专利名称：新型透明oled显示屏及其制造方法
技术领域：
本发明涉及一种显示屏，尤其涉及一种新型透明OLED显示屏及其制造方法。
背景技术：
有机电致发光显示器(简称0LED)是目前新兴的一种平板显示器，因它有主动发 光，对比度高，能薄型化，响应速度快等诸多优点，被公认为是下一代显示器的主力军。OLED 主要包含一玻璃基板，一透明电极，一有机发光层以及一金属电极。OLED显示器的发光原 理是以透明电极为阳极，以金属电极为阴极，当在两电极之间加上适当的电压，空穴与电 子分别由透明电极和金属电极界面注入到有机发光层复合而发光。具有很高透明度的透明 OLED可用于平视显示器、透明窗口和广告牌等领域，已经成为研究热潮，这种新型的OLED 显示屏将会有广大的市场需求。如图1所示，传统的透明0LED，是在玻璃衬底上依序制备透明电极、有机层(包括 空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层、电子注入层)、金属阴极和钝化层，封装 方式采用UV胶加上干燥剂(非发光区，如图1所示)；为了得到很高的透过率，金属阴极做 得很薄，而且覆盖到非发光区，金属阴极处于非发光区区域的部分与掏空的绝缘层(如PI 层)底下的阴极搭接块连接。传统的透明0LED，仅可以得到约50% 60%的透过率，而且 由于金属阴极做得很薄，导致阴极电阻过大以及阴极与底层的阴极搭接块接触不良，使得 OLED显示屏显示质量差、可靠性差以及使用寿命短等不足。
发明内容
本发明要解决的技术问题是克服现有技术存在的缺陷，提供一种新型透明OLED 显示屏，提高透过率及显示质量。本发明提供的一种新型透明OLED显示屏，包括基板玻璃、设置在基板玻璃上的阳 极、有机层、阴极、钝化层、绝缘层，所述阴极包括第一层阴极及第二层阴极，所述第一层阴 极至少覆盖整个发光区，所述第二层阴极与第一层阴极连接，并覆盖发光区的边缘和非发 光区。优选地，所述第一层阴极的厚度典型值为50A 500A。优选地，所述第一层阴极还覆盖非发光区，所述绝缘层下部设有若干空腔，所述空 腔中设有阴极搭接块，处于非发光区的第一层阴极在绝缘层范围内与所述阴极搭接块连 接。优选地，所述第二层阴极的厚度典型值为300 1500A。优选地，处于发光区的第二层阴极，其大小占一个像素大小的1/5 1/14。优选地，所述绝缘层下部设有若干空腔，所述空腔中设有阴极搭接块，处于所述非 发光区的第二阴极层在绝缘层范围内与所述阴极搭接块连接。本发明提供的一种新型透明OLED显示屏的制作方法，包括如下步骤在准备好的基板玻璃上依次制备阳极、有机层、第一层阴极、第二层阴极、钝化层；其中，制备的第一层阴极至少覆盖整个发光区，制备的第二层阴极要覆盖发光区的边缘及 非法光区。优选地，所述第一层阴极的厚度典型值为50A 500A，所述第二层阴极的厚度典 型值为300A 1500A。优选地，处于发光区的第二层阴极，其大小制作为占一个像素大小的1/5 1/14。与现有技术相比，本发明具有如下优点本发明提供的新型透明OLED显示屏，由于阴极采用第一层阴极及第二层阴极的 设置方式，因此，第一层阴极可以设置很薄，第二层阴极可以设置的比较厚，第二层阴极仅 覆盖有机层的一小部分，因此不会影响发光效果，由于第一层阴极可以做的很薄，因此可以 大大提高阴极的透过率，透过率可提高到70%左右，由于第二层阴极可以做的比较厚，因而 还可以提高透明OLED显示屏的显示质量和可靠性，延长使用寿命。
图1为现有技术中透明OLED显示屏的结构示意图；图2为本发明实施例一的结构示意图；图3为图2中基板玻璃上设置阳极、绝缘层后的俯视图；图4为图2中有机层与阴极及阳极、绝缘层的配合结构图；图5为本发明实施例二的结构示意图。图中有关附图标记如下1-基板玻璃；2-阳极；3-有机层；31-空穴注入层；32-空穴传输层；33-有机发光层；34-电子传输层；35-电子注入层；4_阴极；41-第一层阴极；42-第二层阴极；5-钝化层；6_干燥剂；7-玻璃后盖 ’8-UV胶；9-隔离柱；10-绝缘层；11——阴极走线；12——阴极搭接块。
具体实施例方式本发明的基本构思是，阴极采用第一层阴极及第二层阴极的设置方式，第一层阴 极可以做得很薄，第二层阴极设置的比较厚。总体来说，第一层阴极可以分为与非发光区绝缘层PI底下的ITO阴极搭接块接 触、不与非发光区绝缘层PI底下的ITO阴极搭接块接触两种。第二层阴极在发光区必须做得比较窄，其位置可以处于像素的边缘；其也可以处 于像素的边缘和绝缘层上面，这种设置方式金属掩模板(shadow mask)的精度无需很高，有 利于制造；其也可以处于绝缘层上面。在非发光区域，第二层阴极必须与绝缘层PI底下的ITO阴极搭接块接触，但非发 光区的第二层阴极的宽度可以跟发光区一样大小，这样的大小比阴极搭接块小很多，容易 制造；也可以把宽度做大，如和阴极搭接块一样大小，阴极搭接更加良好，但制造较为复杂。需要指出的是，第一层阴极和第二层阴极是上下搭接，以便接触良好，不能是左右 接触。下面结合附图和具体的实施例对本发明的新型透明OLED显示屏及其制作方法进一步描述。实施例一参见图2、图3、图4，本实施例中的新型透明OLED显示屏，包括基板玻璃1，依次设 置在基板玻璃1上的阳极2、有机层3、阴极4、钝化层5，阴极4包括上下搭接的第一层阴极 41、第二层阴极42，在第一层阴极41、阳极2之间还部分设有绝缘层10，第二层阴极42位于 绝缘层10的上方位置；在外部非发光区绝缘层10的下部设有空腔，空腔中设有阴极搭接块 12。其中，有机层3包括空穴注入层31，空穴传输层32，有机发光层33，电子传输层 34，电子注入层35。其中，阴极4包括相互连接的第一层阴极41及第二层阴极42，其中第一层阴极41 覆盖发光区，即大小与有机层3的大小相同；第二层阴极42的膜厚为800A，第二层阴极42 覆盖发光区的边缘，其处于发光区的宽度只占整个发光区宽度的1/12，第二层阴极42还覆 盖非发光区，并延伸至绝缘层10，与阴极搭接块12连接。本实施例中，由于绝缘层10部分伸入阳极2与第一层阴极41之间，且位于第二层 阴极42的下方，因此，该处不发光，但由于第二层阴极在发光区宽度较小，因而不会影响发 光效果。实施例二参见图5，本实施例与实施例一的区别之处为阳极2上方没有设置绝缘层10，第 二层阴极42处于发光区的部分，其下方没有设置绝缘层，所以该区域有机层会发光，只是 该区域正面可以看到，反面看不到，且该区域只占整个像素发光区域的宽度较小，所以对整 体透明显示效果几乎没有影响。其余均与实施例一致，此处不再赘述。以下对本发明新型透明OLED显示屏的制作方法进行进一步说明，本发明新型透 明OLED显示屏的制作方法，具体如下包括如下步骤在准备好的基板玻璃上依次制备阳极、有机层、第一层阴极、第二层阴极、钝化层； 第一层阴极与阳极之间还设置绝缘层，其中，制备的第一层阴极至少覆盖整个发光区，制备 的第二层阴极要覆盖非法光区及发光区的边缘。下面进行详细描述1、OLED基板玻璃的图案制作选用0.55mm厚度的OLED专用导电玻璃作为基板玻璃1，使用预先设计好的曝光掩 膜板，用湿法蚀刻的办法制作OLED屏所需的辅助电极Cr、阳极-透明电极ΙΤ0、绝缘层PI、 隔离柱层RIB，如图2所示，附图标记10为绝缘层PI，附图标记11为辅助电极Cr和透明电 极ITO形成的阴极走线，附图标记12为掏空的绝缘层PI底下的ITO阴极搭接块，附图标记 9为隔离柱RIB。2、OLED基板玻璃镀膜和封装贴合该制作过程具体包括如下步骤1)蒸镀有机层用真空蒸镀的方法，在基板玻璃上用预制的金属掩模板(shadow mask)蒸镀有机 层3，即在阳极1上得到空穴注入层31，空穴传输层32，有机发光层33，电子传输层34，电子注入层；35 ；2)蒸镀第一层阴极用金属掩模板(shadow mask)蒸镀第一层阴极41，制作该第一层阴极41选用的金 属为Mg和Ag，，膜厚为50A 500A，第一层阴极41的蒸镀区域与有机层3的一样大小，并 且不与绝缘层10底下的阴极搭接块12连接；第一层阴极41所用的材料可以选自铝、镁、钙、金、银等金属以及金属之间的组
I=I O第一层阴极41的厚度可以选择50A 500A中的任意数值，如50A、100A、150A、 200A、300A、400A、500A 等。作为另外的实施方式，第一层阴极41也可做的更大，不仅覆盖发光区，还覆盖非 发光区，而且可与绝缘层10底下的阴极搭接块12连接。3)蒸镀第二层阴极用金属掩模板(shadow-mask)蒸镀第二层阴极42，该第二层阴极选用的蒸镀金属 为Al，膜厚为300A 1500A，第二层阴极宽度只占整个发光区宽度的1/12，并向外延伸与绝 缘层10底下的阴极搭接块连接；作为另外的实施方式，第二层金属阴极可选自铝、镁、钙、金、银等金属中的一种或 多种。作为另外的实施方式，第二层阴极42的厚度可以选择300A 1500A中的任意数 值，如 300A、400A、600A、700A、800A、1000A、1200A、1300A、1400A、1500A 等。需要说明的是，第二层阴极42的宽度占整个发光区宽度的比例可以为1/14 1/5 中的任意值。4)蒸镀钝化层用金属掩模板(shadow-mask)蒸镀钝化层5 ；最后与玻璃基板贴合封装。该种制造方法可以运用在被动式有机电致发光显示器(PMOLED)上，也可以运用 在主动式有机电致发光显示器(AM0LED)当中。本发明的制造方法制得的新型透明OLED显示屏，由于设置两层阴极——第一层阴 极、第二层阴极，因此，第一层阴极可以做的很薄，因此，透过率可提高到70%左右，远远高 于现有技术中50% 60%的透过率；此外，第二层阴极可以做的很厚，虽然变得不透明，由 于其处于发光区边缘的宽度仅占发光区很小的部分，因而不影响发光效果，能够提高透明 OLED显示屏的显示质量和可靠性，延长使用寿命。以上仅是本发明的优选实施方式，应当指出的是，上述优选实施方式不应视为对 本发明的限制，本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。对于本技术领域的 普通技术人员来说，在不脱离本发明的精神和范围内，还可以做出若干改进和润饰，这些改 进和润饰也应视为本发明的保护范围。
权利要求
1.一种新型透明OLED显示屏，包括基板玻璃、设置在基板玻璃上的阳极、有机层、阴 极、钝化层、绝缘层，其特征在于，所述阴极包括第一层阴极及第二层阴极，所述第一层阴极 至少覆盖整个发光区，所述第二层阴极与第一层阴极连接，并覆盖发光区的边缘和非发光 区。
2.根据权利要求1所述的新型透明OLED显示屏，其特征在于，所述第一层阴极的厚度 典型值为50A 500A。
3.根据权利要求1所述的新型透明OLED显示屏，其特征在于，所述第一层阴极还覆盖 非发光区，所述绝缘层下部设有若干空腔，所述空腔中设有阴极搭接块，处于非发光区的第 一层阴极在绝缘层范围内与所述阴极搭接块连接。
4.根据权利要求1所述的新型透明OLED显示屏，其特征在于，所述第二层阴极的厚度 典型值为300A 1500A。
5.根据权利要求1所述的新型透明OLED显示屏，其特征在于，处于发光区的第二层阴 极，其大小占一个像素大小的1/5 1/14。
6.根据权利要求1所述的新型透明OLED显示屏，其特征在于，所述绝缘层下部设有若 干空腔，所述空腔中设有阴极搭接块，处于所述非发光区的第二阴极层在绝缘层范围内与 所述阴极搭接块连接。
7.一种新型透明OLED显示屏的制作方法，其特征在于，包括如下步骤在准备好的基板玻璃上依次制备阳极、有机层、第一层阴极、第二层阴极、钝化层；其 中，制备的第一层阴极至少覆盖整个发光区，制备的第二层阴极要覆盖发光区的边缘及非 发光区。
8.如权利要求7所述的新型透明OLED显示屏的制作方法，其特征在于，所述第一层阴 极的厚度典型值为50A 500A，所述第二层阴极的厚度典型值为300A 1500A。
9.如权利要求7所述的新型透明OLED显示屏的制作方法，其特征在于，处于发光区的 第二层阴极，其大小制作为占一个像素大小的1/5 1/14。
全文摘要
本发明公开一种新型透明OLED显示屏，包括基板玻璃、设置在基板玻璃上的阳极、有机层、阴极、钝化层、绝缘层，所述阴极包括第一层阴极及第二层阴极，所述第一层阴极至少覆盖整个发光区，所述第二层阴极与第一层阴极连接，并覆盖发光区的边缘和非发光区。本发明由于阴极采用第一层阴极及第二层阴极的设置方式，第一层阴极可以设置很薄，第二层阴极可以设置的比较厚，第二层阴极仅覆盖发光区的一小部分，因此不会影响发光效果，由于第一层阴极可以做的很薄，因此可以大大提高阴极的透过率，由于第二层阴极可以做的比较厚，因而还可以提高透明OLED显示屏的显示质量和可靠性，延长使用寿命。
文档编号H01L51/56GK102064185SQ20101053451
公开日2011年5月18日 申请日期2010年11月5日 优先权日2010年11月5日
发明者何基强, 柯贤军, 苏君海, 蔡晓义, 赵云 申请人:信利半导体有限公司