专利名称：动态随机存取存储器元件包的制作方法
技术领域：
本发明是有关于一种动态随机存取存储器元件包(DRAM cell),且特别是有关 于一种将电容形成于金属层的动态随机存取存储器元件包。
背景技术：
动态随机存取存储器元件包(DMM cell), —般而言每个位包括了一晶体管及 一储存电容，是电子系统里最重要的储存部件之一，特别是在电脑及通讯系统方面。 动态随机存取存储器元件包的输出电压与其储存电容的电容量是成比例的，因此， 当电压量改变时，储存电容必须有足够的电容量以使得动态随机存取存储器元件包 能够稳定运作。
再者，传统动态随机存取存储器元件包的构造上，电容是形成于晶硅层以求取 得较高的电容量，此外，电容通常是配置于晶体管旁，因此占了晶片上相当大且重 要的空间来取得所需电容量，使得动态随机存取存储器元件包的每个位所占体积 大。
然而，动态随机存取存储器的成本是决定于其元件包的密度，元件包的尺寸愈 小愈好，因为如此一来单片晶片可产出较大量的动态随机存取存储器元件包，使得 产能增加，成本降低。
市面已有一些动态随机存取存储器元件包因其构造有别于传统而密度提高，例 如沟渠型电容是在半导体基板上形成一深沟渠而未增加半导体基板的表面区域的 使用，因此沟渠型电容可降低动态随机存取存储器元件包的尺寸，但是缺点为工艺 困难且复杂。
从上述现象看来，提供一种动态随机存取存储器元件包来改善上述问题是有其 实际需求的。
发明内容
因此，本发明就是提供一种动态随机存取存储器元件包(DRAM cell)，此动态随机存取存储器元件包可提高动态随机存取存储器的密度，并简化其工艺。
本发明的一目的是提供小尺寸的动态随机存取存储器元件包，其可縮小动态随 机存取存储器的尺寸，因此能降低DR認集成电路的制造成本，提高其速度，并达 到降低其漏电流及耗电量的功效。
本发明的另一目的是将电容形成于晶体管的上方以减少电容所占空间。 本发明的又一目的是提供形成于数层金属层的小尺寸动态随机存取存储器元 件包，可以在需要时提供额外电容量。
根据本发明的上述目的，提出一种动态随机存取存储器元件包。此动态随机存 取存储器元件包包括基板、晶体管、以及电容。基板是由半导体材料所构成，具有 一主体表面；晶体管形成于主体表面；电容，形成于一金属层，且金属层位于晶体 管的上方。晶体管包括源极区域、漏极区域、以及控制栅极。源极区域及漏极区域 形成于基板的主体表面，控制栅极位于源极区域与漏极区域之间，控制栅极与基板 之间以一薄控制介电层相隔。电容包括第一电极、形成于第一电极上的介电层、以 及形成于介电层上的第二电极。
根据本发明的上述目的，提出另一种动态随机存取存储器元件包，此动态随机 存取存储器元件包将电容形成于数个金属层。此动态随机存取存储器元件包包括基 板、晶体管、以及电容。基板是由半导体材料所构成，具有一主体表面；晶体管形 成于主体表面；电容形成于数个金属层，且金属层位于晶体管的上方。当单一金属 层无法提供足够的电容量或此发明縮小至较小规模时，数个金属层的电容可以提供 所需的额外电容量。
为让本发明的上述和其它目的、特征、优点能更明显易懂，以下将配合附图对 本发明的较佳实施例进行详细说明，其中
图1是依照本发明一较佳实施例的动态随机存取存储器元件包的侧视剖面示 意图。
图2是依照本发明另一较佳实施例的动态随机存取存储器元件包的侧视剖面 示意图。
具体实施例方式
请参照图1，其是依照本发明一较佳实施例的一种动态随机存取存储器元件包的侧视剖面示意图。此动态随机存取存储器元件包包括基板100、晶体管120、以 及电容140。基板100是由半导体材料所构成，具有一主体表面102。晶体管120 包括源极区域124、漏极区域126、以及控制栅极122。源极区域124及漏极区域 126形成于基板100的主体表面102，控制栅极122位于源极区域124与漏极区域 126之间，控制栅极122与基板100之间以一薄控制介电层123相隔。控制栅极122 可以由多晶硅所构成，而薄控制介电层123可以由二氧化硅所构成。电容140包括 第一电极142、形成于第一电极142上的介电层144、以及形成于介电层144上的 第二电极146。
请注意到电容140是形成于金属层，且金属层位于晶体管120的上方。传统的 电容是形成于晶硅层以求取得较高的电容量，然而，现在的作法是将电容形成于金 属层，而此法形成的电容已可提供所需的DRAM电容量。因此，将电容140形成于 位于晶体管120上方的金属层。但是，电容140并不需要形成于晶体管120的正上 方，只要电容140是形成于金属层而非晶硅层时，动态随机存取存储器元件包所占 的整体区域会大幅縮小。此外，动态随机存取存储器元件包的必要线路连接可配置 于位于晶体管120与电容140间的线路区域180，以更加提高动态随机存取存储器 的密度。
再者，现今的电容具有电容量大、介电常数大于3000、介电层薄、以及表面 粗糙等特性，所以电容MO所占的空间小于晶体管120。请注意到虽然晶体管120 的栅极长度很小，电容140可提供足够的区域来容纳晶体管120，包括了晶体管120 的接触垫129及130，控制栅极122,以及扩散区域121。
请参照图2，其是依照本发明另一较佳实施例的一种动态随机存取存储器元件 包的侧视剖面示意图。此动态随机存取存储器元件包包括基板200、晶体管220、 以及电容240。基板200是由半导体材料所构成，具有一主体表面202。晶体管220 包括源极区域224、漏极区域226、以及控制栅极222。源极区域224及漏极区 域 226形成于基板200的主体表面202，控制栅极222位于源极区域224与漏极区域 226之间，控制栅极222与基板200之间以一薄控制介电层223相隔。控制栅极222 可以由多晶硅所构成，而薄控制介电层223可以由二氧化硅所构成。电容240包括 第一电极241、形成于第一电极241上的第二介电层242、形成于第二介电层242 上的第三电极243、形成于第三电极243上的第四介电层244、以及形成于第四介 电层244上的第五电极245。
现在的作法是将电容形成于金属层，而此法形成的电容己可提供所需的DRAM电容量。因此，将电容240形成于位于晶体管220上方的金属层。但是，电容240 并不需要形成于晶体管220的正上方，只要电容240是形成于金属层而非晶硅层时， 动态随机存取存储器元件包所占的整体区域会大幅縮小。
请注意到电容240是形成于数层金属层包括第一电极24K第三电极243、以 及第五电极245。当只具有单一金属层的电容无法提供足够的电容量时，数个金属 层的电容可以提供所需的额外电容量。此外，因为电容的尺寸与晶体管的尺寸相当， 此实施例可以縮小至较小的规模。当晶体管的尺寸縮小时，晶体管所控制的电流量 也随着减少，此时相对于晶体管的尺寸来说，动态随机存取存储器元件包需要较大 的电容量，因此需要数个金属层的电容以提供额外的电容量，在此实施例中，配置 了第一电极241、第三电极243、以及第五电极245以提供晶体管220所需的额外 电容量。此外，动态随机存取存储器元件包的必要线路连接可配置于位于晶体管 220与电容240间的线路区域280，以更加提高动态随机存取存储器的密度。再者， 现今的电容具有电容量大、介电常数大于3000、介电层薄、以及表面粗糙等特性， 所以电容240所占的空间小于晶体管220。请注意到虽然晶体管220的栅极长度很 小，电容240可提供足够的区域来容纳晶体管220，包括了晶体管220的接触垫229 及230，控制栅极222，以及扩散区域221。
第一个实施例与第二个实施例的差异是在于第二个实施例具有数层的电容，当 单一金属层的电容无法提供足够的电容量或动态随机存取存储器元件包缩小至较 小的规模时，具有数层的电容可以提供所需的电容量。
由上所述可得以下结论，此发明将电容形成于晶体管的上方以减少电容所占空 间，可以提高动态随机存取存储器元件包的速度，并达到降低其漏电流及耗电量的 功效。
虽然本发明己以较佳实施例揭露如上，然而其并非用以限定本发明，任何熟悉 本技术的人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作出各种等同的改变或替换， 因此本发明的保护范围当视后附的本申请权利要求范围所界定的为准。
权利要求
1.一种动态随机存取存储器元件包，包含一基板，其是由半导体材料所构成，具有一主体表面；一晶体管，形成于该主体表面；以及一电容，形成于一金属层，且该金属层位于该晶体管的上方。
2. 根据权利要求1所述的动态随机存取存储器元件包，其特征在于该晶体管 包含一源极区域； 一漏极区域；以及一控制栅极，位于该源极区域与该漏极区域之间，该控制栅极与该基板之间以 一薄控制介电层相隔。
3. 根据权利要求1所述的动态随机存取存储器元件包，其特征在于该电容包含一第一电极；一介电层，形成于该第一电极之上；以及 一第二电极，形成于该介电层之上。
4. 根据权利要求1所述的动态随机存取存储器元件包，其特征在于还包含一 线路区域，位于该晶体管与该电容之间，提供动态随机存取存储器元件包的线路连 接。
5. —种动态随机存取存储器元件包，包含 一基板，其是由半导体材料所构成，具有一主体表面； 一晶体管，形成于该主体表面；以及一电容，形成于多个金属层，且这些金属层位于该晶体管之上方。
6. 根据权利要求5所述的动态随机存取存储器元件包，其特征在于该晶体管包含一源极区域； 一漏极区域；以及一控制栅极，位于该源极区域与该漏极区域之间，该控制栅极与该基板之间以 一薄控制介电层相隔。
7. 根据权利要求5所述的动态随机存取存储器元件包，其特征在于该电容包含多个电极；以及多个介电层，这些介电层分别配置于两相邻的这些电极之间。
8. 根据权利要求5所述的动态随机存取存储器元件包，其特征在于还包含一 线路区域，位于该晶体管与该电容之间，提供动态随机存取存储器元件包的线路连 接。
全文摘要
一种动态随机存取存储器元件包(DRAM cell)，包括基板、晶体管、以及电容。基板是由半导体材料所构成，具有一主体表面；晶体管形成于主体表面；电容，形成于一金属层，且金属层位于晶体管的上方。晶体管包括源极区域、漏极区域、以及控制栅极。源极区域及漏极区域形成于基板的主体表面，控制栅极位于源极区域与漏极区域之间，控制栅极与基板之间以一薄控制介电层相隔。电容包括第一电极、形成于第一电极上的介电层、以及形成于介电层上的第二电极。此动态随机存取存储器元件包可提高密度，简化工艺。在此还揭露一种形成于多层金属层的动态随机存取存储器元件包。
文档编号H01L27/108GK101404285SQ20081008796
公开日2009年4月8日 申请日期2008年3月25日 优先权日2007年10月1日
发明者汤姆·艾伦·艾甘, 锜 赖 申请人:北极光股份有限公司