表面处理用喷嘴装置的制作方法

专利名称：表面处理用喷嘴装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及用于向被处理物吹送处理气体以便进行表面处理的喷嘴装置。
背景技术：
例如在专利文献1中，在覆盖等离子表面处理装置的电极的电介质的板(供给槽形成部件)上设置有树状的槽。树状槽构成为从一个槽部分岔成两个(多个)槽部，分岔的各槽部再分岔成两个(多个)，多次反复进行该分岔，从而作为整体而形成为树状(淘汰赛程表形状)。在上述电介质板(供给槽形成部件)的形成有上述树状槽的面上重叠有另一电介质板(覆盖部件)。由此，上述树状槽构成处理气体的通路。处理气体沿上述树状槽的枝部分散后，经过与树状槽的前端侧相连的开口槽被吹出。由此，可以增大处理气体的吹出宽度。该处理气体与被处理物接触而进行表面处理。专利文献1 日本特开2004-127853号公报专利文献2 日本特开2002-75692号公报专利文献3 日本实开平5-89451号公报(图3(b))在上述专利文献1等的装置中，根据供给槽形成部件和覆盖部件的紧贴状态以及在处理气体的压力等的作用下，可认为通过树状槽内部时的处理气体的一部分经过供给槽形成部件和覆盖部件之间泄漏到外部。

发明内容
本发明是鉴于上述状况而作出的，其目的在于提供一种表面处理装置，该表面处理装置彼此重叠的两个板状部件中的一个板状部件的重叠面上形成有处理气体的供给槽， 可以防止处理气体自这些板状部件之间泄漏，从而防止对气氛气体的污染及对周边装置的腐蚀等。为了解决上述课题，在本发明的向被处理物供给处理气体的喷嘴装置中，其特征在于，具有供给槽形成部件，其呈板状并具有形成有处理气体供给槽的主面和与所述主面交叉的前端面，所述处理气体供给槽到达所述前端面；以及覆盖部件，其具有以覆盖所述主面的方式与所述主面重叠的覆盖面，所述处理气体供给槽与处理气体的供给机构连接，在所述主面和所述覆盖面中的任一方的所述处理气体供给槽的外侧部分形成有外侧槽，所述外侧槽与(第一)气体吸引机构连接。根据该特征结构，气体吸引机构的吸引压力被导入外侧槽。利用该吸引压力，可以使供给槽形成部件和覆盖部件牢固地紧贴，从而可以防止处理气体自处理气体供给槽泄漏到供给槽形成部件和覆盖部件的抵接面之间。即便产生了如上所述的泄漏，也可以在外侧槽捕获该泄漏气体并自外侧槽由气体吸引机构进行吸引。因此，可以防止处理气体自喷嘴装置泄漏到气氛气体中，可以防止污染气氛气体、腐蚀周边装置。
优选所述外侧槽设置成跨在所述主面或所述覆盖面的所述外侧部分的基端部和前端部之间。由此，可以利用外侧槽可靠地捕获自上述处理气体供给槽泄漏的处理气体，从而能够可靠地防止处理气体漏出到气氛气体中。优选所述外侧槽延伸成将所述处理气体供给槽的比所述前端面靠基端侧的部分局部地包围。由此，可以利用外侧槽更可靠地捕获自上述处理气体供给槽泄漏的处理气体，从而能够更可靠地防止处理气体漏出到气氛气体中。所述外侧槽的所述前端面侧的端部可以离开所述前端面而位于更靠基端侧的位置。所述外侧槽可以到达所述前端面的位于所述处理气体供给槽外侧的部分。在所述前端面的位于所述处理气体供给槽外侧的部分，可以形成有与所述外侧槽相连且沿所述前端面的宽度方向(第二方向)延伸的端槽。由此，可以使自被处理部位向所述长度方向的外侧流动的已处理气体进入所述端槽，经过所述外侧槽，由所述气体吸引机构吸引并将其排出。优选所述表面处理用喷嘴装置还具有第二覆盖部件，该第二覆盖部件覆盖所述供给槽形成部件的与所述主面相反一侧的背面，在所述背面形成有沿所述前端面的长度方向(第一方向)延伸且到达所述前端面的背侧吸引槽。由此，可以自所述背侧吸引槽吸引从被处理部位向背面侧方向流动的已处
理气体。可以在所述供给槽形成部件形成有将所述外侧槽和所述背侧吸引槽相连的连通孔。由此，可以使自被处理部位向背面侧方向流动的已处理气体进入所述背侧吸引槽，经过所述外侧槽，由所述气体吸引机构吸引并将其排出。所述处理气体供给槽可以包含树状的槽部并到达所述前端面，所述槽部与处理气体的供给机构连接且以随着靠近所述前端面而朝所述前端面的长度方向扩展的方式进行分岔。根据该结构，可以利用树状的槽部使处理气体朝所述前端面的长度方向分散并喷
出ο优选树状槽部的分岔的级数为1以上。所述表面处理用喷嘴装置可以构成为利用罩覆盖基端部及外周部，并在所述罩上连接第二气体吸引机构。由此，即便气体自喷嘴装置泄漏，也可以将该泄漏气体封闭在罩和喷嘴装置之间的空间内，防止该泄漏气体自罩向外部泄漏，并且，可以利用所述第二吸引机构吸引该泄漏气体并将其排出。由此，可以更可靠地防止污染气氛气体、腐蚀周边装置。所述第一气体吸引机构和所述第二气体吸引机构可以由共用的吸引机构构成。根据本发明，可以防止处理气体自喷嘴装置泄漏到气氛气体中，从而可以防止污染气氛气体、腐蚀周边装置。


图1是沿图4的I-I线看本发明第一实施方式的表面处理装置的喷嘴装置的主要是第一槽形成部件的主视图。图2是沿图4的II-II线看上述喷嘴装置的主要是第一槽形成部件的后视图。图3是沿图4的III-III线看上述喷嘴装置的主要是第二槽形成部件的主视图。图4是沿图1的IV-IV线的上述喷嘴装置的侧视剖面图。图5是沿图1的V-V线的上述喷嘴装置的上侧部分的侧视剖面图。图6是沿图1的VI-VI线的上述喷嘴装置的上侧部分的侧视剖面图。图7是沿图1的VII-VII线放大表示上述喷嘴装置的局部的俯视剖面图。图8是上述喷嘴装置的仰视图。图9是表示上述表面处理装置的简略结构的讲解主视图。图10是表示本发明第二实施方式的表面处理装置的喷嘴装置的主要是第一槽形成部件(供给槽形成部件)的主视图。图11是本发明第三实施方式的表面处理装置的喷嘴装置的第二槽形成部件(覆盖部件)的后视图。图12是本发明第三实施方式的表面处理装置的喷嘴装置的、对应于图7的俯视剖面图。图13是表示本发明第四实施方式的表面处理装置的喷嘴装置的主要是第一槽形成部件的主视图。图14是表示本发明第五实施方式的表面处理装置的喷嘴装置的主要是第一槽形成部件的主视图。图15(a)是沿图14的XVa-XVa线的上述第五实施方式的喷嘴装置的省略了前端板的仰视图，(b)是沿图14的XVb-XVb线的上述第五实施方式的喷嘴装置的省略了前端板的仰视图。图16是沿图14的XVI-XVI线的上述第五实施方式的喷嘴装置的仰视图。图17表示本发明的第六实施方式，是沿图19的XVII-XVII线的第一槽形成部件的后视图。图18是沿图19的XVIII-XVIII线的上述第六实施方式的喷嘴装置的省略了前端板的仰视图。图19是沿图17的XIX-XIX线的上述第六实施方式的喷嘴装置的下侧部分的侧视剖面图。图20表示本发明第七实施方式的喷嘴装置，是沿图21的XX-XX线的主视剖面图。图21表示本发明第七实施方式的喷嘴装置，是沿图20的XXI-XXI线的俯视剖面图。图22表示本发明第七实施方式的喷嘴装置，是沿图20的XXII-XXII线的侧视剖面图。图23表示本发明第七实施方式的喷嘴装置，是沿图20的XXIII-XXIII线的侧视剖面图。
具体实施例方式以下，说明本发明的实施方式。图1 图9表示本发明第一实施方式。如图9所示，表面处理装置1具有被处理物配置部2和喷嘴装置3。配置部2由工作台或输送装置构成。在配置部2上配置有被处理物9。被处理物9例如由平板显示器用玻璃基板或半导体晶片构成，但并不限于此。作为表面处理的内容，例举蚀刻、成膜、清洗、防水化、亲水化等，但并不限于上述处理内容。配置部2上的被处理物9利用未图示的移动机构或配置部2所装配的移动机构， 相对于喷嘴装置3向与图9的纸面正交的方向(后述第二方向)相对移动。但并不限于使被处理物9移动，也可构成为使喷嘴装置3移动。另外，相对移动既可以是仅移动一次的单程移动，也可以是往复移动，还可以使往复移动多次反复。如图9所示，表面处理装置1具有处理气体源4。处理气体源4将对应于处理内容的处理气体供给到喷嘴装置3。例如，在进行硅的蚀刻时，处理气体包含氟系反应成分及氧化性反应成分。作为氟系反应成分，例举HF、C0F2、F2等。作为氧化性反应成分，例举03、 0自由基等。作为氧化性反应成分的03，可以利用臭氧发生器生成。0自由基等氧化性反应成分可以通过将包含氧的氧系原料气体等离子化来生成。HF、COF2等氟系反应成分可以通过在一对电极之间对添加了 H2O的氟系原料进行等离子化(包含分解、激发、活化、离子化)来生成。作为氟系原料，例举全氟碳化物(PFC)、 氢氟碳化物(HFC)、SF6、NF3、XeF2 等。作为 PFC，例举 CF4、C2F6、C3F6、C3F8 等。作为 HFC，例举 CHF3、C2H2F2、CH3F等。也可以替代H2O而使用含OH化合物。作为含OH基化合物，例举过氧化氢水、乙醇等。上述氟系原料可以在用稀释气体进行了稀释的基础上进行等离子化。作为稀释气体，除Ar、He等稀有气体之外，例举队等。上述等离子化优选在大气压附近进行。大气压附近指的是1.013X104 50. 663 X IO4Pa的范围，若考虑压力调节的便利性和装置结构的简化，则优选1. 333 X IO4 10. 664 X IO4Pa,更优选 9. 331 X IO4 10. 397 X IO4Pa0喷嘴装置3配置在被处理物配置部2的上方。喷嘴装置3沿水平的第一方向(在图9中为左右方向)延伸。喷嘴装置3在第一方向上的长度与被处理物9在第一方向上的长度大致相同或比其稍大。如图9所示，喷嘴装置3的上侧部(基端部)及外周部由帽状的罩8覆盖。吸引路径h自罩8和喷嘴装置3之间的空间延伸。吸引路径7a与第二气体吸引机构7连接。如图9所示，在喷嘴装置3的上端部设置有集管部( ,义部)30。集管部30具有三个集管路径31、32、33。三个集管路径31 33在喷嘴装置3的长度方向(第一方向) 上隔着间隔地排列。在集管部30的中央部配置有供给集管路径31。隔着集管部30的供给集管路径31，在一侧(在图9中为左侧)配置有背面侧吸引集管路径32，在另一侧(在图 9中为右侧)配置有正面侧吸引集管路径33。在集管部30的正面(在图9中为纸面跟前)，设置有与供给集管路径31相连的供给口 34、与背面侧吸引集管路径32相连的背面侧吸引口 35、与正面侧吸引集管路径33相连的正面侧吸引口 36。供给路径如自处理气体源4延伸，并且该供给路径如经由供给口 34与供给集管路径31相连。
背面侧吸引路径fe自背面侧吸引口 35延伸。正面侧吸引路径5d自正面侧吸引口 36延伸。这些吸引路径fe、5d彼此汇合。汇合后的共用吸引路径5g与包含吸引泵的第一气体吸引机构5相连。虽省略图示，但在气体吸引机构5上附设有废气的除害设备。另外，第一气体吸引机构5和上述第二气体吸引机构7也可以由一个共用的吸引机构构成。进一步详述喷嘴装置3的结构。如图4所示，喷嘴装置3具有第一、第二槽形成部件11、12和外壁部件21、22。喷嘴构成部件11、12、21、22分别构成使长度方向朝向第一方向、使宽度方向朝向上下、使厚度方向朝向与第一方向正交的水平的第二方向(在图4中为左右方向)的板状。板状部件11、12、21、22的材质并未特别限定，既可以是树脂或陶瓷等绝缘体，也可以是金属，但优选具有相对于处理气体的耐受性。例如，当处理气体包含氟化氢等氟系反应成分时，作为槽形成部件11、12的材质，优选使用聚偏二氟乙烯(PVDF)等氟系树脂。另外，作为槽形成部件11、12的材质，也可以使用氧化铝等的陶瓷。外壁部件21、22例如由铝等金属构成。自第二方向(图9的纸面正交方向)看到的板状部件11、12、21、22的轮廓形状及大小彼此相等。这些板状部件11、12、21、22自背面侧(图4的左侧、图9的纸面里侧)按照背面侧外壁部件21、第一槽形成部件11、第二槽形成部件12、正面侧外壁部件22的顺序沿第二方向重叠，并利用轴线朝向第二方向的多根螺栓(省略图示)连结。板状部件11、 12、21、22的下端面(前端面)彼此共面。如图4所示，上述供给集管路径31贯穿第一槽形成部件11、第二槽形成部件12和正面侧外壁部件22。在正面侧外壁部件22的正面设置有上述供给口 34。供给集管路径31 的里端部(与供给口 34连接的连接部的相反侧)被背面侧外壁部件21堵住。虽省略图示，但同样地，上述吸引集管路径32、33贯穿第一槽形成部件11、第二槽形成部件12和正面侧外壁部件22。在正面侧外壁部件22的正面设置有上述吸引口 35、36。 吸引集管路径32、33的里端部被背面侧外壁部件21堵住。如图1 图4所示，在喷嘴装置3形成有处理气体供给槽40、背侧吸引槽50和正面侧吸引槽60。供给槽40配置在喷嘴装置3的第二方向上的中央部。在该供给槽40的背面侧(在图4中为左侧)配置有上述背侧吸引槽50，在正面侧(在图4中为右侧)配置有上述正面侧吸引槽60。这些槽40、50、60平行地排列。如图1及图4所示，供给槽40的上端部与供给集管路径31相连。如图2及图5所示，背侧吸引槽50的上端部与吸引集管路径32相连。如图3及图6所示，正面侧吸引槽60的上端部与吸引集管路径33相连。进一步详述上述槽结构。如图1所示，在第一槽形成部件11正面侧的主面Ilf形成有上述处理气体供给槽 40。供给槽40包含树状槽部41和开口槽部42。第一槽形成部件11构成供给槽形成部件。树状槽部41以越到下方(前端)越朝第一方向扩展的方式分岔并构成树状(淘汰赛程表形状)。详细论述如下，即树状槽部41自供给集管路径31以构成1条的状态向下方延伸并分支成两个(多个)一次分支槽41a。这些分支槽41a以自彼此的分支部离开的方式沿第一方向延伸且前端向下方弯折。自各一次分支槽41a的前端朝第一方向的两侧分支成两个(多个)二次分支槽41b。各二次分支槽41b的前端向下方弯折并自该二次分支槽41b的前端朝第一方向的两侧分支成两个三次分支槽41c。各三次分支槽41c的前端向下方弯折并自该三次分支槽41c的前端朝第一方向的两侧分支成两个(多个)末次分支槽 41e。末次分支槽41e的前端向下方弯折。在末次分支槽41e的下侧设置有开口槽部42。开口槽部42沿第一槽形成部件11 的长度方向(第一方向)延伸。开口槽部42在第一方向上的长度与被处理物9在该方向上的尺寸大致相等或比其稍大。各末次分支槽41e的前端部(树状槽部41的末端)与开口槽部42相连。如图4所示，开口槽部42到达第一槽形成部件11的下端面(前端面)。在第一槽形成部件11正面侧的主面Ilf上重叠有第二槽形成部件12的背面侧的主面12r，第二槽形成部件12覆盖第一槽形成部件11。由此，供给槽40的主面Ilf侧的开口被堵住，供给槽40构成与供给集管路径31相连的气体路径。第一槽形成部件11构成权利要求中的供给槽形成部件。第二槽形成部件12构成将供给槽形成部件11正面侧的主面Ilf覆盖的覆盖部件，背面侧的主面12r构成覆盖面。如图1及图4所示，在开口槽部42的上下方向(与槽形成部件的前端面正交的方向)上的中间部的内面形成有凸条47。凸条47沿第一槽形成部件11的长度方向(第一方向)延伸。凸条47的长度方向的两端部到达开口槽部42的长度方向的端缘。凸条47的突出高度(在第二方向上的尺寸)比开口槽部42的深度(在第二方向上的尺寸)小。在凸条47和槽形成部件12之间，形成有由窄间隙构成的节流部48。节流部48沿第一槽形成部件11的长度方向(第一方向)延伸。如图2所示，在第一槽形成部件11背面侧的主面Ilr形成有上述背侧吸引槽50。 背侧吸引槽50包含树状槽部51和开口槽部52。树状槽部51以越到下方(前端)越朝第一方向扩展的方式分岔并构成树状。详细论述如下，即树状槽部51自背面侧吸引集管路径32以构成1条的状态向下方延伸并分支成多个(在此为8个)分支槽51e。这些分支槽51e在第一槽形成部件11的长度方向 (第一方向)上相互隔着间隔地配置且分别向下方延伸。在分支槽5Ie的下侧设置有开口槽部52。开口槽部52沿第一槽形成部件11的长度方向(第一方向)延伸。开口槽部52的长度与上述开口槽部42的长度大致相等。各分支槽51e的前端部(树状槽部51的末端)与开口槽部52相连。如图4所示，开口槽部52 到达第一槽形成部件11的下端面(前端面)。如图4所示，背面侧外壁部件21覆盖第一槽形成部件11的背面llr，因此，背侧吸引槽50的面Ilr侧的开口被堵住。由此，背侧吸引槽50构成与背面侧吸引集管路径32相连的气体路径。背面侧外壁部件21构成将第一槽形成部件11背面侧的主面Ilr覆盖的第二覆盖部件。如图2及图4所示，在开口槽部52的上下方向上的中间部的内面形成有凸条57。 凸条57沿第一槽形成部件11的长度方向(第一方向)延伸。凸条57的延伸方向的两端部到达开口槽部52的端缘。凸条57的突出高度(在第二方向上的尺寸)比背侧吸引槽50 的深度(在第二方向上的尺寸)小。在凸条57和外壁部件21之间，形成有由窄间隙构成的节流部58。节流部58沿第一槽形成部件11的长度方向(第一方向)延伸。
如图3所示，在第二槽形成部件12正面侧的主面12f形成有上述正面侧吸引槽 60。正面侧吸引槽60具有与上述背侧吸引槽50同样的结构，其包含树状槽部61和开口槽部62。树状槽部61以越到下方(前端)越朝第一方向扩展的方式分岔并构成树状。详细论述如下，即树状槽部61自正面侧吸引集管路径33以构成1条的状态向下方延伸并分支成多个(在此为8个)分支槽61e。这些分支槽61e在第二槽形成部件12的长度方向 (第一方向)上相互隔着间隔地配置，并分别向下方延伸。在分支槽61e的下侧设置有开口槽部62。开口槽部62沿第二槽形成部件12的长度方向(第一方向)延伸。开口槽部62的长度与上述开口槽部42的长度大致相等。各分支槽61e的前端部(树状槽部61的末端)与开口槽部62相连。如图4所示，开口槽部62 到达第二槽形成部件12的下端面(前端面)。如图4所示，正面侧外壁部件22覆盖第二槽形成部件12的正面12f，因此，第二槽形成部件12的正面侧吸引槽60的面12f侧的开口被堵住。由此，正面侧吸引槽60构成与正面侧吸引集管路径33相连的气体路径。正面侧外壁部件21构成将第二槽形成部件12正面侧的主面12f覆盖的覆盖部件。如图3及图4所示，在开口槽部62的上下方向上的中间部的内面形成有凸条67。 凸条67沿第二槽形成部件12的长度方向(第一方向)延伸。凸条67的长度方向的两端部到达开口槽部62的长度方向的端缘。凸条67的突出高度(在第二方向上的尺寸)比正面侧吸引槽60的深度(在第二方向上的尺寸)小。在凸条67和正面侧外壁部件22之间， 形成有由窄间隙构成的节流部68。节流部68沿第二槽形成部件12的长度方向(第一方向)延伸。作为在槽形成部件11、12上形成槽40、50、60、82、83的方法，除基于切削加工的方法之外，也可以适用使用了槽40、50、60、82、83的模型的真空成形法或注塑成形法。根据真空成形法或注塑成形法，可以减轻部件重量，并可以削减制造成本。如图8所示，喷嘴装置3还具有前端板70。如图4及图6所示，前端板70构成使长度方向朝向第一方向、使宽度方向朝向第二方向的平板状。前端板70的材质并未特别限定，既可以是树脂或陶瓷等绝缘体，也可以是金属，但优选具有相对于处理气体的耐受性。 在此，前端板70由氧化铝的陶瓷构成。前端板70整体构成一体部件。如图4所示，前端板70被板状层叠部件11、12、21、22的共面的下端面(前端面) 覆盖。虽省略图示，但前端板70利用多根螺栓固定于各部件11、12、21、22。上述省略图示的螺栓以头部朝上的方式穿过各部件11、12、21、22，并将其根部拧入前端板70。上述螺栓用的内螺纹孔自前端板70的顶面形成至厚度方向的中途。内螺纹孔未到达前端板70的底 如图8所示，在前端板70上形成有三个狭缝71 73。狭缝71 73分别沿前端板70的长度方向(第一方向)呈直线状延伸，并在前端板70的宽度方向(第二方向)上相互隔着间隔地平行配置。在前端板70的宽度方向(第二方向)的中央部配置有供给狭缝71。在该供给狭缝71的背面侧(在图6中为左侧)配置有背面侧吸引狭缝72，在正面侧(在图6中为右侧)配置有正面侧吸引狭缝73。
如图4所示，中央的供给狭缝71与供给槽40的开口槽部42下端的开口相连。背面侧吸引狭缝72与背侧吸引槽50的开口槽部52下端的开口相连。正面侧吸引狭缝73与正面侧吸引槽60的开口槽部62下端的开口相连。各狭缝71 73的长度与上述开口槽部 42、52、62的长度大致相等。各狭缝71 73的宽度(在第二方向上的尺寸)比上述开口槽部42、52、62的深度(在第二方向上的尺寸)小。说明本发明的最具有特征性的结构。如图1所示，在第一槽形成部件即供给槽形成部件11的正面Ilf形成有外侧槽 80。外侧槽80配置在第一槽形成部件11正面侧的主面Ilf的比处理气体供给槽40靠外侧的部分。外侧槽80将比供给槽40下端(前端)的开口更靠上侧(基端侧)的部分局部地包围。外侧槽80包含有一对外侧槽部82、83。外侧槽部82、83隔着供给槽41的上端部， 分开地配置在槽形成部件11的长度方向的两侧。在图1中，配置在供给槽形成部件11长度方向的中央部的左侧的外侧槽部82，与朝左侧分支的分支槽41a及与该左侧分支槽41a的前端相连的分支槽41b 41e相比，配置在正面Ilf的外侧部分(上侧及左侧)，该外侧槽部82以沿着这些分支槽41a 41e的外缘的方式，自正面Ilf的左外侧部分的上端部(基端部)至下端部(前端部)呈阶梯状延伸。如图1及图5所示，外侧槽部82的上端部配置在背面侧吸引集管路径32和上述左侧分支槽41a之间，并与背面侧吸引集管路径32相连。 如图1所示，外侧槽部82的下端部配置在供给槽形成部件11左侧的外端面和开口槽部42 的左端缘之间，并且该外侧槽部82的下端部离开供给槽形成部件11的下端面(前端面)而位于该供给槽形成部件11的下端面(前端面)的稍上方(基端侧)。如图5及图7所示， 作为覆盖部件的第二槽形成部件12覆盖供给槽形成部件11，因此，外侧槽部82的面Ilf侧的开口被堵住。由此，外侧槽部82构成与背面侧吸引集管路径3相连的气体路径。在图1中，配置在供给槽形成部件11长度方向的中央部的右侧的外侧槽部83，与朝右侧分支的分支槽41a及与该右侧分支槽41a的前端相连的分支槽41b 41e相比配置在正面Ilf的外侧部分(上侧及右侧)，该外侧槽部83以沿着这些分支槽41a 41e的外缘的方式，自正面Ilf的右外侧部分的上端部(基端部)至下端部(前端部)呈阶梯状延伸。如图1及图6所示，外侧槽部83的上端部配置在正面侧吸引集管路径33和上述右侧分支槽41a之间，并与正面侧吸引集管路径33相连。如图1所示，外侧槽部83的下端部配置在供给槽形成部件11右侧的外端面和开口槽部42的右端缘之间，并且该外侧槽部83的下端部离开供给槽形成部件11的下端面(前端面)而位于该供给槽形成部件11的下端面 (前端面)的稍上方(基端侧)。如图6所示，同样地，外侧槽部83的面Ilf侧的开口被覆盖部件12堵住，外侧槽部83构成与正面侧吸引集管路径33相连的气体路径。说明利用上述结构的表面处理装置1对被处理物9进行表面处理的方法。处理气体自处理气体源4通过供给路径如导入喷嘴装置3的供给口 34。处理气体通过供给集管路径31进入树状槽部41内。该处理气体按照一次分支槽41a、二次分支槽 41b、三次分支槽41c、末次分支槽41e的顺序流动，从而沿第一方向扩散。并且，处理气体自各末次分支槽41e的下端(树状槽部41的末端)输送到开口槽部42。在该开口槽部42 的凸条47的上侧部分，来自各分支槽41e的处理气体彼此混合。接着，处理气体在通过节流部48的同时被节流，此后，流到凸条47下侧的开口槽部42并膨胀。进而，处理气体在通过供给狭缝71的同时被节流。由此，可以使处理气体在第一方向上充分地均质化。接着， 处理气体自供给狭缝71向下方喷出。与此同时，配置在配置部2上的被处理物9以横穿喷嘴装置3下方的方式沿第二方向移动。向该被处理物9吹送处理气体，以便对被处理物9进行表面处理。由于处理气体在第一方向上构成均质，因此，可以均勻地对被处理物9进行表面处理。在供给处理气体的同时驱动吸引机构5。由此，喷嘴装置3和被处理物9之间的已处理气体或气氛气体被吸入吸引狭缝72、73。背面侧吸引狭缝72及开口槽部52构成与开口槽部42及供给狭缝71同样的结构， 因此，根据与上述喷出时同样的作用，可以使自背面侧吸引狭缝72吸入的气体的流通状态在第一方向上均勻化。同样地，由于正面侧吸引狭缝73及开口槽部62构成与开口槽部42 及供给狭缝71同样的结构，因此，可以使自正面侧吸引狭缝73吸入的气体的流通状态在第一方向上均勻化。由此，可以进一步提高表面处理的均勻性。进入开口槽部52的气体此后经过多个分支槽51e并在树状槽部51汇合，接着经过背面侧吸引集管路径32、背面侧吸引口 35输送到背面侧吸引路径如。同样地，进入开口槽部62的气体经过分支槽6Ie、正面侧吸引集管路径33、正面侧吸引口 36输送到正面侧吸引路径5d。来自这些吸引路径fe、5d的气体在共用吸引路径5g汇合并被吸引机构5吸引。 吸引气体在利用附设于吸引机构5的除害设备实施除害处理后被排出。在此，也假设在供给槽40内流过时的处理气体的一部分欲沿着槽形成部件11、12 之间漏到外部。如上所述的泄漏气流在中途被任一个外侧槽部82或83捕获。吸引机构5 的吸引压力经由背面侧吸引集管路径32、背面侧吸引口 35及吸引路径fe、5g导入到外侧槽部82。因此，进入外侧槽部82的泄漏气体依次经过上述吸引压力导入路32、35、fe、5g输送到吸引机构5，在实施除害处理后被排出。同样地，吸引机构5的吸引压力经由正面侧吸引集管路径33、正面侧吸引口 36及吸引路径5d、5g导入到外侧槽部83。因此，进入外侧槽部 83的泄漏气体依次经过上述吸引压力导入路33、36、5d、5g输送到吸引机构5，在实施除害处理后被排出。因此，即便处理气体的一部分自供给槽40泄漏，也可以防止该处理气体自喷嘴装置3的上侧部或外周部泄漏到气氛气体中。由此，可以防止污染气氛气体或腐蚀周边装置， 从而可以提高安全性。而且，通过将吸引压力导入外侧槽部82，可以使供给槽形成部件11 和覆盖部件12牢固地紧贴。因此，可以充分抑制处理气体自处理气体供给槽40泄漏这种不良情况。万一处理气体泄漏到喷嘴装置3的外部，由于喷嘴装置3被罩8包围，因此，也可以将上述泄漏气体封闭在罩8和喷嘴装置3之间的空间8a内，从而防止该泄漏气体自罩8 向外部泄漏。空间8a内的气体可以经由吸引路径7a由吸引机构7吸引并排出。由此，可以更可靠地防止污染气氛气体或腐蚀周边装置，从而可以进一步提高安全性。接着，说明本发明的其他实施方式。在以下的实施方式中，对与已经叙述的实施方式重复的结构，在图中标注同一附图标记而省略说明。图10表示本发明的第二实施方式。在该实施方式中，两个外侧槽部82、83由连通外侧槽部81相连，整体构成一个外侧槽80。详细论述如下。即在供给槽形成部件11的主面Ilf上侧的中央部设置有连通外侧槽部81。连通外侧槽部81以包围供给集管路径31上侧部分的方式构成倒U形。连通外侧槽部81的一侧(在图10中为左侧)的下端部与外侧槽部82相连，另一侧(在图10中为右侧)的下端部与外侧槽部83相连。利用这些槽部81 83，构成一个外侧槽80。根据第二实施方式，比处理气体供给槽40的前端(下端)更靠基端侧(上侧)的部分被一个外侧槽80不中断地包围，因此，可以更可靠地防止处理气体泄漏。特别是，可以利用中央的外侧槽部81将自供给集管路径31或槽41的上端部附近泄漏的处理气体捕获， 从而能够可靠地防止处理气体泄漏到喷嘴装置3的外部。图11及图12表示本发明的第三实施方式。在该实施方式中，替代在供给槽形成部件11正面侧的主面Ilf而在覆盖部件12背面侧的覆盖面12r形成外侧槽80。外侧槽 80配置于图11中由假想线所示的处理气体供给槽40的外侧，这一点与第一、第二实施方式相同。另外，第三实施方式的外侧槽80与第二实施方式同样地，具有将两个外侧槽部82、83 相连的连通外侧槽部81，但也可以与第一实施方式同样地使两个外侧槽部82、83分离。如图12所示，由于供给槽形成部件11和覆盖部件12重叠，因此，形成于覆盖部件 12的外侧槽80的面12r侧的开口被供给槽形成部件11的主面Ilf堵住。由此，外侧槽80 的内部构成吸引通路。图13表示本发明的第四实施方式。第四实施方式是使喷嘴装置3与被处理物9的大型化对应的实施方式，在该实施方式中，第一槽形成部件11沿长度方向(第一方向)分割成两个(多个)分割板13、13。换言之，第一槽形成部件11由两个(多个)分割板13、 13构成。邻接的两个分割板13、13的侧端面(分割端面)1；^、1；^彼此对接在一起。两个分割板13、13在第一方向上的合计长度与被处理物9在该方向上的尺寸对应。以下，在彼此区分两个分割板13、13时，在图13中左侧的分割板13的附图标记上标上“A”，在右侧的分割板13的附图标记上标上“B”。在图13中，左侧的分割板13A除右侧的分割板13B附近的部分之外，与第一实施方式(图1)的槽形成部件11的形状相同。右侧的分割板13B除左侧的分割板13A附近的部分之外，构成将第一实施方式(图1)的槽形成部件11左右翻转而形成的形状。因此，分割板13B的背面侧吸引集管路径32及外侧槽部82配置在该分割板13B的右侧部分。分割板13B的正面侧吸引集管路径33及外侧槽部83配置在该分割板13B的左侧部分。供给槽形成部件11的外侧槽80作为整体而具有四个外侧槽部82、83。进一步详述分割板13的形状。左侧的分割板13A比开口槽部42的凸条47更靠下侧的部分到达向右侧的分割板 13B对接的对接端面13e。右侧的分割板13B的比开口槽部42的凸条47更靠下侧的部分到达向左侧的分割板13A对接的对接端面13e。由此，邻接的两个分割板13A、13B的开口槽部42、42彼此相连。这些开口槽部42、42的连通部49到达槽形成部件11的下端面(前端面)°各分割板13的外侧槽部83的下端部位于端面13e附近且处于开口槽部42的上侧。虽省略图示，但两个分割板13、13的背侧吸引槽50、50的开口槽部52、52彼此也
同样地相互连通。并且，虽省略图示，但在第四实施方式中，对于第二槽形成部件12而言，也同样地由两个(多个)分割板构成，这些分割板的开口槽部62彼此相连。外壁部件21、22构成将两个(多个)分割板一体相连的形状。前端板70的狭缝71、72、73分别具有与两个开口槽部42、42 ；52,52 ；62、62对应的长度，并与两个开口槽部42、42 ；52,52 ；62、62相连。供给路径如分支成两个(多个)，并与各分割板的供给集管路径31连接。自各分割板导出的正面侧吸引路径如彼此汇合，并与气体吸引机构5连接。同样地，自各分割板导出的背面侧吸引路径5d彼此汇合，并与气体吸引机构5连接。根据第四实施方式，处理气体分别导入两个供给集管路径31、31，并通过各分割板 13的树状槽部40沿第一方向扩散，从而流入各开口槽部42。进入分割板13A的开口槽部 42的处理气体的靠近分割板13B的部分处理气体和进入分割板13B的开口槽部42的处理气体的靠近分割板13A的部分处理气体，分别流入连通部49并彼此汇合。此后，处理气体自供给狭缝71的长度方向的整个区域吹出。由此，即便被处理物9是大型被处理物，也可以将处理气体一下子吹送到该被处理物9在第一方向上的整个部分并进行表面处理。而且， 由于处理气体在第一方向上被均质化，因此可以均勻地进行表面处理。特别是，由于在使处理气体在连通部49汇合之后将其吹出，因此，可以防止遗漏对被处理物9表面的对应于分割板13、13连接处的部位的处理，从而可以充分确保处理的均勻性。第四实施方式的喷嘴装置3对应于被处理物9的大型化，将树状槽部41、51、61分别分割成两个(多个)并沿第一方向排列。由此，与在喷嘴装置整体仅设置一个树状槽部 41、51、61来应对大型被处理物的情况相比，可以减少树状槽部41、51、61的分岔的级数。因此，可以减小槽形成部件11、12的高度(在上下方向上的尺寸)。其结果是，可以避免喷嘴装置3的重量过重。图14 图16表示本发明的第五实施方式。如图14所示，在该实施方式中，外侧槽部82的下端部相比第一实施方式向更下方延伸，并到达槽形成部件11的下端面。如图15(a)所示，在槽形成部件11下端面(前端面)的左端部的开口槽部42、52的外侧部分形成有端槽84。端槽84沿槽形成部件11下端面(前端面)的宽度方向(第二方向，在该图中为上下方向)延伸。端槽84正面侧(面 Ilf侧)的端部与外侧槽部82的下端部相连。端槽84背面侧(面Ilr侧)的端部到达面 Ilr并开口，该开口被背面侧外壁部件21堵住。在槽形成部件12下端面的左端部的开口槽部62的外侧部分形成有端槽86。端槽 86沿槽形成部件12下端面(前端面)的宽度方向(第二方向，在该图中为上下方向)延伸。端槽86正面侧(面12f侧)的端部到达面12f并开口，该开口被正面侧外壁部件22堵住。端槽86背面侧的端部到达槽形成部件12的背面(与槽形成部件11抵接的抵接面)， 并与外侧槽部82及端槽84相连。端槽86和端槽84沿第二方向呈一直线地相连。同样地，如图14所示，外侧槽部83的下端部相比第一实施方式向更下方延伸并到达槽形成部件11的下端面。如图15(b)所示，在槽形成部件11下端面的右端部的开口槽部42、52的外侧部分形成有端槽85。端槽85沿槽形成部件11下端面(前端面)的宽度方向(第二方向，在该图中为上下方向)延伸。端槽85正面侧(面Ilf侧)的端部与外侧槽部83的下端部相连。端槽85背面侧(面Ilr侧)的端部到达面Ilr并开口，该开口被背面侧外壁部件21堵住。在槽形成部件12下端面的右端部的开口槽部62的外侧部分形成有端槽87。端槽87沿槽形成部件12下端面(前端面)的宽度方向(第二方向，在该图中为上下方向)延伸。端槽87正面侧(面12f侧)的端部到达面12f并开口，该开口被正面侧外壁部件22 堵住。端槽87背面侧的端部到达槽形成部件12的背面(与槽形成部件11抵接的抵接面) 并与外侧槽部83及端槽85相连。端槽87和端槽85沿第二方向呈一直线地相连。如图16所示，第五实施方式的前端板70具有四个(多个)狭缝划分板74和一对端板75。这些板74、75例如由氧化铝等的陶瓷构成。六个板74、75分别构成分体结构， 彼此能够分离。各狭缝划分板74构成沿第一方向延伸且使宽度方向朝向第二方向的长的平板状。四个狭缝划分板74沿第二方向隔着间隔地平行排列。四个狭缝划分板74分别与板状层叠部件11、12、21、22—一对应，并覆盖对应的部件11、12、21、22的底面(前端面)，由螺栓(省略图示)连结在一起。上述螺栓以头部朝上 (图16的纸面里侧)的方式穿过各部件11、12、21、22，并将根部拧入狭缝划分板74。上述螺栓用的内螺纹孔自狭缝划分板74的顶面形成至厚度方向的中途。内螺纹孔未到达狭缝划分板74的底面。在四个狭缝划分板74中的、除与正面侧外壁部件22对应的狭缝划分板之外的三个狭缝划分板74的长度方向的两端部，分别设置有朝相邻的狭缝划分板74突出的凸部76。 各凸部76抵靠在相邻的狭缝划分板74上。在与第一槽形成部件11和第二槽形成部件12 对应的两个(一对)狭缝划分板74、74彼此之间形成有供给狭缝71。在与背面侧外壁部件 21和第一槽形成部件11对应的两个(一对)狭缝划分板74、74彼此之间形成有背面侧吸引狭缝72。在与第二槽形成部件12和正面侧外壁部件22对应的两个(一对)狭缝划分板 74、74彼此之间形成有正面侧吸引狭缝73。由凸部76划分出狭缝71、72、73的延伸方向的端部。根据凸部76的抵靠，可以准确且容易将狭缝划分板74彼此沿第二方向定位。根据凸部76的突出量，可以设定狭缝71 73的开口宽度。如图15(a)及图16所示，四个狭缝划分板74左侧的端缘彼此共面，而且与端槽 84、86内侧(开口槽部42、52、62的一侧)的边缘刚好一致。如图15(b)及图16所示，四个狭缝划分板74右侧的端缘彼此共面，而且与端槽85、87内侧(开口槽部42、52、62的一侧)的缘刚好一致。如图16所示，前端板70的一对端板75配置于喷嘴装置3底面(前端面)在第一方向上的两端部，并分别构成沿第二方向延伸的平板状。各端板75横跨板状层叠部件11、 12、21、22并覆盖这些部件11、12、21、22的长度方向的端部。虽省略图示，但端板75利用螺栓固定在部件11、12、21、22上。端板75的固定用螺栓以头部朝上(图9的纸面里侧)的方式穿过各部件11、12、21、22，并将根部拧入端板75。上述螺栓用的内螺纹孔自端板75的顶面形成至厚度方向的中途。内螺纹孔未到达端板75的底面。各端板75的两端部分别抵靠在与背面侧外壁部件21对应的狭缝划分板74的端面和与正面侧外壁部件22对应的狭缝划分板74的端面上。在端板75内侧(朝向狭缝划分板74的一侧)的边缘形成有细长凹部75a。细长凹部7 沿第二方向延伸。细长凹部 7 的延伸方向的一端部，从底面看与背面侧外壁部件21和槽形成部件11的分界一致。细长凹部75a的延伸方向的另一端部从底面看与槽形成部件12和正面侧外壁部件22的分界一致。
在图16中，在左侧的端板75的细长凹部7 的内缘和狭缝划分板74的端面之间， 划分出沿第二方向延伸的外端吸引狭缝78。外端吸引狭缝78从底面看刚好与端槽84、86 重叠，并与这些端槽84、86相连。外端吸引狭缝78的长度方向(第二方向)的中央部与外侧槽部82直接相连。在图16中，在右侧的端板75的细长凹部7 的内缘和狭缝划分板74的端面之间， 划分出沿第二方向延伸的外端吸引狭缝79。外端吸引狭缝79从底面看刚好与端槽85、87 重叠，并与这些端槽85、87相连。外端吸引狭缝79的长度方向(第二方向)的中央部与外侧槽部83直接相连。根据第五实施方式，由于吸引压力被导入外侧槽80的各槽部82、83，因此，不仅可以在外侧槽部82、83捕获自供给槽40泄漏的处理气体，而且，向一侧的外侧槽部82导入的吸引压力也被导入端槽84、86，向另一侧的外侧槽部83导入的吸引压力也被导入端槽85、 87。由此，喷嘴装置3和被处理物9之间的已处理气体欲向喷嘴装置3的左外侧流动时，该已处理气体被吸入外端吸引狭缝78。该已处理气体经过端槽84、86被吸入外侧槽部82，进而经过集管路径32、吸引路gfe、5g被吸引机构5吸引。同样地，欲自喷嘴装置3和被处理物9之间向右外侧流动的已处理气体被吸入外端吸引狭缝79，经过端槽85、87进入外侧槽部83，进而经过集管路径33、吸引路径5d、5g被吸引机构5吸引。由此，可以防止已处理气体自喷嘴装置3的长度方向(第一方向)的两端向外侧泄漏。图17 图19表示本发明的第六实施方式。如图17所示，在该实施方式中，在槽形成部件11背面侧的面llr，替代第一实施方式(图2、的背侧吸引槽50而形成有背侧吸引槽53。背侧吸引槽53沿槽形成部件11的长度方向(第一方向)笔直延伸，且到达槽形成部件11的下端面(前端面)。如图19所示，背面侧外壁部件21覆盖槽形成部件11的背面llr，因此，背侧吸引槽53的面Ilr侧的开口被堵住。如图17 图19所示，在槽形成部件11形成有将外侧槽部82与背侧吸引槽53相连的连通孔M。连通孔M自外侧槽部82沿槽形成部件11的厚度方向(第二方向)延伸， 并贯通至背侧吸引槽53的内面。如图17及图18所示，同样地，在槽形成部件11形成有将外侧槽部83与背侧吸引槽53相连的连通孔55。连通孔55自外侧槽部83沿槽形成部件 11的厚度方向(第二方向)延伸，并贯通至背侧吸引槽53的内面。在第六实施方式中，吸引压力被导入外侧槽80的各槽部82、83，因此，不仅可以在外侧槽部82、83捕获自供给槽40泄漏的处理气体，而且，也可以经由连通孔M将向外侧槽部82导入的吸引压力导入背侧吸引槽53，并且，可以经由连通孔55将向外侧槽部83导入的吸引压力导入背侧吸引槽53。由此，可以自背侧吸引槽53吸引欲从供给狭缝71的正下方朝第二方向的外侧流出的已处理气体，从而可以利用吸引机构5经过连通孔M、55、外侧槽部82、83吸引上述已处理气体并将其排出。图20 图23表示本发明的第七实施方式。在该实施方式中，在喷嘴装置3上装配有一对电极90、90，处理气体在喷嘴装置3内被等离子化。详细论述如下。即如图20及图22所示，喷嘴装置3具有框架94。框架94例如由铝等金属构成。框架94构成沿第一方向延伸且底部敞开的容器状。如图21及图22所示，在框架94的内部收纳有供给槽形成部件91和覆盖部件92。这两个部件91、92例如由氧化铝等的陶瓷构成。这些部件91、92分别构成沿第一方向延伸的容器状且彼此沿第二方向对接在一起。供给槽形成部件91及覆盖部件92起到收纳电极90的收纳部件的作用。即，在供给槽形成部件91上，形成有朝与覆盖部件92的对置方向相反的一侧开口的收纳凹部91a。 在覆盖部件92上形成有朝与供给槽形成部件91的对置方向相反的一侧开口的收纳凹部 92a。在这些收纳凹部91a、92a内分别收纳有电极90。收纳凹部91a、92a的开口分别被盖 93堵住。如图21所示，各电极90沿第一方向延伸。如图22所示，一侧的电极90与电源PW 连接而构成电场施加电极。另一侧的电极90电接地而构成接地电极。在此，收纳在供给槽形成部件91内的电极90构成电场施加电极，收纳在覆盖部件92内的电极90构成接地电极，但也可以使收纳在供给槽形成部件91内的电极90构成接地电极而使收纳在覆盖部件 92内的电极90构成电场施加电极。如图21 图23所示，在供给槽形成部件91的覆盖部件92侧的主面91f形成有处理气体供给槽40。处理气体供给槽40沿第一方向延伸成比电极90稍短。处理气体供给槽40的上端部到达供给槽形成部件91的顶面，处理气体供给槽40的下端部到达供给槽形成部件91的底面。处理气体供给槽40的俯视截面在上下方向上恒定。在第七实施方式的处理气体供给槽40未设置树状槽部41。覆盖部件92的覆盖面92r覆盖供给槽形成部件 91的主面91f，因此，处理气体供给槽40的主面91f侧的开口被堵住。如图20及图22所示，在框架94的顶面，以沿第一方向延伸的方式形成有导入狭缝94a。导入狭缝9 与处理气体供给槽40的上端部相连。在框架94之上配置有整流部 95。整流部95构成沿第一方向延伸的容器状。在整流部95的内部形成有整流室95a。如图20所示，整流室95a由整流板96上下分隔为两个室。如图22所示，在整流板96的第二方向上的两端部和整流部95的内壁之间，形成有将整流室95a的上下室相连的间隙。如图20及图22所示，在整流部95的上部，经由供给口 34连接有处理气体供给路径4a。 处理气体自供给路径如导入整流室％a而被整流。整流后的处理气体经过导入狭缝9 导入处理气体供给槽40。与此同时，根据来自电源PW的电压供给，在电极90、90之间施加有电场，从而产生大气压辉光放电。由此，处理气体在供给槽40内向下方流动的过程中被等离子化，从而生成反应成分。该被等离子化的处理气体自供给槽40的下端喷出， 并吹送到被处理物9。该处理气体的反应成分与被处理物9接触，从而可以对被处理物9进行表面处理。由陶瓷(电介质)构成的部件91、92配置在电极90的放电面并作为使放电稳定的固体电介质层起作用。并且，在第七实施方式中，如图20及图21所示，在供给槽形成部件91的主面91f 的处理气体供给槽40的第一方向上的两外侧部分，分别形成有外侧槽部82、83。由外侧槽部82和外侧槽部83构成外侧槽80。外侧槽部82、83沿上下方向延伸。外侧槽部82、83的上端部到达供给槽形成部件91的顶面，外侧槽部82、83的下端部到达供给槽形成部件91 的底面。覆盖部件92的覆盖面92r覆盖供给槽形成部件91的主面91f，因此，外侧槽部82、 83的主面91f侧的开口被堵住。如图20所示，在框架94顶面的第一方向上的两侧部，分别形成有吸引连通孔94b、 94c。一侧的连通孔94b与外侧槽部82的上端部相连。另一侧的连通孔Mc与外侧槽部83的上端部相连。在整流部95内部的第一方向上的两侧部，分别设置有隔壁97。利用隔壁97将整流部95的内部分隔为整流室9 和该整流室95a的第一方向上的两侧的吸引室95b、95c。 连通孔94b进而外侧槽部82与一侧的吸引室9 相连。连通孔Mc进而外侧槽部83与另一侧的吸引室95c相连。吸引室9 经由吸引口 35与吸引路径相连。吸引室95c经由吸引口 36与吸引路径5d相连。并且，如图20及图21的虚线所示，在供给槽形成部件91底面的处理气体供给槽 40的第一方向上的两外侧，以沿第二方向延伸的方式分别形成有端槽84、85。在覆盖部件 92底面的处理气体供给槽40的第一方向上的两外侧，以沿第二方向延伸的方式分别形成有端槽86、87。如图23所示，端槽84和端槽86沿第二方向呈一直线地相连且与外侧槽部 82的下端相连。同样地，端槽85和端槽87沿第二方向呈一直线地相连且与外侧槽部83的下端相连。吸引机构5 (未图示)的吸引压力依次经过路径fe、卯b、94b导入外侧槽部82。由此，在处理气体自供给槽40泄漏到槽部82侧的情况下，可以在外侧槽部82捕获该处理气体并由吸引机构5对其进行吸引。另外，吸引机构5的吸引压力也依次经过路径5d、95c、 94c导入外侧槽部83。由此，在处理气体自供给槽40泄漏到槽部83侧的情况下，可以在外侧槽部83捕获该处理气体并由吸引机构5对其进行吸引。并且，上述吸引压力也经过外侧槽部82的下端部导入端槽84、86，并且也经过外侧槽部83的下端部导入端槽85、87。由此，当喷嘴装置3和被处理物9之间的已处理气体欲朝喷嘴装置3的长度方向的外侧流动时，可以将已处理气体吸入端槽84 87并由吸引机构5对其进行吸引。本发明并不限于上述实施方式，在本发明主旨的范围内可以进行各种变更。例如，外侧槽80也可以形成在上述主面Ilf和覆盖面12r这两个面。也可以将外侧槽部82、83中的任一个形成在主面Ilf而将另一个形成在覆盖面12r。外侧槽80配置在上述主面Ilf或覆盖面12r的、处理气体供给槽40的外侧部分即可，不一定需要自面llf、12i 的基端部(上端部)至前端部(下端部)延伸，中间部可以中断，该外侧槽80也可以仅设置于面llf、12i 的基端部(上端部)或前端部(下端部)。 外侧槽80优选配置在处理气体自供给槽40容易泄漏的部分。外侧槽80并不限于一条，也可以排列设置多条外侧槽80。也可以在覆盖部件12、92上设置处理气体供给槽40。树状槽部41以随着靠近槽形成部件11的下端面(前端面)而朝第一方向扩展的方式分岔即可，自一个干路分支的支路的数量不限于两个，也可以是三个以上。而且，分岔的级数可以适当设定。对树状槽部51、61而言也一样。在上述实施方式中，虽然自一个干路对称地分支成支路，但也不一定需要对称地分支。处理气体供给槽40的形状不限于树状。例如，也可以是自供给集管路径31朝向供给狭缝使下摆部扩展的三角形状的槽。在第一 第五实施方式中，喷出路径00、71)和隔着该喷出路径的一对吸引路径 (50,72 ；60,73)所构成的组也可以沿第二方向排列而设置有多组。
在第四实施方式(图13)中，槽形成部件11也可以由三个以上的分割板13构成。在第四实施方式(图13)中，可以使各分割板13的外侧槽部83在端面1 开口， 并使邻接的分割板13、13的外侧槽部83、83经由朝向上述端面13e的开口彼此连通。在第四实施方式(图13)中，也可以构成为，构成槽形成部件11的两个(多个) 板13 —体相连，两个(多个)树状槽部41沿第一方向排列而形成在该一体部件的槽形成部件11的正面。也可以将多个实施方式相互组合。例如，在第二 第七实施方式中，与第一实施方式(图9)同样地，也可以设置将喷嘴装置3覆盖的罩8。在第四实施方式(图13)中，与第五实施方式(图14)同样地，也可以构成为，将在第一方向上的两端的外侧槽部82、83延伸至槽形成部件11的前端面，并在槽形成部件11前端面的第一方向上的外端部分设置端槽 84 87。在第四实施方式(图13)或第五实施方式(图14)中，与第二实施方式(图10) 同样地，也可以使外侧槽部82、83彼此由连通槽81相连。也可以将第七实施方式(图20)的不具有树状槽部的处理气体供给槽40适用于第一 第六实施方式的不具有电极90的喷嘴装置3。在第七实施方式中，与第二实施方式同样地，也可以替代在供给槽形成部件91上设置外侧槽80 (82,83)，而将其设置在覆盖部件92上。工业实用性本发明能够适用于例如平板显示器(FPD)或半导体晶片的制造。附图标记说明1表面处理装置2被处理物配置部3喷嘴装置4处理气体源5气体吸引机构7第二气体吸引机构8 罩9被处理物11第一槽形成部件(供给槽形成部件)Ilf 主面12第二槽形成部件(覆盖部件)12r覆盖面21背面侧外壁部件(第二覆盖部件)30集管部31供给集管路径32背面侧吸引集管路径33正面侧吸引集管路径40处理气体供给槽
42开口槽部
53背侧吸引槽
54连通孑L
55连通孑L
70前端板
71供给狭缝
72背面侧吸引狭缝
73正面侧吸引狭缝
75a凹部
78外端吸引狭缝
79外端吸引狭缝
80外侧槽
81连通外侧槽部
82外侧槽部
83外侧槽部
84端槽
85端槽
90电极
91供给槽形成部件
92覆盖部件
权利要求
1.一种表面处理用喷嘴装置，向被处理物供给处理气体，该表面处理用喷嘴装置的特征在于，具有供给槽形成部件，其呈板状并具有形成有处理气体供给槽的主面和与所述主面交叉的前端面，所述处理气体供给槽到达所述前端面；以及覆盖部件，其具有以覆盖所述主面的方式与所述主面重叠的覆盖面， 所述处理气体供给槽与处理气体的供给机构连接，在所述主面和所述覆盖面中的任一方的所述处理气体供给槽的外侧部分形成有外侧槽，所述外侧槽与气体吸引机构连接。
2.如权利要求1所述的表面处理用喷嘴装置，其特征在于，所述外侧槽设置成跨在所述主面或所述覆盖面的所述外侧部分的基端部和前端部之间。
3.如权利要求1所述的表面处理用喷嘴装置，其特征在于，所述外侧槽延伸成将所述处理气体供给槽的比所述前端面靠基端侧的部分局部地包围。
4.如权利要求1所述的表面处理用喷嘴装置，其特征在于，在所述前端面的比所述处理气体供给槽靠外侧的部分，形成有与所述外侧槽相连且沿所述前端面的宽度方向延伸的端槽。
5.如权利要求1所述的表面处理用喷嘴装置，其特征在于，还具有第二覆盖部件，该第二覆盖部件覆盖所述供给槽形成部件的与所述主面相反一侧的背面，在所述背面形成有沿所述前端面的长度方向延伸且到达所述前端面的背侧吸引槽。
6.如权利要求5所述的表面处理用喷嘴装置，其特征在于，在所述供给槽形成部件形成有将所述外侧槽和所述背侧吸引槽相连的连通孔。
7.如权利要求1 6中任一项所述的表面处理用喷嘴装置，其特征在于，所述处理气体供给槽包含树状的槽部并到达所述前端面，所述槽部与处理气体的供给机构连接且以随着靠近所述前端面而朝所述前端面的长度方向扩展的方式进行分岔。
8.如权利要求1 6中任一项所述的表面处理用喷嘴装置，其特征在于，利用罩覆盖基端部及外周部，并在所述罩上连接第二气体吸引机构。
全文摘要
本发明提供一种表面处理用喷嘴装置，其可以防止处理气体自表面处理用喷嘴装置泄漏。在喷嘴装置(3)的板状的供给槽形成部件(11)的主面(11f)形成处理气体供给槽(40)，利用覆盖部件(12)覆盖主面(11f)，并将处理气体的供给机构(4)与处理气体供给槽(40)连接。使开口槽部(42)在与供给槽形成部件(11)的主面(11f)交叉的前端面开口。而且，在主面(11f)或覆盖部件(12)的覆盖面(12r)的、位于处理气体供给槽(40)外侧的部分，形成外侧槽(80)，将外侧槽(80)与气体吸引机构(5)连接。
文档编号H01L21/205GK102165098SQ200980138209
公开日2011年8月24日 申请日期2009年9月15日 优先权日2008年9月29日
发明者屋代进 申请人:积水化学工业株式会社