专利名称：一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及二极管，尤其涉及一种OJ (Open Junction) 二极管酸处理后的去离子水震荡冲洗装置。
背景技术：
当前，OJ (Open Junction) 二极管的制造过程中，在酸处理后的冲洗工位，固定的冲水角度下，背向冲水方向的一侧形成冲洗死角，同时导线与治具之间的结合缝隙中的化剂得不到充分清洗，被带入后工序，成为二次污染源，残留的可移动离子附着在芯片部位产 生信赖性隐患。因此，在清洗过程中，需要消耗较多的酸洗液才能将二极管清洗干净，清洗时间长，效率低。
发明内容
本发明针对以上问题，提供了一种同步导入高频震荡，使得二极管产生震动和轴向转动，达到有效冲洗死角的二极管酸处理后的震荡冲洗装置。本发明的技术方案是所述二极管酸处理后设置在酸洗盘上，所述震荡冲洗装置包括底座、冲洗头、水槽和震荡装置，所述酸洗盘设在所述水槽上，所述冲洗头设在所述酸洗盘上方；
所述震荡装置设在所述水槽的一侧，所述震荡装置包括振子、支架和弹簧，所述振子设在所述支架上部中间位置；
所述支架具有支撑板和立板，相互间构成L形；所述支撑板水平地设在所述水槽的内侦U、且高于所述水槽顶缘高度；所述酸洗盘的外侧搁置在所述水槽的外侧顶缘、内侧搁置在所述支撑板朝向所述水槽的顶缘上，使得所述酸洗盘倾斜设在所述水槽和支撑板之间；所述弹簧活动设在所述支撑板的下部。还包括限位机构，所述限位机构包括导向螺栓组件和一对限位板；所述导向螺栓组件穿过所述弹簧、连接所述支撑板；所述限位板具有水平的顶板，所述一对限位板设在所述支撑板的两侧、其顶板的底面贴合所述支撑板的顶面。所述支撑板朝向所述水槽的顶缘设有凸边，所述凸边为梯形，使得所述酸洗盘倾斜设置在所述凸边上。所述震荡装置的立板铰接在底座上。还包括限位槽，所述立板的底部设在所述限位槽内，用于限制所述支架前后移动。在所述酸洗盘的两侧设有凹槽或凸筋。所述振子的震荡频率为5-15次/秒，振幅为O. 1-0. 5_。所述酸洗盘的倾斜角度为5 30°。本发明的震荡装置包括支架、振子和弹簧，振子在控制器控制下形成高频震源，与弹簧、支架在水槽上实现高频震荡，其中振子的震动频率和振幅是可调节的，以二极管在酸洗盘上可见的转动时为恰当、效果最佳；支架的高度通过导向螺栓组件调节，避免支架和水槽刚性接触带来振幅的衰降，限位板的设置限制了支撑板的Z向的振动高度；限位槽或铰接结构的设置，限制了支架X向的移动。本发明结构简单、制造成本低，振动、冲洗效果明显。
图I是本发明的结构示意图，
图2是图I的右视图，
图3是本发明的优化实施方式一，
图4是本发明的优化实施方式二， 图5是本发明的优化实施方式三，
图6是本发明中酸洗盘的工作状态图一，
图7是本发明中酸洗盘的工作状态图二；
图中I是冲洗头，2是酸洗盘，20是凹槽，21是凸筋，3是振子，4是二极管，5是导向螺栓组件，6是支架，60是支撑板，601是凸边，6011是上行斜坡，6012是下行斜坡，61是立板，7是限位板，70是顶板，81是限位槽，82是铰接结构，9是弹簧，10是水槽；
图中XYZ代表坐标系。
具体实施例方式本发明如图1-2所示，所述二极管4酸处理后设置在酸洗盘2上，所述震荡冲洗装置包括底座、冲洗头I、水槽10和震荡装置，所述酸洗盘2设在所述水槽10上，所述冲洗头I设在所述酸洗盘2上方；
所述震荡装置设在所述水槽10的一侧，所述震荡装置包括振子3、支架6和弹簧9，所述振子3设在所述支架6上部中间位置；
所述支架6具有支撑板60和立板61，相互间构成L形；所述支撑板60水平地设在所述水槽10的内侧、且高于所述水槽10顶缘高度；所述酸洗盘2的外侧搁置在所述水槽10的外侧顶缘、内侧搁置在所述支撑板60朝向所述水槽10的顶缘上，使得所述酸洗盘2倾斜设在所述水槽10和支撑板60之间；
所述弹簧9活动设在所述支撑板60的下部。还包括限位机构，所述限位机构包括导向螺栓组件5和一对限位板7 ;所述导向螺栓组件5穿过所述弹簧9、连接所述支撑板60 ;所述限位板7具有水平的顶板70，所述一对限位板7设在所述支撑板60的两侧、其顶板70的底面贴合所述支撑板60的顶面。限制支撑板60的Z向振动高度，同时能起到对支撑板60的Y向限位的作用。限位板7在工作过程中，同时防止了支架6由于酸洗盘2移动和冲洗的原因，而导致支架向一边倾斜的情况，提闻稳定性。所述支撑板60朝向所述水槽10的顶缘设有凸边601，所述凸边601为梯形(两侧斜边中，朝向进料方向的为上行斜坡6011，另一侧斜边为下行斜坡6012)。酸洗盘2在自动送进过程中，沿坡而上，倾斜地搁置在所述凸边601的顶边上，在清洗时，便于水流最大限度流出。如图3所示，所述震荡装置的立板61铰接在底座上。限制X向，防止支架6前后移动；立板61通过铰接结构82连接在底座上。还包括限位槽81，所述立板61的底部设在所述限位槽81内，用于限制所述支架6前后移动。限制X向，防止支架6前后移动。如图4-5所示，在所述酸洗盘2的两侧设有凹槽20或凸筋21。设置凹槽20或凸筋21有效的防止冲洗头I冲洗带来的溢流，避免相邻酸洗盘2之间的交叉污染。所述振子3的震荡频率为5-15次/秒，振幅为O. 1-0. 5_。所述酸洗盘2的倾斜角度为5 30°。如图6-7所示，本发明的酸洗盘2在移动过程中，由水平逐渐倾斜设在所述凸边601上，提高了清洗的效率。
权利要求
1.一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置，所述二极管酸处理后设置在酸洗盘上，其特征在于，所述震荡冲洗装置包括底座、冲洗头、水槽和震荡装置，所述酸洗盘设在所述水槽上，所述冲洗头设在所述酸洗盘上方； 所述震荡装置设在所述水槽的一侧，所述震荡装置包括振子、支架和弹簧，所述振子设在所述支架上部中间位置； 所述支架具有支撑板和立板，相互间构成L形；所述支撑板水平地设在所述水槽的内侦U、且高于所述水槽顶缘高度；所述酸洗盘的外侧搁置在所述水槽的外侧顶缘、内侧搁置在所述支撑板朝向所述水槽的顶缘上，使得所述酸洗盘倾斜设在所述水槽和支撑板之间； 所述弹簧活动设在所述支撑板的下部。
2.根据权利要求I所述的一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置，其特征在于，还包括限位机构，所述限位机构包括导向螺栓组件和一对限位板；所述导向螺栓组件穿过所述弹簧、连接所述支撑板；所述限位板具有水平的顶板，所述一对限位板设在所述支撑板的两侧、其顶板的底面贴合所述支撑板的顶面。
3.根据权利要求I所述的一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置，其特征在于，所述支撑板朝向所述水槽的顶缘设有凸边，所述凸边为梯形，使得所述酸洗盘倾斜设置在所述凸边上。
4.根据权利要求I所述的一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置，其特征在于，所述震荡装置的立板铰接在底座上。
5.根据权利要求I所述的一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置，其特征在于，还包括限位槽，所述立板的底部设在所述限位槽内，用于限制所述支架前后移动。
6.根据权利要求I所述的一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置，其特征在于，在所述酸洗盘的两侧设有凹槽或凸筋。
7.根据权利要求I所述的一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置，其特征在于，所述振子的震荡频率为5-15次/秒，振幅为O. 1-0. 5mm。
8.根据权利要求I所述的一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置，其特征在于，所述酸洗盘的倾斜角度为5 30°。
全文摘要
一种二极管酸处理后的震荡冲洗装置。涉及一种OJ(Open Junction)二极管酸处理后的去离子水震荡冲洗装置。提供了一种同步导入高频震荡，使得二极管产生震动和轴向转动，达到有效冲洗死角的二极管酸处理后的震荡冲洗装置。所述二极管酸处理后设置在酸洗盘上，所述震荡冲洗装置包括底座、冲洗头、水槽和震荡装置，所述酸洗盘设在所述水槽上，所述冲洗头设在所述酸洗盘上方；所述震荡装置设在所述水槽的一侧，所述震荡装置包括振子、支架和弹簧，所述振子设在所述支架上部中间位置。本发明结构简单、制造成本低，振动、冲洗效果明显。
文档编号H01L21/67GK102664157SQ20121018078
公开日2012年9月12日 申请日期2012年6月4日 优先权日2012年6月4日
发明者王毅, 王永彬 申请人:扬州扬杰电子科技股份有限公司