一种熔料密封装置制造方法

文档序号:7076337阅读:159来源:国知局
一种熔料密封装置制造方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种熔料密封装置,包括工作平台及激光辐射构件,所述工作平台用以放置第一母基板以及位于第一母基板上方的第二母基板,第一、第二母基板之间设有熔料区域,所述熔料区域设有用以将第一、第二母基板粘合封闭在一起的熔料,所述激光辐射构件用以激光辐射所述第一、第二母基板之间熔料,所述第一母基板包括多个第一基板,所述第二母基板包括多个第二基板,所述熔料密封装置还包括位于工作平台和激光辐射构件之间的掩膜,所述掩膜位于第二母基板上方,所述掩膜与所述工作平台相互磁性吸引用以压紧所述第一、第二母基板之间的熔料。如此设置可改善第一、第二母基板之间的粘接,解决密封过程中产生的微裂纹,并起到保护玻璃基板的作用。
【专利说明】
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及一种熔料密封装置,尤其涉及一种用以制造有机发光显示装置的 熔料密封装置。 一种熔料密封装置

【背景技术】
[0002] 有机发光显示器(OLED,Organic Light Emitting Display)是一种利用有机半导 体材料制成的、用直流电压驱动的薄膜发光器件,0LED显示技术与传统的LCD显示方式不 同,无需背光灯,采用非常薄的有机材料涂层和玻璃基板,当有电流通过时,这些有机材料 就会发光。而且0LED显示屏幕可以做得更轻更薄,可视角度更大,并且能够显著节省电能。 被认为是最可能的下一代新型平面显示器。有机发光显示装置通常包括至少包含有机层的 结构,该有机层包括介于第一电极与第二电极之间的发射层。第一电极形成在基板上并用 作阳极注射孔,有机层形成在第一电极的顶表面上。用作阴极注射电子的第二电极形成在 有机层上而面向第一电极。
[0003] 由于有机发光显示器中的有机发光材料对水氧环境特别敏感,一旦水氧侵入,会 造成有机材料的寿命降低甚至失效。因而,当前在AM0LED中的封装工艺中主要采用熔料封 装,即采用激光对熔料进行熔融,从而达到密封器件的效果。
[0004] 但是,仅用激光辐射进行密封操作,由于局部加热区域温度的急剧变化或封装玻 璃上熔料烧结后表面的粗糙不平,会使熔料密封过程中产生微裂纹。微裂纹会使水氧侵入 从而影响寿命;严重的话,微裂纹会导致封装脱离。
[0005] 因而,有必要设计一种改进的熔料密封装置以解决上述技术问题。


【发明内容】

[0006] 本实用新型的目的在于提供一种能够产生均匀磁力解决密封过程中会产生的微 裂纹的熔料密封装置。
[0007] 本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的:一种熔料密封装置,包括工作平 台及激光辐射构件,所述工作平台用以放置第一母基板以及位于第一母基板上方的第二母 基板,第一、第二母基板之间设有熔料区域,所述熔料区域设有用以将第一、第二母基板粘 合封闭在一起的熔料,所述激光辐射构件用以激光辐射所述第一、第二母基板之间熔料,所 述第一母基板包括多个第一基板,所述第二母基板包括多个第二基板,所述熔料密封装置 还包括位于工作平台和激光辐射构件之间的掩膜,所述掩膜位于第二母基板上方,所述掩 膜与所述工作平台相互磁性吸引用以压紧所述第一、第二母基板之间的熔料。
[0008] 在优选的实施方式中,所述掩膜为磁性掩膜,所述工作平台为铁质工作平台。
[0009] 在优选的实施方式中,所述磁性掩膜设有与所述熔料区域对应的第一非磁性区域 带以及与所述熔料区域周界对应的磁性区域。
[0010] 在优选的实施方式中,所述熔料区域和第一非磁性区域带均为中空回字形,第一 非磁性区域带的带宽大于熔料区域的带宽。 toon] 在优选的实施方式中,所述相邻两个第二基板之间设有临接部,所述磁性掩膜设 有与所述临接部对应的第二非磁性区域带。
[0012] 在优选的实施方式中,所述工作平台为磁性工作平台,所述掩膜为铁质掩膜。
[0013] 在优选的实施方式中,所述磁性工作平台内安装有磁铁,所述磁铁包括与所述熔 料区域周界对应的第一磁铁和第二磁铁,所述第二磁铁位于第一磁铁外围,第一、第二磁铁 之间有封闭状间距。
[0014] 在优选的实施方式中,所述封闭状间距与熔料区域均为中空回字形,所述封闭状 间距的带宽大于熔料区域的带宽。
[0015] 在优选的实施方式中,所述掩膜为磁性掩膜,所述工作平台为磁性工作平台。
[0016] 在优选的实施方式中,磁性掩膜和磁性工作平台均设有磁铁,所述磁性掩膜与磁 性工作平台异性相吸。
[0017] 相较于现有技术,本实用新型通过设置相互磁性吸引的掩膜和工作平台而产生均 匀磁力压紧第一、第二母基板之间的熔料从而改善第一、第二母基板之间的粘接,如此设 置,不仅解决密封过程中会产生的微裂纹,还起到保护玻璃基板的作用。

【专利附图】

【附图说明】
[0018] 图1是本实用新型熔料密封装置的侧视图。
[0019] 图2是本实用新型熔料密封装置磁性掩膜的平面示意图。
[0020] 图3是本实用新型熔料密封装置磁性工作平台的俯视示意图。

【具体实施方式】
[0021] 以下将结合附图所示的具体实施例对本实用新型进行详细描述。值得说明的是, 下文所记载的实施例并不限制本实用新型,本领域的普通技术人员根据这些实施例所做出 的结构、方法、或功能上的变换均包含在本实用新型的保护范围内。
[0022] 请参图1所示,为本实用新型的熔料密封装置100,所述熔料密封装置100包括工 作平台1、激光辐射构件2以及位于工作平台1、激光辐射构件2之间的掩膜3。所述工作平 台1上用以放置第一母基板和位于第一母基板上方的第二母基板,第一、第二母基板之间 设有用以将第一、第二母基板粘合封闭在一起的熔料6。所述第一母基板可以包括多个第一 基板4,所述第二母基板可以包括多个第二基板5,所述第二基板5与第一基板4可包括各 种材料,例如玻璃,塑性材料等。具体的,第一基板4和第二基板5被置于工作平台1上,熔 料6被涂覆或设置在第一基板4与第二基板5之间。所述熔料6为粉末态的玻璃、通过将 有机材料添加到粉末态的玻璃中而获得的凝胶态的玻璃或通过用激光L辐射包含粉末玻 璃的熔料6而获得的固态的硬化玻璃等。所述掩膜3位于第二母基板上方,所述激光辐射 构件2用以激光L辐射所述第一、第二母基板之间熔料6,从而将熔料6熔化粘接到第一和 第二基板5,所述激光辐射构件2可以为多个激光头同时作业提高工作效率,所述掩膜3与 工作平台1相互磁性吸引而压紧所述第一、第二母基板之间的熔料6从而改善所述第一、第 二母基板之间的粘接。
[0023] 本实用新型可以通过以下实施方式来完成本实施新型的目的:熔料密封装置100 采用具有磁力的磁性掩膜3配合铁质工作平台1而产生均匀磁力压紧第一、第二母基板之 间的熔料6从而改善第一、第二母基板之间的粘接,所述磁性掩膜3可以整体具有磁性或部 分具有磁性;或者,熔料密封装置100设置磁性工作平台1配合铁质掩膜3而产生均匀磁 力压紧第一、第二母基板之间的熔料6从而改善第一、第二母基板之间的粘接,其中磁性工 作平台1可以整体具有磁性或部分具有磁性,例如,所述工作平台1可以整体为磁铁或在非 磁性的工作平台1内安装磁铁;再或者,熔料密封装置100采用上述具有磁力的磁性掩膜3 配合上述磁性工作平台1而产生均匀磁力压紧第一、第二母基板之间的熔料6从而改善第 一、第二母基板之间的粘接。在其他实施方式中,所述铁质工作平台1或铁质掩膜3可以由 铁、镍、钴等可以吸引磁铁的金属、所述含有其中一种或几种金属的合金或其他可以吸引磁 铁的材料替代,当然所述铁质制作工作平台1或掩膜3成本较低,利于降低成本。磁性掩膜 3和磁性工作平台1可以设有磁铁或其他具有磁性的材料,所述磁铁包括天然磁铁、人造磁 铁或电磁铁等。
[0024] 本实用新型第一种实施方式为所述掩膜3为磁性掩膜3,所述工作平台1为铁质工 作平台1。如此设置,所述磁性掩膜3可以与铁质的工作平台1实现较好的磁性吸引从而产 生均匀磁力压紧第一、第二母基板之间的熔料6,且熔料密封装置100制造成本较低。优选 的,请参图2所示,第一、第二母基板之间设有封闭状的熔料区域60,所述熔料区域60内设 有所述熔料6。所述磁性掩膜3具有位于熔料区域60的封闭状第一非磁性区域带31以及 位于熔料区域60周界的磁性区域30。如此设置,所述磁性掩膜3的第一非磁性区域带31 可以覆盖熔料区域60,可以防止熔料区域60受到较大的压力而使熔料6被过分挤压而分 散,从而影响密封效果。在本实施方式中,所述第一非磁性区域带31和熔料区域60均为大 致呈中空的回字形封闭状,如此设置,可以更贴合所述呈矩形的第一、第二基板4、5的外围 而实现更好的封闭效果。所述第一非磁性区域带31的带宽大于熔料区域60的带宽,在本 实用新型中所述带宽指中空回字形封闭状区域的粗细,如此设置,所述熔料6可完全被覆 盖于第一非磁性区域带31的下方,且熔料6两侧于第一非磁性区域带31的下方还具有一 定空间,所述两侧空间受到周边的磁性压力向下可以使熔料6更容易聚拢集中,从而提高 S封效果。
[0025] 在本实施方式中,所述相邻两个第二基板5之间设有临接部,所述磁性掩膜3设有 位于所述临接部上方的第二非磁性区域带32。如此设置,由于第一、第二母基板一般在横列 及坚列均设置多个第一、第二基板4、5,如此所述第二非磁性区域带32可在第一、第二母基 板上形成交错的框络状,可较大程度地减少制作磁性掩膜3的磁性材料,从而降低成本。当 然,在其他本实施方式中,所述磁性掩膜3可以在第二母基板上方除熔料区域60外均设为 磁性区域30而不设置第二非磁性区域带32,如此可以在所述多个第二基板5上方产生更加 均匀的磁力,防止第二基板5边缘上方受力不均而造成损坏。
[0026] 请参图3所示,为本实用新型第二实施方式的磁性工作平台1的俯视示意图,所述 工作平台1为磁性工作平台1,所述磁性工作平台1位于第一基板4下方用以与第一基板4 上方的铁质掩膜3相互磁性吸引。具体的,所述工作平台1内设置有磁铁。如此设置,工作 平台1内与掩膜3之间能够产生均匀的磁力压紧第一、第二母基板之间的熔料6从而改善 第一、第二母基板之间的粘接。优选的,所述磁铁包括与所述熔料区域60周界对应的第一 磁铁11和第二磁铁12,所述第二磁铁12位于第一磁铁11外围。S卩,所述磁铁包括位于第 一基板4中部下方的第一磁铁11以及位于第一基板4中部外围下方的第二磁铁12,所述 第一磁铁11大致为矩形,所述第二磁铁12为中空的回字形封闭状并围绕于第一磁铁11外 围,第一、第二磁铁11、12之间设有间距13,所述间距13为较小的回字形封闭状,即所述第 一磁铁11、第二磁铁12和间距13呈扩散状的环状矩形,所述间距13在上下方向上与所述 熔料区域60的所在位置相对应。如此设置,可以防止熔料区域60受到较大的压力而使熔 料6被过分挤压而分散,从而影响密封效果。在其他实施方式中,所述第一磁铁11、第二磁 铁12和间距13还可以是扩散状的圆形或其他形状。所述回字形封闭状间距13的带宽大 于熔料区域60的带宽。如此设置,当铁质掩膜3与具有磁铁的工作平台1相互磁性吸引时 可以使熔料6在封闭状间距13所在位置实现更好的聚拢而集中,从而提高密封效果。第一 基板4下方仅设置所述第一磁铁11、第二磁铁12可以节省磁性材料的用量,节省成本。
[0027] 在本实用新型第三实施方式中,所述掩膜3为磁性掩膜3,所述工作平台1为磁性 工作平台1,所述磁性掩膜3与磁性工作平台1在上下方向上设置为磁性异性相吸。如此设 置,所述磁性掩膜3与所述工作平台1内的磁铁可以实现更好的磁性吸引。具体的,磁性掩 膜3和磁性工作平台1的磁性材料均为磁铁,所述磁性工作平台1的S极朝上而磁性掩膜 3的N极朝下,或者磁性工作平台1的N极朝上而磁性掩膜3的S极朝下,如此可实现磁铁 掩膜3与安装有磁铁的工作平台1可以实现更好的磁性吸引。
[0028] 综上所述,被涂覆以熔料6并被焙烧的第二基板5与第一基板4组装之后,第二基 板5被激光L辐射,从而使熔料6硬化,同时,第二基板5的在激光L辐射周界的部分通过 磁性吸引加压。如此设置,使用该熔料密封装置100制造有机发光显示装置可以使熔料6 的粘接被改善,从而避免密封过程中会产生的微裂纹的情况,并起到保护玻璃基板的作用。
[0029] 应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一 个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说 明书作为一个整体,各实施方式中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可 以理解的其他实施方式。
[0030] 上文所列出的一系列的详细说明仅仅是针对本实用新型的可行性实施方式的具 体说明,它们并非用以限制本实用新型的保护范围,凡未脱离本实用新型技艺精神所作的 等效实施方式或变更均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【权利要求】
1. 一种熔料密封装置,包括工作平台及激光辐射构件,所述工作平台用以放置第一母 基板以及位于第一母基板上方的第二母基板,第一、第二母基板之间设有熔料区域,所述熔 料区域设有用以将第一、第二母基板粘合封闭在一起的熔料,所述激光辐射构件用以激光 辐射所述第一、第二母基板之间熔料,所述第一母基板包括多个第一基板,所述第二母基板 包括多个第二基板,其特征在于:所述熔料密封装置还包括位于工作平台和激光辐射构件 之间的掩膜,所述掩膜位于第二母基板上方,所述掩膜与所述工作平台相互磁性吸引用以 压紧所述第一、第二母基板之间的熔料。
2. 根据权利要求1所述的熔料密封装置,其特征在于:所述掩膜为磁性掩膜,所述工作 平台为铁质工作平台。
3. 根据权利要求2所述的熔料密封装置,其特征在于:所述磁性掩膜设有与所述熔料 区域对应的第一非磁性区域带以及与所述熔料区域周界对应的磁性区域。
4. 根据权利要求3所述的熔料密封装置,其特征在于:所述熔料区域和第一非磁性区 域带均为中空回字形,第一非磁性区域带的带宽大于熔料区域的带宽。
5. 根据权利要求2所述的熔料密封装置,其特征在于:所述相邻两个第二基板之间设 有临接部,所述磁性掩膜设有与所述临接部对应的第二非磁性区域带。
6. 根据权利要求1所述的熔料密封装置,其特征在于:所述工作平台为磁性工作平台, 所述掩膜为铁质掩膜。
7. 根据权利要求6所述的熔料密封装置,其特征在于:所述磁性工作平台内安装有磁 铁,所述磁铁包括与所述熔料区域周界对应的第一磁铁和第二磁铁,所述第二磁铁位于第 一磁铁外围,第一、第二磁铁之间有封闭状间距。
8. 根据权利要求7所述的熔料密封装置,其特征在于:所述封闭状间距与熔料区域均 为中空回字形,所述封闭状间距的带宽大于熔料区域的带宽。
9. 根据权利要求1所述的熔料密封装置,其特征在于:所述掩膜为磁性掩膜,所述工作 平台为磁性工作平台。
10. 根据权利要求9所述的熔料密封装置,其特征在于:磁性掩膜和磁性工作平台均设 有磁铁,所述磁性掩膜与磁性工作平台异性相吸。
【文档编号】H01L51/56GK203910867SQ201420237276
【公开日】2014年10月29日 申请日期:2014年5月9日 优先权日:2014年5月9日
【发明者】吴伟力, 汪峰, 张玄 申请人:昆山国显光电有限公司
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