技术特征：
技术总结
提供了一种用于对衬底的表面执行原子层蚀刻的方法，其包括：通过将所述衬底的所述表面暴露于表面转化反应物来执行表面转化操作；通过将所述衬底的所述表面暴露于含有配体的反应物来执行配体交换操作；执行解吸操作，从而从所述衬底的所述表面除去表面物质；执行清扫操作；重复所述表面转化操作、所述配体交换操作、所述解吸操作和所述清扫操作，进行预定数量的循环。
技术研发人员：戴维·史密斯;索斯藤·利尔;安德烈亚斯·费希尔
受保护的技术使用者：朗姆研究公司
技术研发日：2017.12.22
技术公布日：2019.10.11