能的添加剂在粘土中的添加量即可。在权衡耐热性、柔软性、透明性等方面之后，可以在上述范围中任意调整粘土配合比率。本发明的粘土薄膜可以采用上述方法进行制作，具有粘土粒子取向并层合形成的结构。本发明的粘土薄膜的表面粗糙度Ra必须在100nm以下。为了将粘土薄膜用作液晶或有机EL显示器用膜基板，Ra优选为100nm以下、更优选为50nm以下、特别优选为10nm以下。本发明粘土薄膜的表面的表示山和谷的高度的最大高度Ry的值优选为500nm以下。Ry更优选为100nm以下。原因在于Ra是算术平均表面粗糙度，所以突起等大缺陷有时无法用Ra的数值表征，将粘土薄膜用作膜基板、层合透明导电膜或有机EL薄膜时，表现出上述缺陷。需要说明的是，Ra是指算术平均表面粗糙度，是如下求出的值，即、从粗糙度曲线中沿其平均线方向仅截取基准长度，以该截取部分的平均线方向为X轴，纵倍率的方向为Y轴，用y-f(x)表示粗糙度曲线时，通过下式求出。Ra=(1/1)卩|f(x)|dx(]=基准长度)Ry是最大高度，是从粗糙度曲线中沿平均线方向仅截取基准长度，沿粗糙度曲线的纵倍率方向测定该截取部分的山顶线和谷底线的间隔得到的值。本发明的粘土薄膜被用作显示器用基板时，必须使总透光率为800/0以上、并且雾度为5%以下。更优选总透光率在85%以上、雾度在l%以下。雾度的值可以通过抑制粘土薄膜的表面凹凸进行平坦化，从而抑制光散射来降低。需要说明的是，粘土薄膜的表面粗糙度Ra为100nm的特性及总透光率为80%以上、并且雾度为5%以下的特性是采本发明的粘土薄膜制造方法设置将薄膜平坦化的平坦化工序，对涂布在基材上的粘土糊料进行平滑辊处理、砑光机处理、或多筒式干燥烘缸处理等，由此来负荷热及压力，因此，制作的粘土薄膜是作为用作液晶或有机EL显示器用膜基板时成为比较大问题的表面平坦性得以显著改善的粘土薄膜。所以采用本发明的制造方法制作的表面粗糙度Ra在100nm以下的粘土薄膜具有与用作显示器用膜基板的塑料基板同等的光学特性、柔软性、薄度，另外与塑料基板相比阻燃性、耐热性、尺寸稳定性也优异，作为液晶或有机EL显示器用膜基板等是理想的材料。具体实施方式以下基于实施例说明用于实施本发明的最佳方案，但是本发明并不限定于下述实施例。实施例l作为粘土，将lg合成绿土(SMECTONESA、KUNIMINE工业抹式会社制)加入到60cn^的蒸馏水中，与聚氟乙烯制转子一同放入塑料制密封容器中，在25。C下剧烈振荡30分钟，得到均匀的分散液。将该分散液在50°C的条件下緩慢干燥，得到固液比约6重量％的粘土糊料。作为基材，使用表面粗糙度Ra为10nm的聚对苯二曱酸乙二醇酯膜，在其上使用敷料器涂布粘土糊料，用具有表面粗糙度Ra为20nm的表面的平滑辊对涂布面表面进行整面，然后在6(TC下干燥5小时，得到具有粘土粒子取向并层合形成的结构的厚度为100iim的粘土薄膜。实施例2不使用平滑辊，在涂布、干燥后，进行通过热砑光机辊间的热砑光机处理，所述热砑光机辊调整为150。C且具有表面粗糙度Ra为20nm的表面，除此之外，采用与实施例l相同的方法，得到具有粘土粒子取向并层合形成的结构的厚度为1OC^m的粘土薄膜。实施例3不使用平滑辊，在涂布、干燥后，通过超级砑光机辊间进行平坦化，所述超级砑光机辊的辊数为4段、辊隙数为3段且具有表面粗糙度Ra为20nm的表面，除此之外，采用与实施例l相同的方法得到具有粘土粒子取向并层合形成的结构的厚度为100iLim的粘土薄膜。实施例4不使用平滑辊，在涂布后，通过具有表面粗糙度Ra为30nm的表面的多筒式干燥烘缸辊，同时进行干燥和平坦化，除此之外，采用与实施例l相同的方法得到具有粘土粒子取向并层合形成的结构的厚度为lOOiim的粘土薄膜。实施例5作为粘土，将lg合成绿土(RusentiteSPN、CorpChemical林式会社制)加入到60cn^的曱苯中，与聚氟乙烯制转子一并放入塑料制密封容器中，在25。C下剧烈振荡30分钟，得到均匀的分散液。将该分散液在5(TC的条件下缓慢地干燥，得到固液比约6重量％的粘土糊料。作为基材，使用表面粗糙度Ra为1Onm的聚对苯二曱酸乙二醇酯膜，在其上使用敷料器涂布粘土糊料，用具有表面粗糙度Ra为20nm的表面的平滑辊对涂布面表面进行整面，然后在60。C下干燥2小时，得到具有粘土粒子取向并层合形成的结构的厚度为100jLim的粘土薄膜。实施例6作为粘土，将lg天然蒙脱石(KUNIPIAP、KUNIMINE工业抹式会社制)放入到60cm"的蒸馏水中，与聚氟乙烯制转子一并放入塑料制密封容器内，在25。C下剧烈振荡30分钟，得到均匀的分散液。将该分散液在50°C的条件下緩慢干燥，得到固液比约6重量％的粘土糊料。作为基材，使用表面粗糙度Ra为1Onm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，使用敷料器涂布粘土糊料，用具有表面粗糙度Ra为20nm的表面的平滑辊对涂布面表面进行整面，然后在60。C下干燥5小时，得到具有粘土粒子取向并层合形成的结构的厚度为100nm的粘土薄膜。[比4支例1]作为粘土，将lg合成绿土(SMECTONESA、KUNIMINE工业林式会社制)放入到60cn^的蒸馏水中，与聚氟乙烯制转子一并放入塑料制密封容器中，在25。C下剧烈振荡30分钟，得到均匀的分散液。将该分散液在50°C的条件下緩慢干燥，得到固液比约6重量％的粘土糊料。作为基材，使用表面粗糙度Ra为10nm的聚对苯二曱酸乙二醇酯膜，在其上使用敷料器涂布粘土糊料，不进行平坦化处理，然后在60。C下干燥5小时，得到厚度1OOpm的粘土薄膜。[比较例2]作为粘土，将lg天然蒙脱石(KUNIPIAP、KUNIMINE工业抹式会社制)放入到60cn^的蒸馏水中，与聚氟乙埽制转子一并放入塑料制密封容器中，在25。C下剧烈振荡30分钟，得到均匀的分散液。将该分散液在50°C的条件下緩慢千燥，得到固液比约6重量％的粘土糊料。作为基材，使用表面粗糙度Ra为1Onm的聚对苯二曱酸乙二醇酯膜，在其上使用敷料器涂布粘土糊料，不进行平坦化处理，然后在60。C下干燥5小时，得到厚度100imi的粘土薄膜。(评价)表面粗糙度的测定使用原子间力显微镜(SPM400-AFM/SIINanoTechnology社制)，求出粘土薄膜中处于干燥后与大气的界面的面的Ra(算术平均表面粗糙度)及Ry(最大高度)。(测定范围20x20iim)光学特性使用雾度计(HazeMeterNDH2000、日本电色社制)进行测定，求出总透光率、雾度。[表l]<table>tableseeoriginaldocumentpage15</column></row><table>由上述表l的结果可知，本发明的实施例中，通过利用平滑工序、热砑光机工序、超级砑光机工序、多筒式干燥烘缸工序等的表面平坦化处理，可以得到表面粗糙度低、具有平坦的表面的粘土薄膜。另外，由于随之在光学特性方面也能抑制起因于表面凹凸的光散射，所以可以得到良好的光学特性、特别低的雾度值。权利要求1、一种粘土薄膜的制造方法，是由粘土或粘土和添加剂构成、并具有粘土粒子取向并层合形成的结构的粘土薄膜的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括以下工序使粘土或粘土和添加剂分散在由水、有机溶剂、或水和有机溶剂的混合溶剂组成的分散介质中，制作粘土糊料的糊料制作工序；将所述粘土糊料涂布在基材上形成薄膜的涂布工序；将所述薄膜平坦化的平坦化工序；从所述薄膜中除去水、有机溶剂、或水和有机溶剂的干燥工序；从所述基材上剥离所述薄膜的剥离工序。2、如权利要求l所述的粘土薄膜的制造方法，其特征在于，所述基材是具有连续薄片形状的基材，所述制造方法由所述涂布工序、平坦化工序、干燥工序连续进行的工序构成。3、如权利要求1或权利要求2所述的粘土薄膜的制造方法，其特征在于，所述平坦化工序由在基材上的薄膜上负荷压力的工序构成，或由加热基材上的薄膜并负荷压力的工序构成。4、如权利要求1至权利要求3中的任一项所述的粘土薄膜的制造方法，其特征在于，所述平坦化工序是使用具有表面粗糙度Ra在1OOnm以下的平面度的辊进行处理。5、如权利要求3所述的粘土薄膜的制造方法，其特征在于，在所述基材上的薄膜上负荷压力的工序是通过平滑辊处理进行的。6、如权利要求3所述的粘土薄膜的制造方法，其特征在于，加热所述基材上的薄膜并负荷压力的工序是通过热砑光机处理或超级砑光机处理进行的。7、如权利要求3所述的粘土薄膜的制造方法，其特征在于，加热所述基材上的薄膜并负荷压力的工序是通过干燥辊处理进行的。8、如权利要求1至权利要求7中的任一项所述的粘土薄膜的制造方法，其特征在于，所述基材的表面粗糙度Ra为100nm以下。9、一种粘土薄膜，是由粘土或粘土和添加剂构成、并且具有粘土粒子取向并层合形成的结构的粘土薄膜，其特征在于，该粘土薄膜的表面粗糙度Ra为1OOnm以下。10、如权利要求9所述的粘土薄膜，其特征在于，粘土薄膜的最大高度Ry的值为500nm以下。11、如权利要求9或权利要求10所述的粘土薄膜，其特征在于，所述粘土薄膜的透明性以总透光率表示为80%以上，并且雾度为5%以下。12、如权利要求9至权利要求11中的任一项所述的粘土薄膜，其特征在于，所述粘土薄膜具有连续薄片形状。13、如权利要求9至权利要求12中的任一项所述的粘土薄膜，其特征在于，所述粘土薄膜通过下述工序制作得到使粘土或粘土和添加剂分散在由水、有机溶剂、或水和有机溶剂将所述粘土糊料涂布在基材上形成薄膜的涂布工序；将所述薄膜平坦化的平坦化工序；从所述薄膜中除去水、有机溶剂、或水和有机溶剂的千燥工序；从所述基材上剥离所述薄膜的剥离工序。全文摘要本发明提供一种制造具有足以用作液晶或有机EL显示器用膜基板的表面平坦性的粘土薄膜的方法。本发明的粘土薄膜制造方法是由粘土或粘土和添加剂构成、并具有粘土粒子取向并层合形成的结构的粘土薄膜的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括以下工序使粘土或粘土和添加剂分散在由水、有机溶剂、或水和有机溶剂的混合溶剂组成的分散介质中，制作粘土糊料的糊料制作工序；将所述粘土糊料涂布在基材上形成薄膜的涂布工序；将所述薄膜平坦化的平坦化工序；从所述薄膜中除去水、有机溶剂、或水和有机溶剂的干燥工序；从所述基材上剥离所述薄膜的剥离工序。粘土薄膜的表面粗糙度Ra为100nm以下。文档编号H01L51/50GK101268013SQ20068003445公开日2008年9月17日申请日期2006年9月19日优先权日2005年9月22日发明者井上智仁,水上富士夫,津田统,茂木克己,蛯名武雄申请人:株式会社巴川制纸所;独立行政法人产业技术综合研究所