一种无催化剂辅助真空热蒸发制备SnS纳米片的方法

文档序号:7144774阅读:193来源:国知局
专利名称:一种无催化剂辅助真空热蒸发制备SnS纳米片的方法
技术领域
本发明属于纳米结构生长领域,是一种在无催化剂辅助下用真空热蒸发法生长SnS纳米片的方法。
背景技术
SnS是一种IV-VI族半导体,其直接带隙宽为I. 2 I. 5eV,间接带隙宽为I. O
I.leV,非常接近太阳能电池的最佳禁带宽度I. 5eV,光学吸收系数大于IO4CnT1,在理论上其能量转换效率可达25%。随着经济社会的发展,能源日益成为制约人类社会发展的瓶颈问题,开发新能源,保护地球环境迫在眉梢,因此,大力发展太阳能技术,提高太阳能电池的转换效率具有举足轻重的意义。SnS是一种无污染、无毒材料,在地球上Sn和S的含量都极为丰富,符合大量制备太阳能电池的要求。制备新颖的SnS纳米结构,提高光电转换效率具有 重要意义。目前,关于SnS纳米结构的制备方法有很多气-固反应法(gas-solidreaction)、电化学沉积法(electrochemical deposition)、溶盐溶剂法(molten saltsolvent method)、气相输运法(vapor transport method)、湿化学法(wet chemicalroute)、化学气相沉积法(chemical vapor deposition)等。气-固反应法(gas-solid reaction):如2006年,Subhendu K等人以锡箔为源,用水和乙醇清洗并在100°C下加热20分钟后,浸入溴化十六烷基三甲铵的水溶液,再暴露于H2S气氛中12小时后,在锡箔表面生成了灰黑色的SnS纳米线。参阅Crystal Growth &Design 第 6 卷 2177-2181 页。电化学沉积法(electrochemicaldeposition):如 2009 年,G. H. Yue 等人以饱和甘汞电极作为参考电极,带有铝衬底的氧化铝模板作为工作电极,钼片作为对电极,保持溶液的温度为10°c,沉积5分钟后,用纯水对样品进行清洗,然后在自然条件下晾干,得到单晶 SnS 纳米线阵列。参阅 Nanoscale Research Letters 第 4 卷 359-363 页。溶盐溶剂法(moltensalt solvent method):如 2012 年,Hulin Zhang 等人将 6g的LiNO3和KNO3混合物置入25ml的反应釜中,再加入0. Immol SnCl2 · 2H20,0. Immol硫脲和5ml的水合肼,密封在200°C保持24小时,再在自然环境下冷却到室温。最后,将样品置入去离子水、乙醇中清洗,60°C晾晒2小时,得到了 SnS纳米带。参阅Journal of Alloysand Compounds 第 513 卷 1-5 页。气相输运法(vapor transport method):如2009年,M. Devika等人在高真空的条件下蒸发高纯的SnS粉末,通过控制生长温度、高度、生长时间、沉积速率获得SnS纳米晶。得出最佳的生长条件是T 150°C, h = 14cm, t lh, RD = 0. 2nm/s。参阅AppliedPhysics Letters 第 95 卷 261907-261909 页。湿化学法(wetchemical route):如 2011 年,S. Sohila 等人以 SnCl2. 2H20 和 Na2S分别为锡源和硫源,以乙二醇为溶剂,其中SnCl2. 2H20和Na2S的化学计量比为I : 3。在不添加任何其它表面活性剂的条件下,在80°C时,将SnCl2. 2H20溶液逐滴加入到Na2S溶液中,然后将反应后得到的颗粒用离心机分离并先后用乙二醇、酒精清洗,再在室温下晾干,得到产物为SnS纳米片。参阅Materials Letters第65卷1148-1150页。化学气相沉积法(chemicalvapor deposition):如 2012 年,G. H. Yue 等人利用催化剂辅助的化学气相沉积法,以SnS、S为源,镀有金纳米颗粒的ITO玻璃为衬底,在800°C下保持15分钟,同时通入高纯的Ar和H2,合成了 SnS纳米线。参阅Applied Physics A第106 卷 87-91 页。 除了以上这些方法,近距离真空热蒸发法也是一种常用的制备纳米结构的方法,并且真空热蒸发法是一种相对比较传统的方法,工艺简单、操作方便、沉积速率高、利于大面积制备产品、成本低、无环境污染,在工业生产上有很大潜力。

发明内容
本发明的目的在于提供一种无催化剂辅助的真空热蒸发生长SnS纳米片的方法。本发明是通过以下工艺过程实现的将S粉(99. 99% )与金属Sn屑(99. 99% )按Imol Imol的配比进行称量后,将S粉和Sn屑先后放置于钥片制成的电阻加热舟中作为蒸发源(加热舟固定于真空蒸发炉内的铜电极上),在蒸发源上方O. 9厘米至I. I厘米处放置ITO玻璃作为衬底,当蒸发炉内真空度达到I. 8X 10_2Pa 2. OX 10_2Pa后,以3. 3A/min的速率增加电流,当蒸发电流达到130A左右,保持15分钟左右(全过程中钟罩通有循环冷却水),最终在衬底上得到的灰黑色沉积物,即为SnS样品。与现有技术相比,本发明的特点在于实验方法简单、易操作、无催化剂辅助,形貌可控性好,成本低,产量大,对环境无危害,因此适合工业大规模生产。


图I、图5、图9分别为实施例1、2、3产品的XRD图谱,图中O表示产物SnS的衍射峰,·表示S的衍射峰。图2 4为实施例I样品不同放大倍数的扫描电子显微镜图片。图6 8为实施例2样品不同放大倍数的扫描电子显微镜图片。图10 11为实施例3样品不同放大倍数的扫描电子显微镜图片。
具体实施例方式实施例I采用高纯Sn屑("·"%)和高纯S粉("·"%)为原料,两者按Imol Imol配比称量后,将Sn屑放置于钥片制作的电阻加热舟中,再在其上放置S粉作为蒸发源,以ITO玻璃作为衬底置于蒸发源上方约I. Ocm处,密闭蒸发腔体,当真空度达到I. 8X 10_2Pa后,以
3.3A/min的速率增加电流,使电流逐渐增加至130A,保持15分钟(全过程中钟罩通有循环冷却水),在衬底表面有灰黑色沉积物。如图I所示,为所得产物I的XRD图。结果显示所得产物为正交晶系的SnS,其衍射峰与H)F#79-2193卡片相符;从谱图还可以看出产物沿(112)方向择优生长。此外,还有S的衍射峰,来自于未反应的S粉。
如图2、图3、图4所示,所得产物I为纳米片,纳米片厚约80纳米。实施例2采用高纯Sn屑(99. 99% )和高纯S粉(99. 99% )为原料,两者按Imol Imol配比称量后,将S粉末放置于钥片制作的电阻加热舟中,再在其上放置Sn屑作为蒸发源,以ITO玻璃作为衬底置于蒸发源上方约O. 9cm处,密闭蒸发腔体,当真空度达到2. OX 10_2Pa后,以3. 3A/min的速率增加电流,使电流逐渐增加至130A,保持15分钟(全过程中钟罩通有循环冷却水),在衬底表面有灰黑色沉积物。如图5所示,为所得产物2的XRD图。结果显示所得产物为正交晶系的SnS,其衍射峰与H)F#33-1375卡片相符;从谱图还可以看出产物沿(002)方向择优生长。此外,还有S的衍射峰,来自于未反应的S粉。 如图6、图7、图8所示,所得产物2为纳米片,纳米片厚约几十纳米。实施例3采用高纯Sn屑(99. 99% )和高纯S粉(99. 99% )为原料,两者按Imol Imol配比称量后,将S粉末放置于钥片制作的电阻加热舟中,再在其上放置Sn屑作为蒸发源,以ITO玻璃作为衬底置于蒸发源上方约I. Icm处,密闭蒸发腔体,当真空度达到2.0X10_2Pa,以3. 3A/min的速率增加电流,使电流逐渐增加至130A,保持15分钟(全过程中钟罩通有循环冷却水),在衬底表面有灰黑色沉积物。如图9所示,为所得产物3的XRD图。结果显示所得产物为正交晶系的SnS,其衍射峰与H)F#33-1375卡片相符;从谱图还可以看出产物沿(101)方向择优生长。此外,还有S的衍射峰,来自于未反应的S粉。如图10、图11所示,所得产物3为纳米片,并相互交错连接呈“花”状结构,纳米片厚约几十纳米。
权利要求
1.本发明公开了一种无催化剂辅助真空热蒸发制备SnS纳米片的方法,其特征在于通过以下工艺过程实现按照I : I的摩尔比将S粉与金属Sn屑,先后置于以钥片做的电阻加热舟中作为蒸发源,加热舟置于真空蒸发炉内,ITO衬底置于蒸发源上方O. 9厘米至I. I厘米处,当蒸发炉内真空度达到I. 8X 10_2Pa 2. OX 10_2Pa,加热电流为130A时,保持15分钟,在衬底上形成的灰黑色沉积物,即为SnS纳米片。
2.如权利要求I所述的方法,其特征在于,在制备SnS纳米片的过程中无任何催化剂辅助。
3.如权利要求I所述的方法,其特征在于,所制得的产品SnS纳米片形貌均一,产量大。
全文摘要
本发明公开了一种无催化剂辅助真空热蒸发制备SnS纳米片的方法,是通过以下工艺过程实现的将S粉和金属Sn屑按1mol∶1mol的比例配制,先后置于钼片制成的电阻加热舟中作为蒸发源,并在舟上方0.9厘米-1.1厘米处放置ITO玻璃衬底,密闭蒸发炉,当真空蒸发炉内真空度达到1.8×10-2Pa~2.0×10-2Pa,加热电流达到130A,保持15分钟,即可得到SnS纳米片。本发明的特点是所得的SnS纳米片形貌均一、产量大、无催化剂、制备方法简单、易于推广且适合大规模的工业生产。
文档编号H01L31/18GK102912300SQ201210439190
公开日2013年2月6日 申请日期2012年11月7日 优先权日2012年11月7日
发明者李锦 , 王胜丰, 简基康, 孙言飞, 吴 荣, 马燕 申请人:新疆大学
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