专利名称：接触发光元件、其制造方法以及指纹识别装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及接触发光元件与其制造方法及4吏用该接触发光元件 的指紋识别装置，更详细地说，涉及能够薄型化、增加光构图的辉度， 从而改善指紋图像的质量的接触发光元件与其制造方法及使用该接 触发光元件的指紋识别装置。
背景技术：
作为生命体识别装置，有指紋识别元件，指紋识別装置是由光源、
棱镜(prism)、透镜(lens)、图像传感器(image sensor )及控制部件构 成的。
如果手指接触棱镜表面，从光源产生的光透过棱镜之后，照射到 接触棱镜的手指。照射到手指上的光变换成基于指紋的隆起和谷线部 分的光构图之后，通过棱镜照射到图像传感器上，图像传感器将其变 换成电气信号后输出。控制部接收从图像传感器输出的电气信号，根 据手指的指紋产生指紋图像，从该指紋图像算出奇异点之后，与预先 储存的指紋图像比较，从而确认身份。
发明要解决的问题
然而，现有的使用光源或棱镜的光学式指紋识别装置由于使用了 棱镜等光学系统，很难薄型化，由于接触棱镜的手指上照射了光，指 紋的隆起和谷线会产生散射光，从而具有使光的辉度减小、指紋图像 的质量降低等问题。
本发明的目的是为了解决所述的问题点，提供能够薄型化、增加 光构图的辉度，改善指紋图像质量的接触发光元件与其制造方法及使 用它的指紋识别装置。用于解决课题的方法
为了实现这样的目的，本发明的接触发光元件的特征在于包括 透明绝缘层；透明电极层，形成于透明绝缘层上，连接交流电源，接 受交流供电；发光层，形成于透明电极层上，在接触物体后，通过供 给透明电极层的交流流过物体产生的电场，产生基于发光物体的接触 面构图的光构图，通过透明电极层，照射透明绝缘层；浸透调节层， 形成于发光层上，调节黑色颜料向发光层的浸透，防止外部光渗透发 光层；遮光层，形成于浸透调节层上，防止外部光透过浸透调节层； 第一保护层，形成于遮光层之上，防止水分浸透遮光层，提供粘结力； 和形成于第一保护层上的具有耐磨损性的第二保护层。
缘层；使用溅镀(spattering )或蒸镀方法在透明绝缘层上镀铟锡氧化 物(ITO)材料，形成透明层；将聚合物粘胶20~30wt%，緩聚剂 (retarder ) 35 39wt%，发光体粉末40 50wto/o及辉度及色相调节添加 剂0.1 5wt。/。混合后，用丝印法镀在透明电极上，形成发光层；将聚 合物粘胶15~35wt%，黑色颜料5 25wt。/。，緩聚剂20 35wt%，可塑剂 10 15wt。/。及BaTi03粉末42 63wt。/o混合，用丝印法镀在发光层上， 形成浸透调节层；将黑色颜料l 5wt。/。，聚酯(polyester) 5 30wt%， 乙二醇单乙醚乙酸酯15 23wt。/。及二曱苯(xylene)50 71wt。/。混合后， 用丝网印刷法镀在浸透层上，形成遮光层；将黑色颜料5 10wt%, 氟树脂5~15wt%,丙烯酸树脂10~25wt%，緩聚剂ll 22wt%，可塑 剂5 15wt。/。及BaTi03粉末40 55wt。/。混合后，用丝网印刷法镀在遮 光层上，形成第一保护层；将醇酸树脂10 25wt%，三聚氰胺树脂 5~35wt%，氢化聚合物l~35wtQ/。，乙二醇单乙醚乙酸酯5~10wt%, 丙烯酸(类)树脂10 35wt。/。及二氧化硅(Si02)粉末0.1~2wt%混合后 用丝网印刷法镀在第一保护层上，形成第二保护层。 本发明的指紋识别装置的特征在于包括
接触发光元件，包括透明绝缘层；透明电极层，形成于透明绝 缘层上，连接交流电源，接受交流供电；发光层，形成于透明电极层 上侧，接触物体后，通过供给透明电极层的交流电流过物体所产生的电场，产生基于发光物体的接触面构图的光构图，通过透明电极层，
照射透明绝缘层；浸透调节层，形成于发光层上，调节黑色颜料向发 光层的浸透，防止外部光侵入发光层；遮光层，形成于浸透调节层上， 防止外部光透过浸透调节层；第一保护层，形成于遮光层上，防止水 分浸透遮光层，提供粘结力；和形成于第一保护层上的具有耐磨性的 第二保护层；
形成于接触发光元件的透明绝缘层下方，提供粘结力的透明粘结 剂层；和
位于透明粘结层下方的图像传感器，通过透明粘结层提供的粘结 力检测透过透明绝缘层的光构图，变换成电气信号后输出。
发明的效果
本发明的接触发光元件与其制造方法及使用它的指紋识别装置 在接触物体的情况下，在物体中流过交流电而产生电场，由此根据物 体的接触面构图而产生光构图，从而能够制造薄型的指紋识别装置， 通过在发光层上添加辉度及色相调节添加剂，具有能够改善光构图的 辉度的优点。
图1是本发明的接触发光元件的截面图。 图2是显示本发明的接触发光元件的制造方法的图。 图3是显示图2所示聚合物粘胶的制造方法的流程图。 图4a至图4h是显示接触发光元件的试样混合比率的表。 图5a及图5b是使用本发明的接触发光元件的指紋识别装置的构 成图。
符号说明
10: 接触发光元件 11: 透明绝缘层 12: 透明电才及层13: 发光层
14浸透调节层
15遮光层
16第一保护层
17第二保护层
18引线端子
20交流电源
100: 指紋识别装置实施发明的最佳实施方式
下面通过参考附图，对根据本发明的接触发光元件与其制造方 法及使用它的指纹识别装置进行说明。
图1是本发明的接触发光元件的截面图，图4a至图4h是显示 接触发光元件的试样混合比率的表。
如图1,图4a至图4h所示，本发明的接触发光元件10由透明 绝缘层11,透明电极层12，发光层13,浸透调节层14，遮光层15， 第一保护层16及第二保护层17构成。
透明绝缘层11不仅作为基底部件从整体上支持本发明的接触 发光元件10,同时也提供从发光层13产生的光构图的透射路径。
透明电极层12形成于透明绝缘层11上，连接交流电源20,接 受交流供电。这样的透明电极层12由ITO (Indium Tin Oxide:铟锡 氧化物)形成，其一侧还具有连接交流电源20的引线端子18。
发光层13形成于透明电极层12上，在接触物体l后，利用供 给透明电极层12的交流电流过物体1所产生的电场而发光，产生基 于物体1的接触面构图的光构图，通过透明电极层12照射透明绝缘 层11。即，如果物体1是人的情况下，产生基于物体1的接触面la 的隆线R和谷线V的光构图，进行照射。这样的发光层13如图4a 所示，是由混合聚合物粘胶20~30wt% (即weight/percent:重量/百分 比)，緩聚剂(retarder) 35~39wt%,发光体粉末40 50wt。/。及辉度 及色相调节添加剂0.1 ~5wt。/。组成。发光层13的聚合物粘胶如图4b所示，是由混合粘胶 30 65wt%，緩聚剂40 65wt。/。及环氧树脂10 55wty。组成，混合粘胶 如图4c所示，由聚乙烯缩丁醛(polyvinyl butyral)20 35wt。/。和乙二醇 单乙醚乙酸酯65 80wt。/。组成。环氧树脂采用了双酚-A (bispenol-A) 环氧树脂，苯酚线型酚醛清漆及曱酚线型酚醛清漆中之一，发光体粉 末采用了硫化锌(ZnS)，硫化锶(SrS)及氧化锌(ZnO )之一。辉 度及色相调节添加剂根据设定的辉度及色相，釆用锰(Mn )，铜(Cu ), 氯(Cl),铝(Al)，硤(I),铽(terbium: Tb)，氟(F)之一。 另外，为了增加发光辉度，辉度及色相调节添加剂中还含有碳酸钡 (BaTi03)粉末或黑色颜料20 45wt%。
浸透调节层14形成于发光层13上，用来调节黑色颜料向发光 层13的浸透，防止外部光侵入发光层13。如图4d所示，浸透调节 层14由聚合物粘胶15 35wt%，黑色颜料5~25wt%，缓聚剂 20~35wt%，可塑剂10 15wt。/。及BaTi03粉末42 63wt。/。组成。
浸透调节层14的聚合物粘胶如图4b所示，由混合粘胶 30 65wt%,緩聚剂40 65wt。/。及环氧树脂10 55wt。/。组成。混合粘胶 如图4c所示，由聚乙烯缩丁醛20 35wt。/。和乙二醇单乙醚乙酸酯 65 80wt。/。组成，采用双酚-A环氧树脂，苯酚线型酚醛清漆及曱酚线 型酚醛清漆之一，可塑剂采用N-环己基-p-曱苯磺酰胺，N-乙基-p-曱 苯磺酰胺，二甲基曱酰胺及邻苯二曱酸二曱酯之一，黑色颜料采用炭 黑粉末。
遮光层15形成于浸透调节层14上，以防止外部光透过浸透调 节层14，其包括第一遮光层15a和第二遮光层15b。第一遮光层15a 用于防止外部光透过浸透调节层14,第二遮光层15b防止外部光透 过第一遮光层15a。这样的第一遮光层15a和第二遮光层15b如图4e 所示，分别由黑色颜料l~5wt%,聚酯5~30wt%，乙二醇单乙醚乙酸 酯15~23wt%，以及二曱笨50 71wt。/。组成。黑色颜料可采用炭黑粉 末。
第一保护层16形成于遮光层15上，防止水分浸透遮光层15， 提供粘结力。这样的第一保护层16如图4f所示，由黑色颜料5 10wt%,氟树脂5~15wt%,丙烯酸树脂10~25wt%，緩聚剂 11 ~22wt%,可塑剂5~ 15wt。/o及BaTi03粉末40 55wt。/。组成，黑色颜 料可采用炭黑粉末。
第二保护层17形成于第一保护层16的上侧，具有耐磨损性。 这样的第二保护层17如图4g及图4h所示，由醇酸树脂10 25wt%, 三聚氰胺5~35wt%,氢化聚合物l~35wt%，乙二醇单乙醚乙酸酯 5 10wt%，丙烯酸树脂10 35wt。/。及二氧化硅粉末0.1 2wt。/。组成。特 别地，为了防止水分浸透第一保护层16，氢化聚合物采用疏水性聚 合物或耐污染的亲水性聚合物，如图4g所示，疏水性聚合物含量可 为l 5wt%，如图4h所示，亲水性聚合物含量可为25~35wt%。
下面参考
具有所述构成的本发明的接触发光元件10
的制造方法。
图2显示了本发明的接触发光元件的制造方法，图3显示了图 2所示的聚合物粘胶的制造方法的流程图，图4a至4h是显示接触发 光元件的试样混合比率的表。
图2,图3，图4a至图4h显示了本发明的接触发光元件的制造 方法首先，提供透明绝缘层11 (S10)。在提供透明绝缘层11后， 用溅镀或蒸镀的方法将ITO材料镀在透明绝缘层11上，形成透明电 极层12 (S20)。这样的透明电极层12的制造方法是用透明粘结剂 (未示出)粘结ITO膜片(未示出)形成的。另外，步骤S20还具备 连接用于向透明电极层12供给交流电的引线端子18的工艺(S80)。
形成透明电极层12后，将聚合物粘胶20 30wt%，緩聚剂 35~39wt%,发光体粉末40 50wt。/。及辉度及色相调节添加剂0.1 5wt% 混合后，用丝印法镀在透明电极层12上，形成发光层13 (S30)。 在形成发光层13时，发光体粉末采用硫化锌(ZnS),硫化锶(SrS) 及氧化锌(ZnO)之一，辉度及色相调节添加剂根据设定的辉度及色 相，采用锰(Mn ),铜(Cu )，氯(Cl),铝(Al),硪(I)，铽 (terbium:Tb),氟(F)之一，为了增加发光层13的发光辉度，辉 度及色相调节添加剂中还含有BaTK)3粉末或黑色颜料20 45wt%。
形成发光层13后，将聚合物粘胶15~35wt%,黑色颜料5~25wt%,緩聚剂20~35wt%，可塑剂10 15wt。/o及BaTi03粉末 42 63wt。/。混合，然后用丝印法镀在发光层13上，形成浸透调节层 14 (S40)。
浸透调节层14形成后，将黑色颜料l 5wt。/。，聚酯5~30wt%， 乙二醇单乙醚乙酸酯15~23wt%,以及二甲苯50 71wt。/。混合后用丝 网印刷法镀在浸透调节层14上，形成遮光层15 (S50)。在形成浸 透调节层14时，可塑剂可采用N-环己基-p-曱苯磺酰胺，N-乙基-p-曱苯磺酰胺，二曱基曱酰胺及邻苯二曱酸二曱酯之一。
遮光层15的制造方法可将第一遮光层15a和第二遮光层15b分 二次形成。即，形成浸透调节层14后，将黑色颜料l~5wt%,聚酯 5~30wt%，乙二醇单乙醚乙酸酯15~23wt%,以及二甲苯50~71wt% 混合后用丝网印刷的方法镀在浸透调节层14上，形成第一遮光层 15a。在第一遮光层15a形成后，将比第一遮光层15a粘度4氐的黑色 颜料l 5wt%，聚酯5~30wt%,乙二醇单乙醚乙酸酯15~23wt%，以 及二曱苯50 71wt。/o混合后用丝网印刷法镀在第一遮光层15a上，形 成第二遮光层15b。
在第一遮光层15a和第二遮光层15b形成后，将黑色颜料 5~10wt%,氟树脂5 15wt%,丙烯酸树脂10~25wt%,緩聚剂 11 22wt。/。，可塑剂5 15wt。/o及BaTi03粉末40~55wt%混合后用丝网 印刷法镀在遮光层15上(即第二遮光层15b上)，形成第一保护层 16 ( S60)。
在形成第一保护层16后，将醇酸树脂10 25wt%，三聚氰胺曱 醛树脂5~35wt%，氢化聚合物l 35wt%，乙二醇单乙醚乙酸酯 5~10wt%，丙烯酸(类)树脂10 35wt。/。及二氧化硅Si02粉末0.1~2wt% 混合后用丝网印刷法镀在第一保护层16上，形成第二保护层17 (S70)。在形成第二保护层17的方法中，根据第二保护层17的机 能，氢化聚合物可为疏水性或亲水性的。为此，氢化聚合物采用疏水 性聚合物或亲水性聚合物。这里，疏水性聚合物含量可为l~5wt%， 亲水性聚合物含量可为25 35wt%。
在所述接触发光元件的制造方法中，步骤S30及步骤S40采用的混合聚合物粘胶的制造方法如附图3所示，首先，将聚乙烯缩丁醛
20~3 5 wt%和乙二醇单乙醚乙酸酯65~80wt%混合，形成混合粘胶 (Sll)。形成混合粘胶后，将混合粘胶30 65wt。/。和緩聚剂40 65wt% 及环氧树脂10 55wt。/。混合(S12)。混合粘胶30 65wt。/。和緩聚剂 40 65wt。/。及环氧树脂10 55wt。/。的混合经20~35分钟的超声波处理 (S13)。超声波处理之后，将混合的混合粘胶30 65wt。/。和緩聚剂 40 65wt。/。及环氧树脂10 55wt。/。在30~50°C下进行30 50小时的热处 理(S14)。这里，混合粘胶30 65wt。/。和緩聚剂40 65wt。/。及环氧树 脂10 55wt。/。混合时所用的环氧树脂采用双酚-A环氧树脂，苯酚线型 酚醛清漆及曱酚线型酚醛清漆之一 。
下面参考
使用通过所述过程制造的接触发光元件10 的指紋识别装置。
图5a及图5b是使用本发明的接触发光元件构成的指紋识别装 置。这里，图5a所示的指紋识别装置为半导体式，图5b所示的指紋 识别装置是光学式的。
图5a所示的指紋识别装置100由接触发光元件10、透明粘结剂 层30及图像传感器40构成。
接触发光元件10由透明绝缘层11，透明电极层12,发光层13, 浸透调节层14,遮光层15,第一保护层16及第二保护层17构成， 由于和图1所示的接触发光元件IO相同，省略了其详细的说明。透 明粘结剂层30形成于接触发光元件IO的透明绝缘层11下侧，提供 粘结力。图像传感器40位于透明粘结剂层30的下侧，利用透明粘结 剂层30提供的粘结力粘结，检测透过透明绝缘层11的光构图，变换 成电气信号输出。这里，图像传感器40采用CMOS图像传感器或 CCD图像传感器之一，由控制部2接收从图像传感器40输出的电气 信号，产生基于物体1的接触面la的构图产生的指紋图像，接触的 物体la如果是人，则确认指紋图像是否是已登录的人。
图5b所示的指紋识别装置100显示了本发明的指紋识别装置 100的其他的实施例的光学式指紋识别装置100。光学式指紋识别装 置100是由大接触发光元件10，透镜50及图像传感器60构成。接触发光元件10与图5a所示的接触发光元件IO相同，因此省略其说 明。
透镜50设置在接触发光元件IO的透明绝缘层11的下侧，照射 透过透明绝缘层11的光构图。图像传感器60接收从透镜50照射的 光。这样的图像传感器60可采用CMOS图像传感器或CCD图像传 感器之一。图像传感器60设置在透镜50的下侧，检测通过透镜50 照射的光构图，变换成电气信号输出到控制部2。控制部2接收从图 像传感器60输出的电气信号，产生基于物体1的接触面la的构图的 指紋图像，在物体1为人的手指的情况下，提取指紋形成的指紋图像， 确认是否是已经登录的人。
产业上利用的可能性
本发明的接触发光元件与其制造方法及使用它的指紋识别装置 能够在生体识别领域应用。
权利要求
1.接触发光元件，其特征在于包括透明绝缘层；透明电极层，形成于所述透明绝缘层上，连接交流电源，接受交流供电；发光层，形成于所述透明电极层上，在与物体接触后，通过供给透明电极层的交流电流过物体而产生的电场而发光，产生基于发光物体的接触面构图的光构图，通过所述透明电极层，照射所述透明绝缘层；浸透调节层，形成于所述发光层上，调节黑色颜料向所述发光层的浸透，防止外部光渗透所述发光层；遮光层，形成于所述浸透调节层上，防止外部光透过所述浸透调节层；第一保护层，形成于所述遮光层上，防止水分浸透所述遮光层，提供粘结力；和形成于所述第一保护层上的具有耐磨损性的第二保护层。
2. 如权利要求1所述的接触发光元件，其特征在于，所述透明 电极层由铟锡氧化物ITO构成，其一侧还具有连接交流电源的引线 端子。
3. 如权利要求1所述的接触发光元件，其特征在于，所述发光 层是由聚合物粘胶20~30wt%，緩聚剂35~39wt%，发光体粉末 40 50wt。/。及辉度及色相调节添加剂0.1 5wt。/。组成，所述聚合物粘胶是由混合粘胶30~65wt%,緩聚剂40 65wt。/o及 环氧树脂10 55wt。/。组成；所述混合粘胶是由聚乙烯缩丁醛20 35wt% 和乙二醇单乙醚乙酸酯65 80wt。/。组成；所述环氧^f脂采用了双酚A 环氧树脂，苯酚线型酚醛清漆及曱酚线型酚醛清漆中之一，发光体粉 末采用了硫化锌，硫化锶及氧化锌之一，所述辉度及色相调节添加剂根据设定的辉度及色相，釆用锰，铜，氯，铝，碘，铽，氟之一。
4.如权利要求3所述的接触发光元件，其特征在于，为了增加 发光辉度，所述辉度及色相调节添加剂中还含有BaTi03粉末或黑色 颜料20-45wt%。
5.如权利要求1所述的接触发光元件，其特征在于，所述浸透 调节层是由聚合物粘胶15~35wt%，黑色颜料5~25wt%,緩聚剂 20~35wt%,可塑剂10 15wt。/。及BaTi03粉末42 63wt。/。组成；所述聚合物粘胶由混合粘胶30~65wt%，緩聚剂40 65wt。/o及环 氧树脂10 55wt。/。组成；所述混合粘胶由聚乙烯缩丁醛20 35wt。/o和 乙二醇单乙醚乙酸酯65 80wt。/。组成；所述环氧树脂采用双酚A环氧 树脂，苯酚线型酚醛清漆及曱酚线型酚醛清漆之一，所述可塑剂采用 N-环己基-p-曱苯磺酰胺，N-乙基-p-曱苯磺酰胺，二曱基曱酰胺及邻 苯二曱酸二曱酯之一；所述黑色颜料采用炭黑粉末。
6. 如权利要求1所述的接触发光元件，其特征在于，所述遮光 层由防止外部光透过浸透调节层的第一遮光层和防止外部光透过所述第一遮光层的第二遮光层构成；所述第一遮光层和所述第二遮光层是由黑色颜料l~5wt%,聚酯 5~30wt%，乙二醇单乙醚乙酸酯15~23wt%,以及二曱苯50~71wt% 组成的，所述黑色颜料采用炭黑粉末。
7. 如权利要求1所述的接触发光元件，其特征在于，所述第一 保护层由黑色颜料5~10wt%,氟树月旨5 15wt%,丙烯酸树脂 10~25wt%，緩聚剂ll 22wt%,可塑剂5 15wt。/o及BaTi03粉末 40 55wto/o组成，所述黑色颜料釆用炭黑粉末。
8. 如权利要求1所述的接触发光元件，其特征在于，所述第二保护层由醇酸树脂10~25wt%，三聚氰胺树脂5~35wt%,氢化聚合物 l 35wt%，乙二醇单乙醚乙酸酯5 10wt%,丙烯酸树脂10 35wt。/o及 二氧化硅4分末0.1 2wt。/。组成，为了防止水分浸透所述第一保护层，所述氬化聚合物选用疏水 性聚合物或耐污染性的亲水性聚合物，所述疏水性聚合物含量为 l~5wt%,所述亲水性聚合物含量为25~35wt%。
9. 接触发光元件的制造方法，其特征在于，包括 提供透明绝缘层；使用溅镀或蒸镀方法在所述透明绝缘层上镀铟锡氧化物ITO， 形成透明电极层；将聚合物粘胶20~30wt%，緩聚剂35~39wt%,发光体粉末 40 50wt。/。及辉度及色相调节添加剂0.1 5wt。/。混合后，用丝印法镀在 所述透明电极上，形成发光层；将聚合物粘胶15~35wt%,黑色颜料5~25wt%,緩聚剂 20~35wt%，可塑剂10 15wt。/。及BaTi03粉末42 63wt。/。混合，用丝 印法镀在所述发光层上，形成浸透调节层；将黑色颜料l~5wt%,聚酯5~30wt%,乙二醇单乙醚乙酸酯 15 23wt。/o及二曱苯50 71wt。/o混合后，用丝网印刷法镀在所述浸透调 节层上，形成遮光层；将黑色颜料5~10wt%，氟树脂5~15wt%，丙烯酸树脂10~25wt%， 缓聚剂1 l~22wt%,可塑剂5 15wt。/。及BaTi03粉末40 55wt。/o混合后， 用丝网印刷法镀在所述遮光层上，形成第一保护层；将醇酸树脂10~25wt%，三聚氰胺树脂5 35wt%,氢化聚合物 1 ~35wt%,乙二醇单乙醚乙酸酯5~ 1 Owt%,丙烯酸树脂10 35wt。/o及 二氧化硅粉末0.1~2wt%混合后，用丝网印刷法镀所述在第一保护层 上，形成第二保护层。
10. 如权利要求9所述的接触发光元件的制造方法，其特征在 于，所述形成所述透明电极层还包括连接向所述透明电极层供给交流电用的引线端子。
11. 如权利要求9所述的接触发光元件的制造方法，其特征在 于，所述透明电极层是通过在透明绝缘层上用透明粘结剂粘结铟锡氧 化物ITO膜而形成的。
12. 如权利要求9所述的接触发光元件的制造方法，其特征在 于，在形成所述发光层的工艺中，发光体粉末采用硫化锌，硫化锶及 氧化锌之一 ，辉度及色相调节添加剂根据设定的辉度及色相，采用锰， 铜，氯，铝，碘，铽，氟之一，为了增加发光层的发光辉度，辉度及 色相调节添加剂中还含有BaTi03粉末或黑色颜料20~45wt%。
13. 如权利要求9所述的接触发光元件的制造方法，其特征在于， 在形成所述发光层和形成所述浸透调节层的工艺中，混合聚合物粘胶 的制造方法包括将聚乙烯缩丁醛20 3 5wt。/。和乙二醇单乙醚乙酸酯65 80wt%混 合，形成混合粘胶，将所述混合粘胶30 65wt。/。和缓聚剂40 65wt。/。及环氧树脂 10 55wt。/。混合，将所述混合粘胶30 65wt。/。和緩聚剂40 65wt。/。及环氧树脂 10 55wt。/。混合后经20~35分钟的超声波处理，将所述超声波处理之后，将混合的混合粘胶30 65wt。/。和缓聚剂 40 65wty。及环氧树脂10 55wt。/。在30~50。C下进行30 50小时的热处 理；在所述混合粘胶30 65wt。/o和缓聚剂40 65wt。/。及环氧树脂 10 55wt。/o的混合工艺中，环氧树脂采用双酚-A环氧树脂，苯酚线型 酚醛清漆及曱酚线型酚醛清漆之一。
14. 如权利要求9所述的接触发光元件的制造方法，其特征在于， 在形成所述浸透调节层的工艺中，可塑剂采用N-环己基-p-曱苯磺酰胺，N-乙基-p-曱苯磺酰胺，二曱基甲酰胺及邻苯二曱酸二曱酯之一。
15. 如权利要求9所述的接触发光元件的制造方法，其特征在于， 形成所述遮光层的工艺包括将黑色颜料l~5wt%,聚酯5~30wt%,乙二醇单乙醚乙酸酯 15~23wt%，以及二曱苯50 71wt。/。混合后，用丝网印刷法镀在浸透调 节层上，形成第一遮光层，和将比第一遮光层粘度低的黑色颜料l~5wt%,聚酯5~30wt%，乙 二醇单乙醚乙酸酯15~23wt%,以及二曱苯50 71wty。混合后，用丝 网印刷法镀在第一遮光层上，形成第二遮光层。
16. 如权利要求9所述的接触发光元件的制造方法，其特征在于， 在形成所述第二保护层的工艺中，氢化聚合物采用疏水性聚合物或亲 水性聚合物，疏水性聚合物含量为l~5wt%,亲水性聚合物含量为 25~35wt%。
17. 指紋识别装置，其特征在于包括 才妄触发光元件，包4舌透明绝缘层；透明电极层，形成于所述透明绝缘层上，连接交流电源，接 受交流供电；发光层，形成于所述透明电极层上，在接触物体后，通过供 给透明电极层的交流流过物体产生的电场，产生基于发光物体的 接触面构图的光构图，通过所述透明电极层，照射所述透明绝缘 层；浸透调节层，形成于所述发光层上，调节黑色颜料向所述发 光层的浸透，防止外部光渗透所述发光层；遮光层，形成于所述浸透调节层上，防止外部光透过所述浸 透调节层；第一保护层，形成于所述遮光层上，防止水分浸透所述遮光层，提供粘结力；和形成于所述第一保护层上的具有耐磨损性的第二保护层； 透明粘结剂层，形成于所述接触发光元件的透明绝缘层下方，提 供粘结力；和图像传感器，位于所述透明粘结剂层下方，由透明粘结剂层提供 的粘结力粘结，检测透过透明绝缘层的光构图，变换为电气信号输出。
18.如权利要求17所述的指紋识别装置，其特征在于，所述图 像传感器采用CMOS图像传感器或CCD图像传感器之一。
19.指紋识别装置，其特征在于包括 才矣触发光元件，包4舌 透明绝缘层；透明电极层，形成于所述透明绝缘层上，连接交流电源，接 受交流供电；发光层，形成于所述透明电极层上，在接触物体后，通过供 给透明电极层的交流流过物体产生的电场，产生基于发光物体的 接触面构图的光构图，通过所述透明电极层，照射所述透明绝缘 层；浸透调节层，形成于所述发光层上，调节黑色颜料向所述发 光层的浸透，防止外部光浸透所述发光层；遮光层，形成于所述浸透调节层上，防止外部光透过所述浸 透调节层；第一保护层，形成于所述遮光层上，防止水分浸透所述遮光 层，提供粘结力；和形成于所述第一保护层上的具有耐磨损性的第二保护层； 透镜，设置在接触发光元件的透明绝缘层的下方，照射透过透明 绝缘层的光构图；和设置在所述透镜下方的图像传感器，检测通过透镜照射的光构 图，变换成电气信号输出。
20.如权利要求19所述的指紋识别装置，其特征在于，所述图像传感器采用CMOS图像传感器和CCD图像传感器之一。
全文摘要
本发明涉及能够薄型化、增加光构图的辉度，从而改善指纹图像的质量的接触发光元件与其制造方法及使用该接触发光元件的指纹识别装置。本发明的接触发光元件包括透明绝缘层(11)，形成于透明绝缘层上的透明电极层(12)，形成于透明电极层上的发光层(13)，形成于发光层上的浸透调节层(14)，形成于浸透调节层上的遮光层(15)，形成于所述遮光层上的第一保护层(16)，和形成于所述第一保护层上的具有耐磨损性的第二保护层(17)。
文档编号H01L51/50GK101656299SQ20081021401
公开日2010年2月24日 申请日期2008年8月22日 优先权日2008年8月22日
发明者蔡尚勋 申请人:Testech株式会社