柔性基板处理装置制造方法

文档序号:7028998阅读:164来源:国知局
柔性基板处理装置制造方法
【专利摘要】本实用新型提供一种柔性基板处理装置,包括用于盛放处理液的处理槽、位于处理液液面下方的定位辊轮、位于处理液液面上方的主动辊轮和被动辊轮,该装置还包括:用于检测卷绕在主动辊轮、定位辊轮以及被动辊轮上的柔性基板的实时线速度,并根据实时线速度计算出定位辊轮实时位置数据的检测计算装置,检测计算装置与主动辊轮或被动辊轮连接;用于根据所述实时位置数据实时调整所述定位辊轮位置的位移调整装置,位移调整装置分别与检测计算装置以及定位辊轮连接。通过适时调整定位辊轮的位置,实现了柔性基板处理过程中在处理液中的处理时间保持恒定的同时,无需额外增加或排除处理液,提高了柔性基板的质量。
【专利说明】柔性基板处理装置
[0001]【技术领域】
[0002]本实用新型涉及半导体制造技术,特别是涉及一种柔性基板处理装置。
[0003]【背景技术】
[0004]随着柔性显示产品的不断开发,卷对卷工艺凭借其低成本、高效率生产的特性,将逐步替代目前制造非柔性显示产品所使用的逐张生产模式,成为未来显示产品生产的主流。现有的卷对卷工艺中,由于缠绕柔性基板的辊轮的直径随着柔性基板缠绕层数的变化而变化,这就使得固定角速度转动的辊轮上柔性基板的移动线速度在不停变化。从而导致柔性基板的浸泡时间会随着辊轮的直径变化而变化,进而导致柔性基板上的器件尺寸不均匀,影响柔性显示产品的品质。
[0005]常见的解决方案为:通过控制处理液的液面位置来达到基板在处理液中浸泡时间恒定的效果,具体是通过排液和补液装置来实现。但是上述技术方案有如下不足:需要进行频繁的排液补液动作,会引起比较大的处理液扰动,这种扰动有很大机会将引起屏体显示时的不均匀现象,降低柔性显示产品的品质,同时会造成处理液的浪费。
[0006]实用新型内容
[0007]针对传统技术中存在的上述问题,提供一种使柔性基板在处理液中的处理时间保持恒定的柔性基板处理装置。
[0008]一种柔性基板处理装置包括:用于盛放处理液的处理槽、位于处理液液面下方的定位辊轮、位于处理液液面上方的主动辊轮和被动辊轮,柔性基板处理装置还包括:用于检测卷绕在主动辊轮、定位辊轮以及被动辊轮上的柔性基板的实时线速度,并根据实时线速度计算出定位辊轮实时位置数据的检测计算装置,检测计算装置与主动辊轮或被动辊轮连接;根据实时位置数据实时调整定位辊轮位置的位移调整装置,位移调整装置分别与检测计算装置以及定位辊轮连接。
[0009]优选地,检测计算装置为距离传感器和计算终端,距离传感器与主动辊轮或被动辊轮相连接,距离传感器与计算终端通信连接。
[0010]优选地,检测计算装置包括激光厚度检测仪和计算终端,激光厚度检测仪与主动辊轮或被动辊轮相连接,激光厚度检测仪与计算终端通信连接。
[0011]优选地,计算终端为电脑或服务器。
[0012]优选地,位移调整装置为步进电机及控制带,步进电机通过控制带与定位辊轮相连。
[0013]优选地,控制带为丝杠。
[0014]本实用新型具有以下有益效果:检测计算装置与主动辊轮或被动辊轮相连接,通过检测主动辊轮或被动辊轮的半径或直径变化情况计算柔性基板的实时线速度。根据柔性基板实时线速度的变化量,计算定位辊轮的实时位置数据,检测计算装置发送该实施位置数据至位移调整装置,以供位移调整装置实时调整定位辊轮在处理液中的位置。从而实现了柔性基板在处理液中的处理时间保持恒定,且无需额外增加或排除处理液,减少了处理液的浪费,又不会引起处理液较大的搅动,减少了屏体显示时的不均匀现象,提高了柔性基板的质量。
[0015]【专利附图】

【附图说明】
[0016]图1为本实用新型柔性基板处理装置的结构示意图。
[0017]【具体实施方式】
[0018]图1为本实用新型柔性基板处理装置的结构示意图,如图1所示,柔性基板处理装置包括用于盛放处理液12的处理槽11、定位辊轮14、主动辊轮132、被动辊轮131、检测计算装置16及位移调整装置17。
[0019]定位辊轮14位于处理液12的液面下方。主动辊轮132和被动辊轮131位于处理液12的液面上方,主动辊轮132、定位辊轮14以及被动辊轮131之间卷绕有柔性基板18。检测计算装置16对柔性基板18的实时线速度进行检测,并根据柔性基板18的实时线速度计算定位辊轮14的实时位置数据,检测计算装置16与主动辊轮132或被动辊轮131连接。位移调整装置17获取检测计算装置16发送的定位辊轮14的实时位置数据,根据该实时位置数据实时调整定位辊轮14的位置,位移调整装置17与检测计算装置16以及定位辊轮14相连接。
[0020]具体地,柔性基板18设于主动辊轮132、定位辊轮14以及被动辊轮131上。当柔性基板处理装置运行时,主动辊轮132带动柔性基板18运动,柔性基板18通过定位辊轮14的定位,其中一部分浸泡在处理液12中。主动辊轮132不断转动过程中,柔性基板18不断通过处理液12,从而使得柔性基板18的每一部分均能够被处理液12所处理,其中处理液12为刻蚀液、清洗液、或剥离液。
[0021]柔性基板18不断卷绕在主动辊轮132上后,主动辊轮132的半径不断增大并满足如下公式V = w*r(其中,V为柔性基板18的线速度,w为主动棍轮132的角速度,r为主动辊轮132的半径)。由以上公式可知:当主动辊轮132匀速转动时,角速度w是恒定值,因此线速度V与半径r成正比,使得当主动辊轮132的半径增大时,其上卷绕的柔性基板18的传送速度将增加,因此会导致产生柔性基板18在处理液12中被浸泡的时间减少的趋势。
[0022]图1所示中检测计算装置16连接于主动辊轮132上,通过检测主动辊轮132的半径变化量计算出定位辊轮14的实时位置数据。同样的,检测计算装置16也可以连接于被动辊轮131上,通过检测被动辊轮131的半径变化量计算出定位辊轮14的实时位置数据。在主动辊轮132或被动辊轮131上连接检测计算装置16后,检测计算装置16检测获得主动辊轮132或被动辊轮131的实时半径。根据实时半径的变化量,计算出柔性基板18的实时线速度,然后根据实时线速度计算定位辊轮14的实时位置数据,其中实时位置数据是指定位辊轮14在垂直方向上需要进行上下移动的垂直位移的待移动距离。
[0023]实时位置数据的具体计算过程如下:工艺开始时,定位辊轮14位于处理液中的初始位置(位于处理液中相对底部的位置),工艺进行过程中,检测计算装置16的计数器会记录主动辊轮的旋转圈数n,其初始值为零,主动辊轮132每旋转一周,计数器旋转圈数η就增加I。根据公式v=w*r=w*( r0+n*t)(其中,v为主动棍轮132的线速度,w为主动棍轮132的角速度,r0为主动辊轮132自有半径,η为主动辊轮132的旋转圈数,t为柔性基板18的厚度)可知,主动辊轮132的线速度是主动辊轮132旋转圈数η的函数。
[0024]设定位辊轮14中心距处理液12的液面的距离为y,设柔性基板18在处理液12中的长度为S,S是y的函数,即S=f (y),则柔性基板在处理液中的浸泡时间t等于S/v,即f(y) H,因此通过调整I能够实现浸泡时间t的恒定。
[0025]因此,检测计算装置16通过检测到主动辊轮或被动辊轮13的半径变化后,可计算出定位辊轮在垂直方向上需要进行调整的移动距离值,即实时位置数据。检测计算装置16将该实时位置数据发送至与定位辊轮14相连接的位移调整装置17,位移调整装置17根据该实时位置数据实时调整定位辊轮14的位置。
[0026]优选地,检测计算装置16为距离传感器和计算终端,距离传感器与主动辊轮132或被动辊轮131相连接,距离传感器与计算终端通信连接。
[0027]优选地,检测计算装置16包括激光厚度检测仪和计算终端,激光厚度检测仪与主动辊轮132或被动辊轮131相连接,激光厚度检测仪与计算终端通信连接。
[0028]优选地,计算终端为电脑或服务器。
[0029]优选地,位移调整装置17为步进电机及控制带,步进电机通过控制带与定位辊轮相连。
[0030]优选地,控制带为丝杠。
[0031]在本实施例的技术方案中,检测计算装置与主动辊轮或被动辊轮相连接,通过检测主动辊轮或被动辊轮的半径或直径变化情况计算柔性基板的实时线速度。根据柔性基板实时线速度的变化量,计算定位辊轮的实时位置数据,检测计算装置发送该实施位置数据至位移调整装置,以供位移调整装置实时调整定位辊轮在处理液中的位置。从而实现了柔性基板在处理液中的处理时间保持恒定,且无需额外增加或排除处理液,减少了处理液的浪费,又不会引起处理液较大的搅动,减少了屏体显示时的不均匀现象,提高了柔性基板的质量。
[0032]应说明的是:以上实施例仅用以说明本实用新型而非限制,本实用新型也并不仅限于上述举例,一切不脱离本实用新型的精神和范围的技术方案及其改进,其均应涵盖在本实用新型的权利要求范围中。
【权利要求】
1.一种柔性基板处理装置,包括用于盛放处理液的处理槽、位于所述处理液液面下方的定位辊轮、位于所述处理液液面上方的主动辊轮和被动辊轮,其特征在于,所述柔性基板处理装置还包括: 用于检测卷绕在所述主动辊轮、所述定位辊轮以及所述被动辊轮上的柔性基板的实时线速度,并根据所述实时线速度计算出所述定位辊轮实时位置数据的检测计算装置,所述检测计算装置与所述主动辊轮或被动辊轮连接; 用于根据所述实时位置数据实时调整所述定位辊轮的位置的位移调整装置,所述位移调整装置分别与所述检测计算装置以及所述定位辊轮连接。
2.根据权利要求1所述的柔性基板处理装置,其特征在于,所述检测计算装置为距离传感器和计算终端,所述距离传感器与所述主动辊轮或所述被动辊轮相连接,所述距离传感器与所述计算终端通信连接。
3.根据权利要求1所述的柔性基板处理装置,其特征在于,所述检测计算装置包括激光厚度检测仪和计算终端,所述激光厚度检测仪与所述主动辊轮或所述被动辊轮相连接,所述激光厚度检测仪与所述计算终端通信连接。
4.根据权利要求2或3所述的柔性基板处理装置,其特征在于,所述计算终端为电脑或服务器。
5.根据权利要求1所述的柔性基板处理装置,其特征在于,所述位移调整装置为步进电机及控制带,所述步进电机通过所述控制带与所述定位辊轮相连。
6.根据权利要求5所述的柔性基板处理装置,其特征在于,所述控制带为丝杠。
【文档编号】H01L21/67GK203588979SQ201320698616
【公开日】2014年5月7日 申请日期:2013年11月7日 优先权日:2013年11月7日
【发明者】蔡世星, 习王锋 申请人:昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司, 昆山国显光电有限公司
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